【課題】 ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールド用硬化性樹脂組成物、及び樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】 ポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とを有する複合樹脂（Ａ）を含有する樹脂モールド用硬化性樹脂組成物を提供することで、ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールドを提供することができる。また、該樹脂モールドから作成されるレプリカモールド、及びレプリカモールドの製造方法を提供する （もっと読む）

【課題】レジスト解像性、エッチング耐性に優れるフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】重合性二重結合基を有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、酸基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（３）で表される結合により結合された複合樹脂（Ａ）を含有するフォトレジスト材料であって、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）の含有率がフォトレジスト材料の全固形分量に対して１０〜９０重量％であり、且つ前記複合樹脂（Ａ）の固形分の酸価が４０〜４００ＫＯＨｍｇ／ｇであるフォトレジスト材料。


（３） （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、高温下での長期信頼性に優れる加熱硬化性シリコーン樹脂組成物、およびこれを用いる光半導体封止体の提供。
【解決手段】（Ａ）１分子中に２個以上のシラノール基を有するポリシロキサン１００質量部と、（Ｂ）１分子中にケイ素原子に結合しているアルコキシ基を２個以上有するシラン化合物０．１〜２０００質量部と、（Ｃ）縮合触媒としてアルミニウム化合物および／または亜鉛化合物と、（Ｄ）リン酸エステル、亜リン酸エステルおよびホウ素化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種とを含有する加熱硬化性シリコーン樹脂組成物、および当該加熱硬化性シリコーン樹脂組成物をＬＥＤチップに付与し、前記ＬＥＤチップを加熱し前記加熱硬化性シリコーン樹脂組成物を硬化させて前記ＬＥＤチップを封止することによって得られる光半導体封止体。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）〜（４）で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

本発明は、高粘稠なポリオルガノシロキサンおよび式（ＲＯ）_nＰ（Ｏ）（ＯＨ）_(3-n) （Ｉ）〔式中、Ｒは、同一でも異なっていてもよく、４〜３０個の炭素原子を有する１価の炭化水素基を表わし、ｎは、１または２である〕で示される少なくとも１つの乳化剤および／またはその塩を含有し、環状シロキサンの特に低い含量を有する水性シリコーンエマルジョン、その製造法ならびに殊にボディーケア剤中への当該水性シリコーンエマルジョンに関する。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性等が優れると共に、ＩＴＯ基板密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成可能であり、かつ十分な解像性を有する感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］シロキサンポリマー、［Ｂ］低分子シラン化合物、並びに［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤を含有する感放射線性組成物である。［Ａ］シロキサンポリマーが加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であることが好ましい。［Ｄ］脱水剤をさらに含有するとよい。［Ｃ］感放射線性酸発生剤として、トリフェニルスルホニウム塩及びテトラヒドロチオフェニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種が用いられることが好ましい。 （もっと読む）

ポリシロキサン含有ポリマーの生成方法について記載する。本方法はｉ）１分子当たり少なくとも２つの縮合性基を含むシロキサン含有モノマー及び／又はオリゴマーの、ａ）１つ以上の縮合触媒並びに選択的にｂ）希釈剤（可塑剤及び／又は増量剤）及び／若しくは末端ブロック剤の一方又は両方の存在下での重縮合によりポリシロキサン含有ポリマーを調製するステップ、並びにｉｉ）必要に応じて重合プロセスを抑制するステップを含む。希釈剤は、存在する場合、得られる希釈ポリシロキサン含有ポリマー中に実質的に保持され、プロセスは少なくとも７５×１０^５Ｐａ（０．７５ＭＰａ）の圧力で行われる。 （もっと読む）

【解決手段】式（Ｉ）のオルガノポリシロキサン及び／又は式（ＩＩ）のオルガノポリシロキサンと、化学式（ＩＩＩ）の化合物を酸触媒存在下で反応させて得られる皮膜形成性オルガノポリシロキサン。
ＨＯ−［Ｒ¹₂ＳｉＯ］_n−Ｈ （Ｉ）
［Ｒ¹₂ＳｉＯ］_m （ＩＩ）
（Ｒ¹は１価炭化水素基、ｎは２〜５，０００、ｍは３〜１０。）


