【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができる蒸着用基板を用いることにより、蒸着材料の利用効率を高めるだけでなく、蒸着パターンを形成する上での精度を高めることができる発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着用基板である第１の基板に、マスク基板である第２の基板を介して第１の光（レーザ光）を照射することにより、第１の基板上の材料層をパターン形成する蒸着用基板の作製方法である。また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第１の基板に第２の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子の発光層を成膜する工程において、基板とマスクを密着させるためのマグネットの磁力による影響が発光層に及ぶのを防ぐ。
【解決手段】基板２０に対して、複数のパターニング開口領域３１とフレーム領域３２から構成されたマスク３０をマグネット１０を用いて密着させて、有機発光素子の発光層を蒸着する。マグネット１０は、基板２０の裏面側において、マスク３０のフレーム領域３２のみを吸着する。マスク３０のパターニング開口領域３１にはマスク１０の磁力が作用しないため、磁力によって発光層に発光ムラが発生するのを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光表示装置の製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】上記有機電界発光表示装置の製造装置は、チャンバと、基板がその上面に載置するように上記チャンバ内部に配置され、所定パターンの開口が形成されているマスクと、上記マスクの下側に配置されて上記マスクの開口を通して上記基板に膜が形成されるように蒸着物質を上記マスク側に供給する蒸着物質供給源と、上記基板の底面に上記マスクが密着されるように上記基板の上面を上記マスク側に加圧し、上記基板の曲がった形状に沿って変形して上記基板の上面を加圧する基板−マスク密着ユニットとを含む。 （もっと読む）

【課題】例えば、欠陥が低減された高品位の薄膜を形成可能なスパッタ装置を提供する。
【解決手段】排気経路部（１０）は、複数のターゲット（３）を相互に隔てる溝部（４）に臨む排気口を有している。排気経路部（１０）の途中には、バルブ（１２）が設けられている。バルブ（１２）は、スパッタ装置（１）がスタンバイ状態にある際、閉状態から開状態に切り換えられる。尚、排気経路部（１０）とは別に設けられた排気経路部（１１）の途中にもバルブ（１３）が設けられている。チャンバ（２）内のＡｒガスは、スパッタ装置（１）がスタンバイ状態にある際、排気経路部（１０）だけでなく、制御装置（１００）の制御下で駆動されるクライオポンプ（１４）の動作に応じて排気経路部（１１）を介しても排出される。 （もっと読む）

【課題】成膜基板の温度分布を改善し、成膜品質を向上させることのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板１の成膜面にマスク４を密着させて成膜する工程において、基板１の非成膜面側に背面冷却部材３を密着させて基板１の温度制御を行う。基板１の中央部が蒸発源に対向し、周辺部より高温になる場合は、背面冷却部材３の中央部に基板１との接触面積の大きい凸部３ａを設けることで、背面冷却部材３の冷却効率に分布をもたせて、基板１の温度分布を改善する。 （もっと読む）

【課題】端部同士が接続された複数の薄膜パターンを形成した際、その上方に大きな段差を発生させることのない固体装置、有機ＥＬ装置、およびそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】トップエミッションタイプの有機ＥＬ装置１００の補助配線層８４を形成するにあたっては、第１マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第１薄膜パターン８４ａを形成した後、第２マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第２薄膜パターン８４ｂを端部８４１ａ、８４１ｂ同士が平面視で重なるように蒸着し、第１薄膜パターン８４ａと第２薄膜パターン８４ｂとが繋げる。第１薄膜パターン８４ａおよび第２薄膜パターン８４ｂは、端部８４１ａに向けて膜厚が漸減しているため、端部８４１ａ、８４１ｂ同士の重なり部分８４ｅに大きな段差が発生しない。 （もっと読む）

【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にすることを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、金属窒化物を含む光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）

【課題】 薄膜エッチング方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 紫外光でフォトマスクを介して基板上の光学樹脂層について露光を行い、そして焙焼プロセスを通じてすでに露光された光学樹脂層を気化させ、また露光していない部分を残して薄膜として形成することで前記光学樹脂層の気化された箇所に補填し、再度紫外光で光学樹脂層に対して全面露光を行い、また再度高温焙焼を通じて基板上の光学樹脂層の全部を気化させ、必要な薄膜パターンを残すことで、設備と製造の低コストの状況において、薄膜エッチングの精度を向上させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング成膜において、磁性体を用いた場合のように、プラズマを制御するカソードマグネットとの間に磁場干渉が生じることのない基板押え機構を実現する。
【解決手段】フレーム６内の空間部５にガス供給手段７から加圧ガスを導入し、フィルム４を変形させて基板３に密着させる。そして、フィルム４とマスク２の間に基板３を挟持して、スパッタリングターゲット１に対向させ、スパッタリング成膜を行う。ガス供給手段７は、ガス導入口７ａ及び排気口７ｂを有し、空間部５内の加圧ガスの圧力を任意に調整することが可能である。加圧ガスとして、スパッタリングのプロセスガスを使用することで、フィルム４から加圧ガスが漏出した場合のプラズマの不安定化を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】粉末状の有機ＥＬ材料は取り扱うが難しく、大気に曝すと、すぐに特性が劣化してしまう。
【解決手段】粉末状の有機ＥＬ材料１２を、ガラス製のアンプル１３に封入してなる有機ＥＬ素子用材料１１の形態で、有機ＥＬ材料を取り扱う。そして、真空蒸着装置を用いて素子形成用基板上に有機層を形成する場合は、その有機ＥＬ素子用材料１１を蒸着源に投入した後、真空チャンバ内を減圧する過程で、アンプル１３を内外圧力差により開裂させ、これによって露出した有機ＥＬ材料１２を加熱して蒸発させる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの電気的特性を高精度かつ簡便に評価し得る手段を提供する。
【解決手段】ウエーハ面上に蒸着パターンを形成するための蒸着用マスク。少なくとも１つの貫通孔１を有する厚みが１μｍ以上５０μｍ以下のマスク層１を有し、上記マスク層１上に、該マスク層１が有する貫通孔１を塞ぐことなく磁性マスク２を有する。上記蒸着用マスクを使用する蒸着パターン作製方法。前記マスクを使用する半導体ウェーハ評価用試料の作製方法。前記方法によって半導体ウェーハ表面上に金属パターンを作製し、作製された金属パターンを介して半導体ウェーハの電気的特性を測定する半導体ウェーハの評価方法。前記評価方法を使用する半導体ウェーハの製造方法。 （もっと読む）

