【課題】クティブマトリクス型の発光装置を作製するにあたり、従来に比べ短時間内で製
造でき、且つ、低コストで歩留まりよく製造できる構造及び方法を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス型の発光装置の画素部に配置されるＴＦＴの半導体層
に接して形成される金属電極、或いは電気的に接続される金属電極を積層構造とし、部分
的にエッチング加工する。そして、エッチング加工された金属電極を発光素子の第１の電
極とし、その上にバッファ層と、有機化合物を含む層と、第２の電極とを積層することを
特徴とする。 （もっと読む）

【課題】工程数の少ない手法でギャップ間距離が小さく、さらに様々な電極形状が調製可能であるナノギャップ電極の製造方法を得る。
【解決手段】先端が９０度又は鋭角である角を備えた電極材料を基板上に形成し、この電極材料にレーザー光を照射して、鋭角の角の一部を切り離して微小電極を形成すると共に該微小電極と残余の電極本体との間にナノスケールのギャップを形成するナノギャップ電極の製造方法。基板上に１０〜１００μｍのサイズのポリマー又はセラミックスビーズを均一に展開し、この上に電極材料をＰＶＤ法又はＣＶＤ法により被覆し、このビーズを除去することにより基板上に三角錐の電極材料を残存させ、この三角錐の電極材料にレーザー光を照射し、鋭角の角の一部を切り離して微小電極を形成し、該微小電極と残余の電極本体との間にナノスケールのギャップを形成するナノギャップ電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】複数の隔壁を用いて、るつぼの内部空間を分離する線形蒸発源において、るつぼの分離された空間に残存する蒸発物質量の偏差を最小化し、成膜の不均一が防止できる線形蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】一側が開口され、蒸発物質を保存するるつぼ３２０と、るつぼの内部空間を分割し、下部に１つまたは複数の貫通ホール３２５ｂが形成される複数の隔壁３２５と、るつぼの開口側に位置し、複数のノズル３３５を含むノズル部と、るつぼを加熱するための加熱手段３４０と、るつぼ、ノズル部、及び加熱手段を収納するためのハウジング３１０とを含む線形蒸発源３００。また、工程チャンバ２００と、該工程チャンバの一側に位置する線形蒸発源３００と、線形蒸発源に対向するように位置する基板ホルダ５００とを含む蒸着装置１００。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとの間の静電気を除去できる薄膜蒸着装置及びこれを利用した静電気除去方法を提供する。
【解決手段】基板１１０を支持するホルダー１０２と、基板の一面に対向するように配されるマスク１０３と、基板とマスクとの間に発生した静電気をマスクに電流を流して除去する静電気除去部１２０と、を備える薄膜蒸着装置とする。 （もっと読む）

【課題】 リフトオフ加工を前提とするスパッタリング装置において、リフトオフ後にバリが残るという不具合を確実かつ安定的に解消する。
【解決手段】 本発明に係るスパッタリング装置１０の真空槽１２内は、差圧シールド２６内の空間２４と、それ以外の空間４０とに、隔離されている。そして、差圧シールド２６内の空間２４に、ターゲット１４が配置されており、それ以外の空間４０に、基板３４が配置されている。さらに、高いエネルギを持つプラズマ２２は、差圧シールド２６内の空間２４に閉じ込められる。これにより、基板３５上に付着した被膜粒子がプラズマ２２の影響を受けて当該基板３５上で移動するというスパッタリング法特有の性質が抑制される。この結果、基板３４上に形成された逆パターンのアンダーカット部への被膜粒子の回り込みが防止され、ひいてはリフトオフ後にバリが残るという不都合が解消される。 （もっと読む）

