【課題】有機発光素子の製造装置において、長時間の蒸着においても膜厚の均一性を失うことなく高い材料利用効率を実現する。
【解決手段】電極を有する基板１上に有機化合物層を備えた有機発光素子を製造する蒸着装置において、蒸着源２０と基板１の間に配置した膜厚補正板２３を蒸着源２０とともに基板１に対してＸ方向に相対的に移動させる。膜厚補正板２３の開口２３ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に沿って開口幅が変化する太鼓形状を有することで、開口端部における蒸着材料の斜入射成分の蒸着時間を増大させて膜厚を均一化する。また、膜厚補正板２３の開口２３ａの周縁に傾斜面２３ｂを備えることにより、蒸発物が開口２３ａの周縁に付着することによる開口寸法の変化を抑制する。これにより安定して所定の膜厚分布を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型有機電界発光素子及びその製造方法において、上部透明電極形成時、スパッタリングターゲット表面から基板被成膜面へ入射するプラズマ荷電粒子を捕捉して、発光ポテンシャル低下を抑制することを目的とする。
【解決手段】マグネトロンスパッタリング装置において、ターゲット４は大径開口部４ａと、小径開口部４ｂと、それら開口部４ａ，４ｂを接続する周面４ｃとを有し、バッキングプレート５には、ターゲット４を、その大径開口部４ａが基板２に向けられた状態で収容する凹部５ａが設けられ、この凹部５ａを構成する内周壁面５ｂは、ターゲット４の周面４ｃが嵌め込まれるすり鉢形状に形成され、この凹部５ａにターゲット４を入れ子式に嵌め合わせる。これにより、基板への副生成荷電粒子の入射も大幅に減少する。 （もっと読む）

【課題】短時間で効率よく薄膜５１を形成できる薄膜形成装置１を提供する。
【解決手段】ＶＤＦオリゴマー３３が配置された蒸着源３０と被蒸着基板１０とを離間させた状態で前記蒸着源３０を加熱し、前記被蒸着基板１０と前記蒸着源３０が離間する離間状態から、前記被蒸着基板１０と前記蒸着源３０のとの少なくとも一方を移動させて、前記被蒸着基板１０の薄膜形成面１１と前記蒸着源３０のＶＤＦオリゴマー供給面３２が断熱マスク２０を挟んで対向し近接する近接状態に変化させ、前記近接状態で前記ＶＤＦオリゴマー３３の薄膜５１を前記薄膜形成面１１に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】蒸着用マスクを繰り返し使っていくうちに堆積層が付着した場合でも、所望の薄膜パターンを形成することができるマスク蒸着法を提供すること。
【解決手段】被処理基板２００に対する蒸着パターンに対応するマスク開口部２２が形成された蒸着用マスク４０を被処理基板２００に重ねた状態で蒸着用マスク４０および被処理基板２００を面内方向で回転させるとともに、回転中心軸線上から側方にずらした位置に配置された蒸着源１２から被処理基板２００に蒸着材料流を供給する。前回までの蒸着工程と今回の蒸着工程とで同一の蒸着用マスク４０を用いるにあたって、前回までの蒸着工程により蒸着用マスク４０に付着した堆積層の厚さの測定結果、あるいは当該堆積層の厚さの算出結果に基づいて、今回行う蒸着条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】抵抗変化型メモリ素子の抵抗変化の安定性と抵抗変化比を向上させた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１を酸化物チャンバＦ３に搬入し、チタンを主成分とする第一ターゲットを酸素雰囲気の下でスパッタさせてチタン酸化物からなる酸化物層を形成し、酸化物層を有する基板１１を照射チャンバＦ４に搬入し、酸化物層の表面にさらに酸素ラジカルを照射して可変抵抗体を形成した。 （もっと読む）

【課題】高品質の薄膜を形成することができると共に、防着板の交換頻度を大幅に少なく
し、製造効率を飛躍的に向上することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置１は、蒸着槽２と、蒸着槽２内に配置され、被蒸着体１０に蒸着さ
れる蒸着物質４１を供給する蒸着源４と、蒸着槽２内に交換可能に取り付けられ、蒸着物
質４１が蒸着槽２の側部隔壁２１に付着することを防止する防着板６と、蒸着時に防着ガ
スを防着板６に略沿って流すように蒸着槽２内に流入する流入口８と、蒸着槽２内から防
着ガスを排出する排出口９とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバ内のパーティクルに起因する不具合の発生を確実に防止することのできる真空成膜装置、真空成膜方法および、この真空成膜を用いた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ１１内で素子基板２に成膜を行うマスク蒸着装置１０において、パーティクルモニタ１７によって真空チャンバ１１内のパーティクルを監視し、パーティクル量が所定値未満のときには真空チャンバ１１内で成膜処理を行う。これに対して、パーティクル量が所定値以上のときには、ガス導入装置１４による真空チャンバ１１内への窒素ガスの導入と、低真空用真空引き装置１５による真空チャンバ１１内の真空引きとを行う清浄化処理を実施する。 （もっと読む）

