本発明は、
ａ）ａ１）一般式（Ｉ）〔式中、Ｙ⁽¹⁾は、３−グリシジルオキシプロピル基であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は、１〜６個の炭素原子を有する同一かまたは異なるアルキル基である〕で示されるシランとａ２）一般式（II）〔式中、Ｙ⁽²⁾は、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピル基またはＮＨ₂（ＣＨ₂）₂ＮＨ（ＣＨ₂）₂ＮＨ（ＣＨ）₃−基であり、Ｒ'₁、Ｒ'₂、Ｒ'₃は、１〜６個の炭素原子を有する同一かまたは異なるアルキル基である〕で示されるシランとの少なくとも１つの反応生成物、ｂ）少なくとも１つの無機充填剤、ｃ）８５℃以下の温度の沸点を有する溶剤、ｄ）水およびｅ）無機酸または有機酸から選択された触媒を含有する組成物、本発明による組成物を施こすことによってポリマー表面上に表面被覆を形成させる方法ならびに本発明による表面被覆を有する少なくとも１つのポリマー表面を有する製品およびその使用に関する。
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【課題】 低誘電率、高機械的強度を有し、疎水性の改良された多孔質膜及びその作製方法、この多孔質膜の前駆体組成物及びその調製方法、並びにこの多孔質膜を利用した半導体装置の提供。
【解決手段】 式：Ｓｉ(ＯＲ^１)_４及びＲ_ａ(Ｓｉ)(ＯＲ^２)_４−ａ(式中、Ｒ^１は１価の有機基を表し、Ｒは水素原子、フッ素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数であり、Ｒ、Ｒ^１及びＲ^２は同一であっても異なっていてもよい)で示される化合物から選ばれた化合物と、熱分解性有機化合物と、触媒作用をなす元素と、尿素等とを含む。この前駆体組成物から得られた多孔質膜に対して紫外線照射した後、疎水性化合物を気相反応させる。得られた多孔質膜を用いて半導体装置を得る。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができる絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびに前記絶縁膜形成用組成物を用いたシリカ系絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）成分；下記一般式（１）で表される化合物および下記一般式（２）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）成分；下記一般式（３）で表される構造を有するカルボシランとを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ ・・・・・（１） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・・（２）


・・・・・（３） （もっと読む）

本発明は、a) サッカライド−シロキサン共重合体；b) 架橋剤； c) 一種以上の活性/不活性成分； d) 任意に、溶剤または混合溶剤からなり、当該サッカライド−シロキサン共重合体が次式：R₂aR₁(3-a)SiO-[(SiR₂R₁O)m-(SiR₁2O)n]y-SiR₁(3-a)R₂a （定型的に定義される）を有し、かつ当該サッカライド−シロキサン共重合体が官能化されたオルガノシロキサンポリマーと少なくとも１種のヒドロキシ官能性サッカライドとの反応生成物で、オルガノシロキサン構成部が結合基を介してサッカライド構成部に共有的に結合している、フィルム形成用組成物；フィルム；それらの関連方法を提供する。本発明は、新規のフィルム形成用組成物および/またはフィルムからなる局所的および経皮薬剤デリバリーパッチを含む製品をも提供する。
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【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸解離性基含有シロキサン樹脂および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有し、形成された被膜に露光したのち加熱処理したとき、該被膜の未露光部の水との接触角（α）と露光部の水との接触角（β）との差（α−β）が（α−β）＞５度を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

その加水分解性サイトの加水分解に際して、すべてが加水分解可能なアルコキシ基である加水分解性サイトを同数にて有するシランの加水分解によって生成される揮発性有機化合物と比較して、減少した量の揮発性有機化合物を生成するエポキシシランを加水分解させることを包含する、低ＶＯＣエポキシシランオリゴマーの製造方法であって、前記エポキシシランの加水分解が１．５当量未満の水を用いて行われ、加水分解反応の間に前記水が連続的に供給される、方法。 （もっと読む）

【課題】従来の乾燥ゲルは、温度変化による膨張収縮の度合いが小さいため、乾燥ゲルを他の物体に取り付けて用いる場合、他の物体と乾燥ゲルとの温度変化による伸縮の度合いが大きく異なり、強度の弱い乾燥ゲルに割れが生じたり、剥離したりする課題がある。
【解決手段】本発明の乾燥ゲルは、それを構成する材料の工夫により柔軟性をもたせる。柔軟性は、乾燥ゲルの材料であるオルガノシラン化合物９を、加水分解性有機基１２と、非加水分解性有機基１０が同一のケイ素１１に直接結合したものを含有するようにすることで得られる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも次の成分：（ｉ）グリシジルオキシプロピルアルコキシシラン、（ｉｉ）＞１質量％の固体含有量を有する水性シリカゾル、（ｉｉｉ）加水分解触媒としての有機酸、及び（ｉｖ）架橋剤としてのｎ−プロピルジルコナート、ブチルチタナート又はチタンアセチルアセトナートを反応させることに基づき、０．７５の成分（ｉｉ）の固体質量対成分（ｉ）の質量比から出発する、あらゆる比率で水で希釈可能なゾルゲル組成物、その製造方法、その使用、特に腐食保護被覆、相応する腐食保護被覆又はプライマー被覆としてのゲル組成物としての使用、及びこのような被覆を備えた物品を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れたプロトン伝導性、メタノールクロスオーバー防止性を有するプロトン伝導性膜を製造することができ、かつ、プロトン伝導性膜の生産性を大幅に向上させることが可能なプロトン伝導性膜の製造方法、プロトン伝導性膜及び燃料電池を提供する。
【解決手段】スルホン酸基と金属−酸素結合からなる架橋構造とを有するプロトン伝導性膜を製造する方法であって、金属−酸素結合を有する構造単位（ａ）と金属−酸素結合を有する構造単位と共有結合で結合したメルカプト基及び／又はスルフィド基を有する構造単位（ｂ）とからなる架橋性化合物を含有する液状体を調製する工程、前記架橋性化合物を含有する膜状体を作製する工程、及び、水蒸気雰囲気下で前記膜状体に紫外線照射又はプラズマ処理を行うことにより、前記メルカプト基及び／又はスルフィド基をスルホン酸基とすると同時に、前記膜状体を硬化させる工程を有するプロトン伝導性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性、耐リフロー性及び耐温度サイクル性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上、３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピークからなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有するとともに、ケイ素含有率が２０重量％以上であり、シラノール含有率が０．１重量％以上、１０重量％以下であり、デュロメータタイプＡによる硬度測定値（ショアＡ）が５以上９０以下である。 （もっと読む）