【課題】 長期に亘って安定した分光特性をもちグラデーション濃度分布を有する薄膜型ＮＤフィルタを実現させる。
【解決手段】 基板上に誘電体層と光吸収層を複数層に積層する光減衰膜の形成において、その誘電体層はその原料物質の原子層レベルでの全面付着（ステップＳ１）とその酸化または窒化性雰囲気への曝露（ステップＳ２）を繰り返して所定の膜厚にする。続いて、その光吸収層はその原料物質のスパッタリングによるマスク開口を通した原子層レベルの付着と（ステップＳ４）とその酸化性／窒化性雰囲気への曝露（ステップＳ５）を繰り返して所定の膜厚にする。上記誘電体層は緻密性に優れ酸素を通し難い良質の膜となる。また、上記光吸収層は膜厚が傾斜変化し安定した組成の原料物質の酸化物あるいは窒化物を含む膜となる。 （もっと読む）

【課題】蒸着パターンの位置ずれを抑え所望の位置に精度よく蒸着を行うことができ、コンパクトで使用しやすい蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】被処理基板上に蒸着源から蒸発した蒸着材料を成膜する蒸着パターンに対応するマスク開口部２２が形成されたチップ２０と、チップ２０を保持する支持基板３０とを有し、チップ２０の一方面を被処理基板に重ね合わせた状態で蒸着に用いられる蒸着用マスク１において、熱遮蔽板４０がマスク開口部２２を遮らないように断熱部材４１を介して支持基板３０の蒸着源の側に配設されている。 （もっと読む）

【課題】熱による蒸着物質の変性を防止し、材料の利用効率を高めることができる蒸着源、それを備えた蒸着装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】蒸着物質を冷却しながら保存し、前記保存された蒸着物質を加熱しながら供給する第１及び第２蒸着源部と、前記第１及び第２蒸着源部に接続され、前記第１または第２蒸着源から供給される蒸着物質が移動する移送部と、前記移送部に接続され、前記移送部を経て供給される蒸着物質を噴出するノズル部と、を含むことを特徴とする蒸着源。 （もっと読む）

【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ層が形成される基板１が蒸着室５内に垂直に設置され、基板１の上には、有機ＥＬ層を選択的に蒸着するためのファインメタルマスク４が配置されている。有機ＥＬ層の材料となる蒸発源８が蒸着室外に配置されている。ノズルが線状に配置した蒸発ヘッド３と蒸発源８とは軟らかい配管７によって接続している。蒸発ヘッド３を、ノズルの配置方向と直角方向に移動させることによって、基板１に有機ＥＬ層を蒸着する。蒸発ヘッド３と蒸発源９とを軟らかい配管７で接続することによって、蒸発ヘッド３のみを移動させることが可能になり、装置の機構を簡略化でき、また、可動機構から発生する不純物による有機ＥＬ層の汚染を防止することが出来る。 （もっと読む）

【課題】蒸着パターンの位置ずれを抑え所望の位置に精度よく蒸着を行うことができる成膜用マスクを提供する。
【解決手段】被処理基板上に蒸着源から蒸発した蒸着材料を成膜する蒸着パターンに対応するマスク開口部が形成されたチップと、チップを保持する支持基板とを有し、チップの一方面を被処理基板に重ね合わせた状態で蒸着に用いられる成膜用マスクにおいて、断熱層４１が支持基板３０の蒸着源の側に形成され、熱遮蔽層４２が断熱層４１の露出する部位全体を覆うように蒸着源の側の支持基板３０の全体に亘って形成されている。 （もっと読む）

