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Fターム[4K029BB03]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜構造 (4,668) | 被膜形態 (3,472) | 部分被膜、模様被膜 (622)

Fターム[4K029BB03]に分類される特許

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【課題】蒸着工程時基板の重量によりマスク組立体のパターンが変形されることを防止して、蒸着精密度を向上させることができるマスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置を提供する。
【解決手段】開口部120及び開口部を囲んだフレーム110を含むフレームマスク100と;一つまたは複数のパターンが形成されるパターン部及び引張されてフレームと接合(溶接、半田付け、ロウ付け等)される接合部を含むパターンマスク200;及び開口部を横切って、パターンマスクと接合(溶接、半田付け、ロウ付け等)される支持台300を含むマスク組立体に関する。チャンバーと;チャンバーの下側に位置する蒸着源;及び蒸着源上に位置し、基板を支持するためのマスク組立体を含むことを特徴とする平板表示装置用蒸着装置に関する。 (もっと読む)


開示されたものは、ガスクラスターイオンビーム(GCIB)システム(100,100’100’’)において、プロセスガスの混合物、又は多重のプロセスガスの混合物、を導入するためのマルチ−ノズル及びスキマーの組み立て品、並びに基体(152,252)に層を成長させる、それを変更する、それを堆積させる、又はそれをドープするための動作の関連させられた方法である。多重のノズル及びスキマーの組み立て品は、少なくとも部分的にそれから単一のガスクラスタービーム(118)へと放出されたガスクラスタービームを合体させるために相互の近接で配置された、及び/又は、交差するガスクラスタービームのセットを形成するために、及び、ガススキマー(120)へと単一の及び/又は交差するガスクラスタービームを向けるために、単一の交差する点(420)に向かって各々のビームを収束させるために角度が付けられた少なくとも二つのノズル(116,1016,2110,2120,4110,4120,7010,7020)を含む。
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【課題】有機EL表示装置の製造工程で用いられる、従来より薄いマスク装置のシャドーマスクを提供する。
【解決手段】基板6が真空処理装置10内に搬入され、マスク装置1と基板6との位置合わせが行われる。マスク装置1は、枠体8と、枠体8上に配置される金属からなるテープ状のシャドーマスク2と、シャドーマスク2の一端を固定する固定装置3と、シャドーマスク2の他端部を水平方向から鉛直方向に変換する変換部材4と、他端に取り付けられた重り5とを有しており、重り5によってシャドーマスク2に張力が印加される。シャドーマスク2は、張力により弛まないので基板6との間に反応プラズマが入らない。従来より薄いシャドーマスク2によって、マスク装置1の周辺部分にある基板6表面も、より均一に成膜する事が出来る。 (もっと読む)


【課題】シャドウマスクの反りの影響を低減し、高精度に蒸着できる有機ELデバイス製造装置及び成膜装置並びにそれらの製造方法及び成膜方法を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバ内で基板とシャドウマスクとのアライメントを行ない、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記基板を保持し、立てた姿勢に保持する基板ホルダーと、前記シャドウマスクを前記立てた姿勢の前記基板に対面するように保持するシャドウマスク保持手段とを有し、シャドウマスクの反りによる蒸着時の影響を低減することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】真空チャンバーを大気開放することなく、膜厚センサーの振動子を繰り返し再生して使用することを可能にする。
【解決手段】複数の振動子5を振動子ホルダー6上に設置し、検知部3に位置する振動子5の表面にある程度の膜厚の蒸着膜が堆積したら、振動子ホルダー6を回転させ、誘導電極9を有する再生部8に移動させる。誘導加熱によって振動子5の表面の蒸着膜を再蒸発させて再生する間、検知部3に位置する振動子5を測定に使用する。この工程を繰り返すことで、真空チャンバーを大気開放せずに膜厚センサーを再使用して蒸着を続けることが可能になる。 (もっと読む)