【課題】長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼り付きを防止することのできる成膜用マスク部材および該成膜用マスク部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜用マスク部材１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、チップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ２０には、成膜パターンに対応する長孔形状のマスク開口部２２が複数一定間隔で平行に並列した状態で形成されている。チップ２０において、マスク開口部２２で挟まれた梁部２７の側面２７ａには、微小な凸部２８が形成されている。このため、チップ２０の製造工程などにおいて洗浄、乾燥を行なった場合でも、梁部２７の側面２７ａ同士が貼り付いて剥がれなくなるという事態を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に対して複数の蒸着エリアで順次、蒸着を行うインライン式蒸着装置、および成膜方法において、特定の蒸着エリアで成膜される薄膜の膜厚のみを容易かつ確実に調整することのできる構成を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置１００において成膜を行なった際、各蒸着エリア５１〜５３で被処理基板２０に形成される薄膜の膜厚バランスがずれている場合、被処理基板２０の搬送速度、および坩堝４５での蒸着材料の加熱温度は変更せずに、蒸気流供給量制御用シャッタ１１、１２、１３のスリット状開口部１４の幅寸法を調整する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する均一な薄膜の形成と蒸着材料の利用効率の向上とを容易に図ることができる蒸着技術を提供する。
【解決手段】蒸着用坩堝１０であって、底部１１と、側壁部１２３と、該底部１１および該側壁部１２３の内面によって囲まれ且つ所定軸に沿って形成された孔部Ｃｖとを備え、孔部Ｃｖが、底部１１とは反対側に位置する開口部ＯＰと、該孔部Ｃｖの所定軸（例えば軸Ｐ）に対して垂直な面における断面積が底部１１側から開口部ＯＰ側にかけて略一定である第１の領域（例えば下部孔領域１２ａ）と、該孔部Ｃｖの所定軸（例えば軸Ｐ）に対して垂直な面における断面積が底部１１側から開口部ＯＰ側に近づくにつれて増大する第２の領域（例えば上部孔領域１３ａ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に薄膜を形成した後、被処理基板に成膜用マスク部材を接触する状態で重ねて成膜した場合でも、先に形成した薄膜の損傷や剥離に起因する不具合が発生することのない成膜用マスク部材、成膜用マスク部材の製造方法、マスク成膜方法、および成膜装置を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着用の成膜用マスク部材１０を製造する際、支持基板３０に接合されたチップ２０の基板接触面２０ａにプラズマを照射する。その際、導入ガスとしてフッ素系ガスを用いることにより、チップ２０の基板接触面２０ａには撥水性が高いフッ素系重合膜が形成され、基板接触面２０ａの水に対する接触角が１００°以上になる。従って、成膜用マスク部材１０の基板接触面２０ａを被処理基板に対して重ね、この状態で蒸着を行った後、被処理基板から外しても、先に形成された薄膜に剥離などが発生しない。 （もっと読む）

【課題】射出成形による温度の影響、型締力の影響等を受けることなく、比較的大きな中空成形品であっても熱収縮の影響を受けずに製造することができる、内表面が表面処理された中空成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】固定金型（３）とスライド金型（４）とを使用して１次射出成形により、本体部（Ｈ２）と蓋体（Ｆ１）とを実質的に同時に成形する。本体部（Ｈ２）をハンドリング装置（ＨＭ）によりスライド金型（４）から取り出し、別に設けられている成膜装置（ＭＭ）に装着して本体部（Ｈ２）の内表面に成膜する。成膜された本体部（ＨＵ１）をスライド金型（４）に装着して、固定金型（３）に残っている蓋体（Ｆ１）と突き合わせて、突合部に溶融樹脂を２次射出して一体化する。前記１次射出成形と２次射出成形とを同じ金型で実質的に同時に実施し、これに平行して成膜工程を実施する。 （もっと読む）

【課題】長尺の可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターンのマスクパターニングの実現手段を提供することであり、可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターン形成を連続的に行うことで、品質が高く、生産性が高いコストダウン可能な透明導電膜形成装置を提供することにある。また、これに用いるマスク部材、前記の形成装置により作製された有機ＥＬ用の透明導電膜樹脂基板を提供する。
【解決手段】真空槽１内を連続して搬送される長尺の可撓性樹脂基板上に、透明導電膜を形成する透明導電膜の形成装置において、可撓性樹脂基板２の搬送中に、パターン形成用のマスク部材を可撓性樹脂基板に密着し同期して移動させながら、マスク部材Ｍとの密着区間にて薄膜形成手段を用いてパターン成膜を行う透明導電膜の形成装置。 （もっと読む）