本発明は、シルセスキオキサン−チタニアハイブリッドポリマーであって、チタニアドメインサイズが約５ナノメートル未満であるポリマーに関する。このようなポリマーは、例えばマイクロ電子デバイスの製造において、反射防止コーティングを形成するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】（１）固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
（ｉ）ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．５ｐｐｍ以上、３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、
（ii）ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が１．０ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピーク
からなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有するとともに、
（２）ケイ素含有率が２０重量％以上であり、
（３）シラノール含有率が０．１重量％以上、１０重量％以下である。 （もっと読む）

【課題】高い反射防止性を有すると共に、耐薬品性、防汚性に優れたコーティング材組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｂ）の加水分解性オルガノシランとシリカ系金属酸化物微粒子とを混合した状態で、（Ａ）及び（Ｂ）の加水分解性オルガノシランを加水分解した第一の加水分解物と、（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｃ）の加水分解性オルガノシランとを共重合した、一方の末端にフッ素置換アルキル基を有する第二の加水分解物と、を含有する。
（Ａ）一般式がＳｉＸ_４（Ｘは加水分解基）
で表わされる加水分解性オルガノシラン、
（Ｂ）撥水基を直鎖部に備えると共にアルコキシ基が結合したシリカ原子を分子内に２個以上有する加水分解性オルガノシラン、
（Ｃ）フッ素置換アルキル基を有する加水分解性オルガノシラン （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 撥水性および水滴転落性に優れた被覆物を形成することができるフルオロカーボンシラン含有水性エマルジョンを提供すること。
【解決手段】 本発明の水性エマルジョンは、フルオロカーボンシランまたはその部分加水分解物、界面活性剤、シラン化合物、ｐＨ調整剤（ｐＨを４．５以下または７以上にする酸またはアルカリ）、および炭素数１２〜２４の直鎖または分岐のアルキル基と反応性官能基を合わせもつ化合物を含有する水性エマルジョンである。前記フルオロカーボンシランは、Ｒ_ｆ−（ＣＨ_２）_ｐ−Ｓｉ｛−（Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＲ^１｝_３により表される少なくとも一種の加水分解性フルオロカーボンシランであり、水性エマルジョンの総重量に基づいて、０．１〜２０重量％含有される。前記フルオロカーボンシランと、前記界面活性剤との重量比は、１：１〜１０：１である。 （もっと読む）

【課題】感光性を有し、架橋剤を含有させずとも、アルカリ現象可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表わされる構造を有し、Ｒ₁₁〜Ｒ_1nの内１つがＨであり、残りが有機基である１種のポリマー（Ａ１）を含むシリコン含有ポリマーと、活性光線もしくは放射線の放射により、酸または塩基を発生する化合物とを含むシリコン含有感光性組成物。
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【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜に適した、誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物。


式中、Ｒ¹は水素原子または非加水分解性基を表し、Ｘは加水分解性基を表す。Ｒ²は水素原子または置換基を表す。ｍは３または４であり、ｎは０〜３の整数であるが、式（Ｉ）で表される分子内には、Ｘとして少なくとも１つの加水分解性基が存在する。Ｒ¹、Ｒ²、Ｘの各々について、複数存在するときは同じでも異なっていてもよい。 （もっと読む）

本発明は、式Ｘ_m−Ｍ−（ＯＲ）_n-mを有する少なくとも１つの化合物の溶液を調製し、ドーパントの溶液に添加し、該化合物を加水分解してゾルを形成し、場合により、酸化物を添加し、ゾルをゲル化し、前記液体を再循環し、かつ液体のpH値を調節して、アクアゲル中のドーパントを固定させ、ゲルを乾燥させ、かつ密度を高めてガラスを得ることから成るゾル−ゲル法に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高分子量で、且つ分子量が比較的揃った、且つ安定性に優れたアルキルシリケート縮合体を安定に製造する方法を提供する。
【解決手段】低級アルキルシリケートの高分子量縮合体を製造するに際し、先ず、溶媒と酸触媒の存在下にアルキルシリケート部分縮合体を製造し、次いでこの反応液から副生アルコール及び溶媒を除去した後、脱酸工程を経て、又は経ずにこれに亜硝酸塩を加えて１００℃以上に加熱し、この時に生じた低級アルキルシリケート単量体を留去してメチルシリケートの場合１４００以上、エチルシリケートの場合２０００以上の重量平均分子量を有するアルキルシリケート縮合体とする。この製法でＭｗ／Ｍｎ比がメチルシリケートの場合は１．４以上、エチルシリケートの場合は２．０以上の高分子量で、且つ分子量が比較的揃った、且つ安定性に優れたアルキルシリケート縮合体を得ることが出来る。 （もっと読む）

本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒とを含有してなるものである。 （もっと読む）