【課題】材料の無駄を減らし利用効率を向上させ、かつ被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を低コストで作製することを課題の一とする。
【解決手段】基板上に光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板に、基板を透過させて光吸収層に光を照射することによって、選択的に材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。光吸収層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、光吸収層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、基板及び光吸収層上に、有機化合物材料を含む粉体を散布し、加熱処理によって固定させて行う。 （もっと読む）

【課題】材料利用効率よく、または作業効率よく発光層などの有機薄膜を成膜し、発光装置を作製する製造装置を提供する。
【解決手段】ロード室、該ロード室に連結された共通室、および該共通室に連結された複数の処理室と、レーザ光源とを有し、予め処理室で第２の基板に材料層を形成しておき、共通室で第２の基板と第１の基板の位置合わせを行った後、第２の基板にレーザ光の走査を行い、第１の基板に選択的に成膜を行う。本製造装置は、共通室内で第１の基板に選択的な成膜を複数回行う。 （もっと読む）

【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にすることを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）

【課題】クロストークを回避して多元共蒸着における各蒸着源の蒸着レートを正確に測定する。
【解決手段】蒸着材料２を蒸発させる容器１に、基板方向に向いた開口部３ａを有する分岐配管部３と、基板方向に向かない開口部４ａを有する分岐配管部４を接続する。非蒸着時に、基板方向に向かない開口部４ａから放出される蒸着材料の蒸着レートを測定し、容器１の加熱機構にフィードバックさせ、蒸着レートを安定化する。蒸着時には、基板方向に向いた開口部３ａから蒸気を放出させる。蒸着レートを測定するときの開口部４ａを基板方向と異なる方向に向かせることでクロストークを回避する。 （もっと読む）

【課題】材料と被成膜基板との間にマスクを設けることなく、被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を作製することを課題の一とする。
【解決手段】反射層、光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板を透過して、光吸収層にレーザ光を照射することによって材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。反射層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、反射層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、湿式法を用いて行う。 （もっと読む）

【課題】成膜材料の蒸気を放出する開口位置と基板との距離を一定に保ち、安定した成膜を行う。
【解決手段】材料収納坩堝１０１の有機材料１０６を加熱して蒸発させ、複数のノズル１０４から真空チャンバー内に噴出させる。成膜中にノズル１０４が熱膨張によって変形し、ノズル先端位置が変化して成膜が不安定になるのを防ぐために、各ノズル１０４に嵌合する開口部１０７ａを有する開口制御部材１０７を設ける。開口制御部材１０７は、ノズル１０４等とは独立して真空チャンバー内に固定する。 （もっと読む）

【課題】対象物の所望の領域に簡単に金属膜を成膜することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置１に、金属を収納する金属収納器と、金属収納器に収納された金属を加熱して金属蒸気を発生させるヒータと、金属蒸気を送出する送出口９において開口するとともに金属蒸気を送出口９まで誘導する中空部を形成され、中空部に面する内表面部が金属蒸気の蒸着を抑制する蒸着抑制材により形成された蒸気誘導器４とを設ける。 （もっと読む）

【課題】薄いフィルムでも金属蒸着電極形成時に熱ダメージを受けない金属化フィルムの製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ＰＰフィルム１上にマスク部を形成するパターン形成部４と、マスク部以外に金属蒸着電極を形成する蒸着部５を有し、パターン形成部４が、オイルを気化・噴出させるオイルタンク６と、オイルが付着して回転する転写ロール７と、転写ロール７のオイルが転写される凸版部を備えてＰＰフィルム１表面にパターンを印刷する印刷ロール８と、ＰＰフィルム１裏面に当接するバックアップロール９からなり、転写ロール７、印刷ロール８、バックアップロール９の少なくとも一つに冷却機構を設けた構成により、ＰＰフィルム１に加わる熱を低下できるため、薄いＰＰフィルム１を用いても熱ダメージを受けず、優れた性能と品質の金属化フィルム１ａを安定して生産できる。 （もっと読む）

【課題】薄いフィルムでも金属蒸着電極形成時に熱ダメージを受けない金属化フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ＰＰフィルム１上にマスク部を形成するパターン形成工程と、マスク部以外に金属蒸着電極を形成する蒸着工程とを有し、厚さが２．５μｍ以下のＰＰフィルム１を用い、パターン形成工程においてＰＰフィルム１を冷却しながらマージンを形成する方法により、ＰＰフィルム１に加わる熱を低下できるため、厚さが２．５μｍ以下の薄いＰＰフィルム１を用いて金属化フィルム１ａを作製してもＰＰフィルム１が熱ダメージを受けないため、優れた性能と品質の金属化フィルム１ａを安定して生産できる。 （もっと読む）