【課題】ダウンデポジションで蒸着を行う場合に、基板の成膜面に蒸着させた膜にマスクから落下したパーティクルが付着しないようにする。
【解決手段】蒸着用容器２内で、成膜面３ａを上向きに保持した基板３に、蒸着源で加熱された材料を蒸発させて成膜を行う蒸着装置１である。蒸着用容器２内の、放出用容器１４の下方に固定配置されたマスク保持台９と、基板３を載せ、マスク保持台９に保持されたマスク１１に対して接離移動自在に設けた基板ホルダー６を具備する。基板ホルダー６をマスク１１に接近移動させて材料を基板３の成膜面３ａに蒸着する時、マスク１１と基板３の間に隙間を設ける。
【効果】成膜終了後の基板交換時にマスクからパーティクルが落下せず、基板に蒸着した膜にパーティクルが付着するのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、基板やマスクの撓みを低減し高精度に蒸着できる、または搬送チャンバを小型化できる、あるいは駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高いまたは稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置またはその製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空チャンバ内での基板とマスクとのアライメントを前記基板または前記マスクを具備する垂下体として垂下した状態で行い、該基板に蒸着材料を蒸着する際に、前記垂下体上の接触部を移動させて前記垂下体を垂直にし真空チャンバ内に搬送し、前記位置合せ位置にセットし、前記垂下体の垂下体接触部と前記搬送する搬送手段の前記垂下体接触部との搬送接触部とを離反し、その後前記アライメントを行なうことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】凹面レンズに膜厚ムラの無い反射防止膜を成膜する。
【解決手段】ターゲット１０に平行に設置された膜厚調整用のマスク２を介して、スパッタ法によって凹面レンズ１に反射防止膜を成膜する。マスク２は、凹面レンズ１のレンズ口径Ｄより小さい開口径Ａを有する円形の開口部２ａを備える。マスク２の開口部２ａを、凹面レンズ１の端縁における接平面の内側に配置して、凹面レンズ１を自転させながら成膜することで、曲率半径Ｒの小さい凹面レンズ１に対する膜厚の均一化を図る。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】 基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により所定のパターンを有する複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃを形成する工程と、これらの樹脂層５ａ〜５ｃに、ＣＦ_４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むことにより撥液化処理７を施し付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃとする工程と、複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃを含む基材の表面に膜材料を堆積し、これら複数種類の樹脂層それぞれの表面に、種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、しかも、簡便な方法により、膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】基材１の表面に撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜上に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層５を形成する工程と、樹脂層及び撥液膜に親液化処理を施す工程と、樹脂層のみに撥液化処理７を施す工程と、樹脂層を含む撥液膜上に蒸着材料８を堆積し、この蒸着材料を、樹脂層以外の撥液膜上に集合させ、この集合した蒸着材料を膜９とする工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層５を形成する工程と、この樹脂層５に、ＣＦ_４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むことによりフッ素化処理７を施す工程と、樹脂層５を含む撥液膜２上に蒸着材料を堆積し、この蒸着材料を、樹脂層の付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する領域以外の撥液膜上に集合させ、この集合した蒸着材料を膜とする工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 微細な蒸着パターンに対応することができ、また、作業性を向上させることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】 蒸着源３から蒸発した蒸着材料４を被蒸着部材（透光性基板）１に所定のパターンで蒸着させるための開口部２ａを有する１層の金属板からなる蒸着用マスク２である。開口部２ａは、大きさの異なる被蒸着部材側開口部２ａ１と蒸着源側開口部２ａ２とからなり、蒸着源側開口部２ａ２は被蒸着部材側開口部２ａ１より大きく形成されてなることを特徴とする蒸着用マスクである。前記金属板の両面からエッチング処理を行うことによって被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２を形成してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、しかも、簡便な方法により、膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により、付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する樹脂層５を形成する工程と、樹脂層５を含む撥液膜２上に蒸着材料６を堆積し、この蒸着材料６を、樹脂層５の付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する領域以外の撥液膜２上に集合させ、この集合した蒸着材料６を膜７とする工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】支持基板上に形成した昇華温度が異なる２種以上の成膜材料を含む材料層を、加熱処理により被成膜基板上に成膜する方法において、昇華温度の異なる２種以上の成膜材料が濃度勾配を生じることなく成膜されることを課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成される吸収層と、吸収層上に形成され、第１の成膜材料、第２の成膜材料及び下記数式（１）を満たす高分子化合物を含む材料層とを有する第１の基板の一方の面と、第２の基板の被成膜面とを対向させて配置し、第１の基板の他方の面側から加熱処理をすることで、第２の基板の被成膜面に第１の成膜材料と第２の成膜材料とを含む層を形成する成膜方法。


（式（１）中、Ｓは、高分子化合物のガラス転移温度（℃）を示し、Ｔ_ａは、第１の成膜材料又は第２の成膜材料の昇華温度（℃）のうち高い温度（℃）を示す） （もっと読む）