（ＸはＲ¹_a（Ｒ²Ｏ）_bＳｉ−Ｒ³−、１価炭化水素基、水素原子のいずれかであり、少なくとも１つはＲ¹_a（Ｒ²Ｏ）_bＳｉ−Ｒ³−である。Ｒ²は１価炭化水素基、Ｒ³は２価炭化水素基、ａは０又は１、ｂは２又は３、ａ＋ｂ＝３である。）
【効果】本発明によれば、アルコキシシランのような架橋剤を使用することなく、乾燥するだけでシリコーン皮膜を得ることができ、更にコロイダルシリカのような皮膜補強剤と硬化触媒を併用するとゴム強度、弾性のあるシリコーン皮膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高い架橋密度によりフィルムが脆化することなく、良好な初期引っ掻き耐性を有
するだけでなく引っ掻き耐性が高く維持されるトップコートを提供することを、本発明の
課題とする。
【解決手段】（ａ）少なくとも１個の反応性官能基を含む１種以上のポリシロキサン；多
数の粒子；及び、任意に、ポリシロキサン（ａ）のいずれかの反応性官能基と反応する少
なくとも１個の官能基を含む１種以上の硬化剤を含有する組成物を提供することによって
、上記課題が解決された。更に、前述の塗料組成物多−成分複合材料を基材及び塗装され
た基材に塗布する工程、が提供される。この塗料組成物を調製する工程も提供される。本
発明の塗料組成物多−成分複合材料は、屋外暴露後、引っかき抵抗性の保持が可能である
高度の引っかき抵抗性の着色−プラス−透明塗料を提供する。 （もっと読む）

【課題】イオン液体の他に重合性官能基を有する化合物を用いることなく有機−無機ハイブリッド高分子イオン性化合物を創出するために、有機と無機の異なる２種類の重合性官能基を有するイオン液体を提供することである。
【解決手段】 有機の重合性官能基としてビニル基を有し、無機の重合性官能基としてアルコキシシリル基を有する新規なイオン液体を１−ビニルイミダゾールとハロゲン化アルキルトリアルコキシシランとの反応およびアニオン交換反応から合成することを特徴とする。得られたビニル基とアルコキシシリル基を同一分子内に有するイオン液体は有機−無機ハイブリッド高分子イオン性化合物を創出するためにアルコキシシリル基を加水分解縮合させることができる。また、アルコキシシリル基を加水分解縮合させた後、ビニル基をラジカル重合させることができ、より強度の高い有機−無機ハイブリッド高分子イオン性化合物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】時間およびエネルギーを節約しかつ非常に経済的である、より高い質量流量が達成されかつ装置能力が高められ、一定の良好な生成物特性を有する、アミノアルキル基を有するオルガノポリシロキサンが得られ、かつ殊に使用される触媒の量が減少されうる一方法を提供する。
【解決手段】（ｉ）（Ａ）線状、環状または分岐状オルガノポリシロキサンと（Ｂ）ＳｉＣ結合した、塩基性窒素を有する炭化水素基および２個または３個の加水分解性基を有するアミノアルキルシランを、（Ｃ）塩基性触媒の存在において、および場合により（Ｄ）連鎖停止試薬の存在において少なくとも６０℃の温度で反応させ、反応（ｉ）に引き続き（ｉｉ）使用される塩基性触媒（Ｃ）を失活させかつ（ｉｉｉ）反応生成物を６０℃を下回る温度に冷却させることによって、アルキル基を有するオルガノポリシロキサンを製造するための方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】低硬化収縮性でかつ、熱硬化後の透明性に優れ、アルカリ溶剤に含浸後のクラック発生が抑えられ、基板との接着性に優れる硬化膜を得ることができる感光性シロキサン組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）イミドシラン化合物を一種類以上含有する感光性シロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐クラック性及び耐熱性に優れる、光素子用封止材の硬化物を得ることができる光素子用封止材、並びに光素子封止体を提供する。
【解決手段】分子内に、式（Ａ）


で表される繰り返し単位を有するラダー型構造の化合物であって、リン酸系触媒の存在下、式：Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^３）_ｐ（Ｘ^１）_３−ｐで表される化合物（１）と、式：Ｒ^２Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｑ（Ｘ^２）_３−ｑで表される化合物（２）を、化合物（１）：化合物（２）＝１：９〜１０：０（モル比）の割合で縮合させて得られたものを主成分とする光素子用封止材、並びに該光素子用封止材の硬化物により光素子が封止されてなる光素子封止体。 （もっと読む）