【課題】セルシャッタに蒸着材料が分厚く堆積することを防止することにより、セルシャッタからの蒸着材料の剥離を防止することのできる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置１００は、蒸着材料の蒸気流を放出する開口部１２ａを備えた蒸着源１２と、開口部１２ａを上方で覆って蒸気流の被処理基板２０への供給を停止する遮断面１５４を備えたセルシャッタ１５と、セルシャッタ１５が開口部１２ａを開閉するようにセルシャッタ１５を駆動するセルシャッタ駆動装置とを有している。シャッタ板１５３は、下方に向けて開口する半球状に形成され、遮断面１５４は、被処理基板２０側に向けて凹む凹球面になっている。従って、同一体積の蒸着材料が堆積した場合でも、遮断面１５４への蒸着材料の堆積層１７の厚さが薄く、堆積層１７が剥離しにくい。 （もっと読む）

【課題】ライン状の蒸着源から基板上に材料を成膜する成膜装置において、膜を構成する柱状構造体の延在方向を可変とすることで、膜の特性を任意に設定可能とする。
【解決手段】蒸着源からの材料を基板上に成膜する成膜装置であって、所定方向に基板１０Ａを搬送する基板搬送装置３０４と、上記基板１０Ａの搬送方向を含む平面と平行な基準面内において一方向に延在するライン状の蒸着源３０２と、上記蒸着源３０２を上記基準平面内において回転可能に支持する蒸着源回転装置３０３と、少なくとも上記基板搬送装置３０４及び上記蒸着源回転装３０３置を制御する制御装置３０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】高品位な表示装置を実現できる蒸着可能な材料を、蒸着用マスクを用いることなく塗り分け可能にする。
【解決手段】真空容器中にて蒸着源６２から蒸発する蒸着分子を被蒸着物３２に到達させて当該被蒸着物３２に前記蒸着分子による薄膜を形成するのにあたり、前記蒸着分子が前記被蒸着物３２に到達する前に当該蒸着分子を電荷ｅ^-に帯電させる帯電工程と、前記薄膜を形成する箇所に対応して配された電極Ｒへの前記蒸着分子の帯電極性とは異なる＋極性の電圧印加と、前記薄膜を形成しない箇所に対応して配された電極Ｇ，Ｂへの前記蒸着分子の帯電極性と同じ−極性の電圧印加との、少なくとも一方を行う印加工程と、を経る。 （もっと読む）

【課題】マスク開口部が形成されたチップが支持基板上に接合された蒸着用マスクを用いる場合に成膜コストを低減することのできる蒸着用マスクの製造方法、およびかかる製造方法の実施に適した蒸着用マスクを提供すること。
【解決手段】蒸着用マスク１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、複数のチップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ側接合面２８に凹凸２８ａが形成されている。このため、ウエットプロセスに晒された蒸着用マスク１０であっても、接着剤で接合されていない領域でチップ２０と支持基板３０とが強固に貼り付くという事態が発生しない。このため、チップ２０を支持基板３０から容易に剥がして支持基板３０を回収し、回収した支持基板３０を用いて再度、蒸着用マスク１０を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】１回の蒸着工程により、被成膜領域毎に異なる膜厚の薄膜を形成することのできる蒸着用マスク、マスク蒸着法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】素子基板２に蒸着用マスク３１を重ねて蒸着を行い、素子基板２において、蒸着用マスク３１に形成されているマスク開口部３２に対応する領域に薄膜を形成する。その際、マスク開口部３２（Ｒ）、３２（Ｇ）、３２（Ｂ）では、出側開口３２２の面積に対する入側開口３２１の面積の比率を相違させてあるので、１回の蒸着工程を行なうだけで、比率が大きいマスク開口部３２（Ｒ）に対応する領域には膜厚の厚い電子注入輸送層７を形成でき、比率が小さいマスク開口部３２（Ｂ）に対応する領域には膜厚の薄い電子注入輸送層７を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】マグネトロンスパッタリング法により成膜を行った場合に荷電粒子の衝突に起因して被堆積面が受けるダメージを小さくする。
【解決手段】本発明の成膜方法は、スパッタリングターゲット１６と基板１７との間に、前記スパッタリングターゲット１６が含んでいる元素からなる主面を備えると共に前記主面で開口した貫通孔が設けられた第１トラップ１５ｂを、前記主面が前記スパッタリングターゲット１６を向くように設置し、この状態でマグネトロンスパッタリング法により前記スパッタリングターゲット１６が含んでいる材料を前記基板１７上に堆積させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】枠状又はリング状に全周が繋がっている成膜パターンを形成することが可能な成膜用治具を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面２２に水晶ウエハ１０を配置することが可能で、且つ埋め込まれた磁石２１により磁力を有するベース部材２０と、ベース部材２０の一方の面２２上であって、ベース部材２０に埋め込まれた磁石２１の磁力により引き付けられる位置に配置される磁性体のマスク部材３０と、を備え、ベース部材２０に水晶ウエハ１０を配置したとき、ベース部材２０とマスク部材３０との間に水晶ウエハ１０が介在することが可能であり、マスク部材３０は、平面視して、水晶ウエハ１０よりも外形が小さく、水晶ウエハ１０の一部が、マスク部材３０から全周にわたり露出していることを特徴とする。 （もっと読む）