【課題】高密度な有機薄膜をマスク成膜で成膜する
【解決手段】本発明に用いるマスク70は、貫通孔72の内壁面が傾斜し、貫通孔72は基板7側程狭く、放出装置50側程広くなっている。従って、マスク本体71の厚さが50μm以上200μm以下と厚い場合であっても、貫通孔72の底面74縁部分に斜めに入射する蒸気も基板7に到達可能であり、膜厚均一な有機薄膜8が形成される。マスク本体71が厚いため、マスク70は変形し難く、洗浄等によって再利用が可能であり、成膜精度も落ちない。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも一つの電気伝導性があるフィルム20を基板30上に蒸着するための方法に関する。当該方法は − フィルム材料の層10であって、当該層10はマスク部40を前面11に有し、当該層10と当該マスク部40とは一つの部分である、フィルム材料の層10を選択するステップと、 − 前記層10の前面11を基板30上に位置決めするステップと、 − 溶解液滴110が前記基板30の方へと推進され、当該基板30上に蒸着されて前記フィルム20を形成し、前記マスク部40にある少なくとも一つの溝45が前記溶解液滴110の飛散を制限するよう前記層10の少なくとも一部を溶解し蒸発させるために、少なくとも1回のレーザパルス120を前記層10の背面12上へ印加するステップと、を含んでいる。
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【課題】材料容器から放出口まで連なる輸送管温度の影響が、輻射あるいは伝導により材料容器に及ぶことにより、材料容器への材料補充や交換のための装置停止期間が長時間に及び、装置の稼動効率が低下するのを防ぐ。
【解決手段】材料容器10において気化した成膜材料を放出口20へ輸送するための輸送管14と材料容器10の間は、材料容器10を輸送管14から取り外し交換可能とする連結部13によって接続されている。輸送管14を加熱する加熱手段を複数に分割し、連結部13の近傍の輸送管14の温度を残りの部位から独立して制御するための連結部加熱手段16を設ける。材料容器交換等のために成膜を停止するときは、材料容器加熱手段11及び連結部加熱手段16を輸送管加熱手段15より先に停止する。 (もっと読む)


【課題】耐久力が高く、コストの低い位置合わせ機能付き基板載置装置と、その基板載置装置を有する成膜装置を提供する。
【解決手段】載置台12の四辺に貫通孔9を設け、貫通孔9内に筒部3と、筒部3に挿通した軸部4を配置する。軸部4の上端にフランジ部8を設けておき、筒部3と軸部4を上昇させて、載置台12の上方に位置する基板20をフランジ部8に乗せ、四辺のうちの二辺の軸部4を傾斜機構によって、他の二辺である位置決め辺の軸部4に向けて傾斜させ、基板20を押圧して位置決め辺の軸部4の側面に接触させ、位置決めを行う。カメラやXYθステージが不要であり、精度よく位置合わせできる。 (もっと読む)


【課題】有機EL用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、基板から飛散した遊離生成物を有機EL用マスクに再付着させないようにすることを目的とする。
【解決手段】有機EL用マスク2に付着した蒸着物質VMを除去する有機EL用マスククリーニング装置であって、有機EL用マスク2を立てた状態で保持するマスク保持手段3と、有機EL用マスク2の表面に直交する方向からレーザ光を照射して蒸着物質VMを破砕して生じる遊離生成物を有機EL用マスク2から飛散させるレーザ洗浄手段4と、を備えている。有機EL用マスク2は立てられた状態に保持され、遊離生成物は有機EL用マスク2から離間した方向に向けて飛散して自由落下するため、遊離生成物が有機EL用マスク2に再付着しなくなる。 (もっと読む)


本発明の教示内容は、OLEDや他の種類のディスプレイ装置の一部を成す1以上の基材の上に、1以上の材料(例えば、1種以上の固体など、1以上の薄膜)を積層するための装置および方法に関する。いくつかの実施の形態での開示内容は、1以上の基材の上にインクを積層するための装置および方法に関する。こうした装置には、例えば、インクを格納する1以上のチャンバと、1以上のチャンバ内にあってインクの液滴を噴射するように構成された複数の開口部と、例えば矩形配列の形を取る微細孔配列を有する放出ノズルと、を有し、各微細孔は入口ポートと出口ポートと有し、放出ノズルはチャンバから開口部を介して入口ポートで複数のインク液滴を受け取り、出口ポートから放出する。インク液滴は、放出ノズルの入口ポート上に間隔をあけて定められた固有の位置で受け取られる。いくつかの実施の形態では、複数(例えば3つ)の開口部を有する単一の液体インク格納チャンバが、複数の粒子が懸濁した液体の状態のインクを受け取り、インク液滴はチャンバからほぼ同時に、放出ノズル上の間隔をおいた別々の位置に向けて放出され、放出ノズルはキャリア液を蒸発させてから、固体の粒子を1以上の基材に積層する。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Bを収容可能な真空チャンバ1と、該真空チャンバ1内に設けられて蒸着材料Mを収容する坩堝12と、該坩堝12を加熱して蒸着材料Mを気化させる加熱源3とを備え、該加熱源3は、坩堝12への加熱量を坩堝12の位置に応じて異ならせていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Bを収容可能な真空チャンバ1と、該真空チャンバ1内に設けられて蒸着材料Mを収容する坩堝2と、該坩堝2を加熱して前記蒸着材料Mを気化させる加熱源3と、坩堝2の底部2cに分散配置され坩堝2を支持すると共に、坩堝2と真空チャンバ1の床部1aとの間で伝熱する複数の支持部5とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