【課題】 シード粒子などとして好適な比較的粒径が大きく、ＣＶ値が４％未満程度の小さいポリオルガノシロキサン粒子を再現性よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３ …（Ｉ）
で表されるケイ素化合物を水性溶液とし、塩基性触媒存在下で加水分解、縮合反応させて、ポリオルガノシロキサン粒子を製造する方法において、前記ケイ素化合物を水性媒体に溶解して、ケイ素化合物と水とのモル比が１：０．２３〜１：１．７の範囲にあるケイ素化合物含有水性溶液を調製したのち、前記ケイ素化合物に対して３５倍モル以上の水と、塩基性触媒を含む塩基性触媒水性溶液中に添加し、加水分解、縮合反応させる方法である。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を提供すること、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供すること、前記配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の配向膜は、液晶分子の配向を制御する配向膜であって、少なくとも有機ケイ素材料で構成され、有機ケイ素材料は、その分子内に、液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有することを特徴とする。親和性付与基は、ビニル基、アルキレン基、シアノアルキル基のうち、少なくとも１種である。配向性付与基は、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基、炭素数が３〜１２の分岐アルキル基のうち、少なくとも１種である。 （もっと読む）

式：（ＰｈＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_mＨＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_n（ＭｅＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_p（ＲＳｉＯ_(3-x)/2（ＯＨ）_x）_q（式中、Ｐｈはフェニル基であり、Ｍｅはメチル基であり、Ｒはエステル基及びポリエーテル基から選択され、ｘは０、１又は２の値を有し、ｍは０．０５〜０．９５の値を有し、ｎは０．０５〜０．９５の値を有し、ｐは０．０５〜０．９５の値を有し、ｑは０．０１〜０．３０の値を有し、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ≒１である）を有する反射防止膜を形成するのに有用なシルセスキオキサン樹脂。 （もっと読む）

新規分岐シロキサン、当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離コーティング組成物、及び当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離改質剤組成物は、以下の：（ｉ）下記式：
【化１】


（式中、Ｒ^ａは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基又は炭素数２〜６を有するアルキニル基であり、Ｒ^ｂは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基又はメタクリレート基であり、ｎは１〜２００であるが、但し、分岐シロキサンにおけるＲ^ａ基の少なくとも３．２〜３．９は、アルケニル又はアルキニル基である）を有する組成物を含む分岐シロキサン。
（もっと読む）

【課題】白金系、スズ系などの金属系の硬化触媒を使用することなく、球状のシリコーンエラストマー微粒子を製造する方法を提供。また、経時的に臭気を発生させない化粧料を提供。
【解決手段】本発明の球状シリコーンエラストマー微粒子は、シリコーンエラストマーを主成分とする平均粒子径が０．１〜５００μｍの球状微粒子である。この微粒子の製造方法は、（ａ）１分子中に少なくとも２個のシラノール基を有するポリオルガノシロキサンと、（ｂ）一般式：Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３で表されるオルガノトリアルコキシシランとを、金属系の触媒を使用することなく縮合反応させて得られた架橋性ポリオルガノシロキサンを、（ｃ）界面活性剤の存在下に水中に乳化し、かつ金属系の触媒を使用することなく縮合反応させて架橋する。本発明の化粧料は、（Ａ）球状シリコーンエラストマー微粒子と、（Ｂ）ポリエーテル化合物、および（Ｃ）水を含有する。 （もっと読む）

本発明は、ＶＣＭＸのようなエチレン性不飽和のエポキシドとＭＤＤ’Ｍ（ここに、Ｍ＝Ｒ₃ＳｉＯ_1/2、Ｄ＝Ｒ₂ＳｉＯ_2/2、Ｄ’＝ＲＨ＝ＳｉＯ_2/2であり、Ｒ＝アルキルである。）型の水素化ＰＯＳとの間の白金触媒ヒドロシリル化方法に従うエポキシ化ＰＯＳの製造方法に関する。
本発明の目的は、最終生成物の粘度を最適化された態様で制御するのを可能ならしめる、即ち、反応混合物の部分的又は全体的なゲル化を生じさせるような複素環の開環による陽イオン重合の寄生反応を制限するのを可能ならしめる、不均質触媒作用によるエポキシ化ＰＯＳシリコーンの合成方法を提案することである。
この目的は、ヒドロシリル化を少なくとも１種の無機非求核性塩基（ＮａＨＣＯ₃）及び随意の水の存在下に実施することを特徴とする本発明によって達成される。 （もっと読む）