【課題】薄いフィルムでも金属蒸着電極形成時に熱ダメージを受けない金属化フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ＰＰフィルム１上にマスク部を形成するパターン形成工程と、マスク部以外に金属蒸着電極を形成する蒸着工程とを有し、厚さが２．５μｍ以下のＰＰフィルム１を用い、パターン形成工程においてＰＰフィルム１を冷却しながらマージンを形成する方法により、ＰＰフィルム１に加わる熱を低下できるため、厚さが２．５μｍ以下の薄いＰＰフィルム１を用いて金属化フィルム１ａを作製してもＰＰフィルム１が熱ダメージを受けないため、優れた性能と品質の金属化フィルム１ａを安定して生産できる。 （もっと読む）

【課題】領域選択成長技術を適用して、均一性のある微細構造を生産できる微細構造素子製造装置及び微細構造素子生産方法を提供すること。
【解決手段】基板が搭載される試料ホルダ４０と、基板３０に選択的に結晶を成長させるため基板の温度を所定の範囲に加熱する加熱器５０と、基板３０に選択的に結晶を成長させるための少なくとも１つ以上の第１の開口部と、当該１つ以上の第１の開口部の外側に複数の第２の開口部を有するマスク１０と、マスク１０が搭載されるマスクホルダ２０と、を備える微細構造素子製造装置。 （もっと読む）

【課題】均一な蒸着層を容易に形成することができる真空金属蒸着方法およびその真空金属蒸着方法を実施するための真空金属蒸着装置を提供する。
【解決手段】高耐熱性金属支持体および高耐熱性金網が重ね合わされ蒸着金属材料がそれらの間に保持されている蒸着用ボートを用いて、該蒸着用ボートの高耐熱性金網側を下方に向けて該蒸着用ボートを蒸着用真空容器の上部に配設すると共に、該蒸着用ボートの下面側である高耐熱性金網側と被蒸着体の上面側である被蒸着面側とを対面させて該蒸着用真空容器の下部に被蒸着体を配置し、次いで、電気抵抗により該蒸着用ボートにおける高耐熱性金属支持体を発熱させることにより該蒸着用ボートに保持されている蒸着用金属材料をその沸点以上まで加熱して溶融状態となして真空状態で高耐熱性金網の目から被蒸着体に向かって蒸発・拡散させ、前記の被蒸着体の被蒸着面側に蒸着用金属材料を短時間で蒸着させることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、基板をコーティングするための方法、その方法を実行するためのコーティング装置、およびコーティング装置のための取扱いモジュールに関する。取扱いモジュールは、コーティングすべき基板のための可動サポート（１３）であって、少なくとも２つの位置の間を移動させることができる可動サポート（１３）を備えている。さらに、マスクを基板に取り付けるため、およびマスクを基板から取り外すための少なくともいずれかのためのマスク配置デバイス（４１５）、およびマスクを基板に対して整列させるためのマスク整列デバイスが提供され、マスク整列デバイスは、サポートと共に移動できるように可動サポート（１３）に取り付けられる。別法としては、取扱いモジュールは、真空チャンバと、コーティングすべき基板のための可動サポート（１３）であって、真空チャンバ内に配置され、かつ、少なくとも２つの位置の間で回転できる可動サポート（１３）とを備えており、マスクを基板に取り付けるため、およびマスクを基板から取り外すための少なくともいずれかのためのマスク配置デバイス（４１５）が、取扱いモジュールの真空チャンバ内に配置されている。
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【課題】蒸発源アセンブリ及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸発源アセンブリ３０を構成する外部ハウジング５０はガイド８０ａを有していて、蒸発源アセンブリを構成する蒸発源６０、７０が有するノズル部の貫通ホール２２２、３２２を所定の角度で傾けさせることによって、それぞれの蒸発源から吐出される蒸着物質が被蒸着基板の同一の領域に蒸着されるように誘導し、均一な粗さと均一な厚さを有する薄膜を形成できるようにする。 （もっと読む）

【課題】シリコンからなるマスクチップを有するマスクを蒸着装置から取り出すことなくクリーニングできる蒸着装置およびマスクのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、シリコンからなり所定の膜パターンに対応する開口部を有するマスクチップ２０と、マスクチップ２０が複数取り付けられた支持基板１０と、を有するマスク１を介して、ワーク２の被成膜面２ａに膜材料３２を堆積させる成膜室１１０，１２０と、成膜室１１０，１２０に接続されており、マスク１をクリーニングするプラズマ処理機構が設けられた処理室と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ピエゾ電界の悪影響を派生問題なく効果的に緩和若しくは最小化する。
【解決手段】各非縦方向成長部４の上面では、ｘｙ平面に平行にｒ面が結晶成長し、これらの個々のｒ面は、側壁面１ｂの近傍に若干のボイド５を形成しつつも、ストライプ溝Ｓを完全に覆い隠すまで結晶成長して、最終的には略一連の平坦面が形成される。この時以下の結晶成長条件下で５０分間、非縦方向成長部４のファセット成長を継続する。このファセット成長の条件設定は、継続的かつ順調なファセット成長を促進する上で重要である。また、下記の結晶成長速度は、ｒ面に垂直な方向の結晶成長速度である。
結晶成長温度 ： ９９０〔℃〕
結晶成長速度 ： ０．８〔μｍ／ｍｉｎ〕
供給ガス流量比（Ｖ／III 比）： ５０００ （もっと読む）