エッジシーリングされ、かつカプセル化された環境感応性素子の生成方法が提供される。一つの方法は、基板上で接触部と共に環境感応性素子を提供する段階;印刷工程を用いて、不連続領域を有し、環境感応性素子をカバーしつつ、接触部をカバーしないデカップリング層を、環境感応性素子に隣接して蒸着する段階;デカップリング層の不連続領域より広い第1領域を有し、デカップリング層をカバーし、接触部をカバーする第2領域を有する第1バリア層を、デカップリング層に隣接して蒸着する段階であって、前記デカップリング層は、第1バリア層と、基板またはオプションとしての第2バリア層の端部との間でシーリングされる段階;接触部から第1バリア層の第2領域を除去する段階;を含む。 (もっと読む)


【課題】光による加熱成膜法により正確なパターンで、かつ良質な膜を成膜し、高繊細な発光装置を生産性よく作製できる技術を提供することを課題の一とする。
【解決手段】光による加熱成膜法において、光吸収層への光照射工程を、光照射時間を0.1ミリ秒以上1ミリ秒未満(より好ましくは0.2ミリ秒以上0.5ミリ秒未満)とし、かつ光源から光吸収層に向かって照射されるエネルギー密度を2×10W/cm以上2×10W/cm以下(より好ましくは2×10W/cm以上1×10W/cm以下)とする。さらに、成膜する材料層(有機化合物材料を含む層)が設けられた成膜用基板と、対向して配置される被成膜基板とを、材料層表面と被成膜面との間隔dを0<d≦10μm(より好ましくは0<d≦5μm)とすることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行
なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、
および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置100において、被処理基板20の搬送経路に沿って
、蒸着源120および蒸着用マスク131、132を備えた第1蒸着エリア110と、蒸
着源220および蒸着用マスク231、232を備えた第2蒸着エリア210と設けてお
き、被処理基板20を第1蒸着エリア110および第2蒸着エリア210において蒸着用
マスク131、132、231、232と重なる位置で一時停止させながら被処理基板2
0を搬送経路に沿って搬送する。 (もっと読む)


【課題】洗浄液や異物の残留を抑えることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】枠体40に、マスク本体50と対向する面に、開口41に沿って段差部42を設け、この段差部42により、枠体40およびマスク本体50の間に隙間Gを形成する。隙間Gには、段差部42と同じ高さの間隙保持部43を点在させる。蒸着用マスク1を洗浄する際、洗浄液は隙間Gを流れ、隙間Gまたは貫通孔45から排出される。よって、洗浄液がリンス液に置換されずにマスク本体50と枠体40との間に残ってしまい、表面張力でマスク本体50と枠体40とが密着してしまうことによる精度悪化が抑えられる。また、残った洗浄液や異物などからのガス発生により、蒸着のための真空室内にフッ素系の材料などが混入し、有機発光素子の寿命に影響を及ぼすおそれも小さくなる。 (もっと読む)


【課題】 有機発光装置などの薄膜をマスク蒸着で形成するにあたって、大判の膜厚を均一に保ちながら、画素のパターニングが精度良くできる蒸着装置を提供する。
【解決手段】 大判の膜厚を均一にするために、材料の蒸気を放出する放出口を複数備えた蒸着装置を用いる。この際、蒸着源からの輻射熱を受けて、基板およびマスクが熱膨張により伸びてアライメント位置からずれることを防ぐため、遮熱部材を配置する。このとき、遮熱部材が材料の流れを阻害しないよう、遮熱部材の開口が対応する放出口が熱膨張により水平方向に変動する範囲を含むよう設定する。 (もっと読む)


【課題】NDフィルタの切断部の反射によるゴースト、フレアの発生を防止する。
【解決手段】透明樹脂フィルム35上にND膜を形成したNDフィルタ21の外周切断部のうち、撮像機器の開口内に露出する切断面21aの切断方向が透明樹脂フィルム35の主延伸方向と略直交方向になるように、NDフィルタ21を切断加工する。 (もっと読む)


【課題】ノズルでの蒸着物質の凝縮を防止することができる蒸発源を提供する。
【解決手段】蒸着物質が位置し、一部分が開口された蒸着物質貯蔵部と、開口された部分に連結され、蒸着物質を噴射するための開口部を有するノズル部30と、ノズル部30の少なくとも一部の角部を取り囲む反射板50と、蒸着物質貯蔵部を取り囲むハウジング60と、ハウジング60と蒸着物質貯蔵部との間に介在される加熱部と、を含む蒸発源100と、基板を支持するチャンバーとを含む。 (もっと読む)


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