【課題】マスクを用いた堆積を含む方法によって基材上に材料の組み合わせライブラリを構築する方法に関し、ライブラリに含まれる個々の材料の組成範囲を任意に設定できる命令セット生成方法を提供する。
【解決手段】マスクを用いた堆積を含む方法によって基材上に材料の組み合わせライブラリを構築するための命令セットの生成方法であって、（ａ）コンピューターが、材料を構成する３つの成分群の堆積速度を入力等されるステップ、（ｂ）コンピューターが、３つの成分群のそれぞれを頂点とする三角組成図３０において、ライブラリを構築する組成範囲を、三角組成図における所定形状３１の位置及び大きさとして入力されるステップ、及び（ｃ）コンピューターが、三角組成図における所定形状の位置及び大きさ等に基づいて、マスクの移動速度に関する命令セットを生成するステップ、を含む。 （もっと読む）

【課題】蒸着法による成膜を行う場合において、所望の蒸着材料のみが蒸着されることを可能にし、蒸着材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な蒸着用基板を提供する。
【解決手段】基板上に開口部を有する反射層を形成し、基板および反射層上に透光性を有する断熱層をそれぞれ分離形成し、断熱層上に光吸収層をそれぞれ形成し、光吸収層上に材料層をそれぞれ形成することによって得られる蒸着用基板を作製する。 （もっと読む）

【課題】製造装置を大型化することなく基板に対して表示パネルを合理的に配置しつつも、画素内において蒸着膜の必要膜厚が確保された実効画素領域を広く確保することができ、これにより低コストで表示特性の良好な表示装置を得ることが可能な製造方法を提供する。
【解決手段】開口パターン３ａを備えた蒸着マスク３と長尺状のライン蒸着源１とを用いて基板５の画素ａ上に蒸着パターンを形成する表示装置の製造方法において、基板５上における表示パネル領域Ｐの配置方向に係わりなく、ライン蒸着源１の長手方向に開口パターン３ａおよび画素ａの長辺方向をそれぞれ一致させるように蒸着マスク３と基板５とを配置する。蒸着源５に対して基板５と蒸着マスク３とを相対的に移動させることにより、蒸着パターンを各画素ａに形成する。 （もっと読む）

【課題】精密に位置合わせした基板とマスクとの重合状態を確実に維持しつつこの基板と重り部材や磁石体とを良好に重合固定することが可能な成膜装置の提供。
【解決手段】成膜用マスク５とこの成膜用マスク５を重合した基板６の表面に薄膜を成膜する成膜手段とを備えた成膜装置であって、成膜用マスク５と基板６とを相対的に移動せしめて成膜用マスク５と基板６との位置合わせを行う位置合わせ機構と、この位置合わせ機構により位置合わせした成膜用マスク５と基板６とを重合固定する第一の重合固定機構と、この第一の重合固定機構により成膜用マスク５に重合固定された基板６とこの基板６の裏面側に配設され基板６を撓ませて成膜用マスク５に基板６を密着重合せしめるシート状の重り部材８または成膜用マスク５を基板６の表面側に磁気的に吸引して基板６に成膜用マスク５を密着重合せしめる磁石体14とを重合固定する第二の重合固定機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数枚の比較的大面積の基板に成膜が可能なスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】複数枚の基板４ａ，４ｂの表面に、同時に成膜が可能なスパッタリング装置Ｘ_０であって、基板４ａ，４ｂの表面に成膜される薄膜の材料から構成されたターゲット２と、ターゲット２と対向して配置される基板４ａ，４ｂを保持可能に構成された基板ホルダ３ａ，３ｂと、基板４ａ，４ｂをそれぞれ保持する複数個の基板ホルダ３ａ，３ｂを取り付けた成膜トレー１と、を有し、基板４ａ，４ｂは、基板４ａ，４ｂが成膜トレー１に対し所定の角度（α）を有するように傾斜させて基板ホルダ３ａ，３ｂに取り付けられたスパッタリング装置Ｘ_０。 （もっと読む）

本発明は、マイクロ電子工学の基板およびデバイスに、薄膜を選択的に堆積するための自己整合金属マスクアセンブリに関し、上記自己整合金属マスクアセンブリは、ａ）メタライズされるパターンを規定する穴または領域と、センタリング穴とを有する上方金属マスクと、ｂ）メタライズされる基板またはデバイスと同じサイズおよび形状の穴と、上記アセンブリをセンタリングするためのさらなる補助穴とを有する下方金属マスクと、ｃ）上記のパーツをセンタリングするために、上記補助穴と対応するロッドを備えるピースまたはベースとを備え、完全なアセンブリを固定し維持するための上方ピースまたはフレームは、ネジおよびわずかな圧力によって整合される。上記アセンブリは続いて、蒸着機のサンプルホルダに固定することができる。
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【課題】基板表面に異物があった場合でも陰極と陽極とのショートを防止可能な成膜装置および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜装置１００は、蒸着装置１１０と蒸着装置１２０とを備えた成膜装置であって、蒸着装置１１０と蒸着装置１２０とのそれぞれは、蒸着槽２０，６０と、蒸着槽２０，６０内に配置され基板３２を保持する保持部３０，７０と、蒸着槽２０，６０内に保持部３０，７０に対向して配置され膜材料を蒸発させる蒸着源４０，４２，９０と、を備え、蒸着装置１１０における保持部３０の基板保持面３０ａと蒸着源４０，４２との距離は、蒸着装置１２０における保持部７０の基板保持面７０ａと蒸着源９０との距離よりも短いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を低減した、透明導電性膜を形成するためのスパッタリング装置を提供すること。
【解決手段】スパッタリング装置３００は、基板を保持する基板保持部３０１と、基板保持部３０１とオフアクシスな位置に配置された対向するマグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂと、マグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂを収容するカソードボックス３０３と、マグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂの周囲に配置された防着板３１１および３１２とを備える。マグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂ上には、透明導電材料のターゲットがボンディングされる。基板保持部３０１とマグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂとの間にチムニー３０４が設けられている。本発明に係る防着板３１１および３１２は、ターゲットの透明導電材料と同程度の熱膨張係数を有する材料によりコーティングされている。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、蒸着膜厚を長時間にわたって高精度に制御することができる仕組みを提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ素子の製造装置は、有機ＥＬ素子の素子基板に有機材料からなる蒸着材料を蒸着させるとともに、素子基板に蒸着される蒸着材料の膜厚を監視する膜厚監視部２３を備える。膜厚監視部２３は、光透過性を有する測定用板２６と、この膜厚監視部２３の一部に蒸着材料を付着させるための蒸着窓３０を有する防着板２７と、測定用板２６を回転移動可能に支持する駆動機構２８と、蒸着窓３０を通して測定用板２６に付着した蒸着膜厚を光学的に測定する反射率測定器２９とを有する。 （もっと読む）

【課題】多層膜を一括で形成可能な蒸着方法を提供する。
【解決手段】２次元的に配列された蒸着源１１０が層構成の数に対応して蒸着材料毎に３つのグループ１１１、１１２、１１３に分かれており、各グループの蒸着源は発熱体１２０（１２１、１２２、１２３）によって、それぞれ独立して加熱・制御可能である。各蒸着源１１０は、充填された材料の９５％以上を、各層の成膜においてグループ毎に順次蒸発させる。蒸着源の交換を行うことなく複数の有機材料層からなる多層膜を一括で形成することができる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、被処理基板を成膜開始時から成膜終了時まで低い温度に保持することができるマスク蒸着方法、有機ＥＬ装置の製造方法、およびマスク蒸着装置を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着装置２００では、成膜前に、冷却エリア２９０において金属製の冷却ブロック３４０、金属製の蒸着マスク３１０および金属製のホルダ３２０を冷却する冷却工程を行ない、ホルダ３２０に支持された金属製の蒸着マスク３１０の上に第１基板１０を重ねるとともに、第１基板１０の上に冷却ブロック３４０を重ねた状態で成膜室２２０に搬入し、成膜工程を行なう。このため、第１基板１０は成膜前から成膜後にかけて低い温度に保持される。 （もっと読む）

【課題】基材と機能膜との密着性が優れた積層フィルム、積層体、光選択透過フィルター及びその積層フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも片面に機能膜を有する積層フィルムであって、上記基材は、機能膜非形成部を有することを特徴とする積層フィルム、上記積層フィルムを細断して得られる積層体、及び、光選択透過フィルター。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス終了後に再度成膜工程を実施可能とするための時間を短縮することで成膜工程の効率を向上させることが可能な膜厚モニタ装置及びこれを備える成膜装置を提供する。
【解決手段】 基板１１上に成膜材料１０が付着してなる薄膜の膜厚を測定するための膜厚モニタ装置５である。成膜材料１０が付着し、成膜材料１０の付着量によって共振周波数が変化する水晶振動子と、前記水晶振動子を囲むように形成され内部を熱媒が循環する熱媒循環路５ｂと、前記熱媒を循環させ、前記水晶振動子のメンテナンス時に前記水晶振動子に付着した成膜材料１０を除去するべく前記熱媒の温度を調整する熱媒温度調整手段５ｃと、を備えてなる。蒸着装置（成膜装置）Ａは、基板１１上に成膜材料１０を付着させて薄膜を形成するための真空室２を備え、真空室２に膜厚モニタ装置５を配設してなる。 （もっと読む）