成膜方法
【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により所定のパターンを有する複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃを形成する工程と、これらの樹脂層５ａ〜５ｃに、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むことにより撥液化処理７を施し付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃとする工程と、複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃを含む基材の表面に膜材料を堆積し、これら複数種類の樹脂層それぞれの表面に、種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により所定のパターンを有する複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃを形成する工程と、これらの樹脂層５ａ〜５ｃに、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むことにより撥液化処理７を施し付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃとする工程と、複数種類の樹脂層５ａ〜５ｃを含む基材の表面に膜材料を堆積し、これら複数種類の樹脂層それぞれの表面に、種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材上に所定のパターンの膜を形成する成膜方法として、マスクを用いた蒸着法が広く利用されている。
この蒸着法は、基材上に、成膜すべき蒸着膜と同一のパターンの開口部を有するマスクを配置し、このマスクを介して前記基材上に蒸着材料を堆積させ、このマスクを除去することにより、基材上に所定のパターンの蒸着膜を成膜する方法である。
また、リフトオフによる蒸着膜の成膜方法も提案されている。この方法は、基材上に、逆テーパー状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンを含む基材上に蒸着材料を堆積させて蒸着膜を成膜し、その後、リフトオフ操作によりレジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去し、基材上に所定のパターンの蒸着膜を形成する方法である（特許文献１参照）。
【０００３】
さらに、基材上に化学的気相堆積法（ＣＶＤ法）により所定のパターンの膜を成膜する方法としては、予め、基材の表面に、膜形成領域と、この膜形成領域より濡れ性が低く膜を形成し難い非膜形成領域とを形成しておき、この基材上に膜の原料となる飛来物を、この膜形成領域と非膜形成領域との飛来物に対する濡れ性の違いを利用して膜形成領域に集めるとともに、集められた飛来物を化学反応して得られた反応生成物により、基材上に所定のパターンのＣＶＤ膜を形成する成膜方法も提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１２０４４３号公報
【特許文献２】特開２００５−２１３５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のマスクを用いた蒸着法では、得られた蒸着膜のパターン精度を一定に保ち続けるためには、一定期間毎にマスクを洗浄し、交換する必要があり、マスクのメンテナンスに時間と手間が掛かり、製造コストが上昇する一因になっている、という問題点があった。
また、従来のリフトオフによる成膜方法では、レジストパターンを形成するのに時間と手間を要する上、レジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去する必要があることから、レジスト材料及び蒸着材料に無駄が生じ、特に貴金属材料の場合、無視出来ない量になるという問題点があった。
【０００６】
さらに、これらの方法では、例えば、少量多品種生産の場合、品種毎にマスクを作製する必要があるが、マスクの製造には一定の期間が必要になるために、特に、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等では、マスクの製造が間に合わず、対応が難しくなるという問題点があった。
さらにまた、ＣＶＤ膜を形成する成膜方法では、確かに、マスクやレジストを用いずにＣＶＤ膜を成膜することができるものの、このＣＶＤ膜を安価に得ることが難しいという問題点があった。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような成膜方法を提供した。
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となり、得られた樹脂層は材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、したがって、樹脂層の付着エネルギーは小さなものとなる。
また、種類毎に付着エネルギーを異ならせることにより、基材の表面には、種類毎に付着エネルギーの異なる樹脂層が複数種類形成されることとなり、よって、この基材の表面は、これらの樹脂層により、付着エネルギーの異なる複数種類の領域に区分されることとなる。
【００１０】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、基材の表面に集合するとともに、複数種類の樹脂層のうち、付着エネルギーの小さな樹脂層上には少なく、また、付着エネルギーの大きな樹脂層上には多く集合することとなり、その結果、複数種類の樹脂層を含む基材の表面に、選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１１】
また、インクジェット法により所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
特に、基材、複数種類の樹脂層、及び種類毎に異なる厚みの膜が光透過性を有するものとすれば、光透過率の異なる複数種類の膜を形成することができる。したがって、光透過率の違いを利用することで美的外観に優れた光部材や光製品を提供することができる。
【００１２】
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、前記基材の表面を撥液化処理する工程と、前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となり、得られた樹脂層は材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、したがって、樹脂層の付着エネルギーは小さなものとなる。
また、種類毎に付着エネルギーを異ならせることにより、基材の表面には、種類毎に付着エネルギーの異なる樹脂層が複数種類形成されることとなり、よって、この基材の表面は、これらの樹脂層により、付着エネルギーの異なる複数種類の領域に区分されることとなる。
【００１４】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、撥液化処理が施された基材の表面に集合するとともに、複数種類の樹脂層のうち、付着エネルギーの小さな樹脂層上には少なく、また、付着エネルギーの大きな樹脂層上には多く集合することとなり、その結果、複数種類の樹脂層を含む基材の表面に、選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１５】
また、基材の表面に撥液化処理を施したので、高精細な樹脂層のパターンが形成可能となり、それに伴って膜の精度を高めることができる。
また、インクジェット法により所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
特に、基材、複数種類の樹脂層、及び種類毎に異なる厚みの膜が光透過性を有するものとすれば、光透過率の異なる複数種類の膜を形成することができる。したがって、光透過率の違いを利用することで美的外観に優れた光部材や光製品を提供することができる。
【００１６】
本発明においては、前記複数種類の樹脂層は、その種類毎に、樹脂及び添加剤のうち少なくとも一方の組成を異ならせることにより、その種類毎に付着エネルギーを異ならせることとしたことが好ましい。
この構成によれば、インクジェットにより吐出する樹脂及び添加剤を含む液滴の組成を変更するだけで、基材の表面に、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を容易かつ短時間にて形成することができる。したがって、少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができ、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
【００１７】
本発明においては、前記樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層を、複数の樹脂層を積層してなる積層構造とすることで、樹脂層の厚みを実質的に厚くすることができ、材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御が可能となる。その結果、積層構造上に堆積した膜材料を容易に落下させることができる。したがって、積層構造を含む基材の表面に膜材料を堆積した場合、膜材料は、複数種類の樹脂層のうち、積層構造の樹脂層上には少なく、また、積層構造以外の樹脂層上には多く集合することとなり、その結果、複数種類の樹脂層を含む基材の表面に、樹脂層の種類毎に厚みの異なる膜を形成することができる。
【００１８】
本発明においては、前記複数種類の樹脂層は、表面を撥液化処理してなることが好ましい。
この構成によれば、複数種類の樹脂層各々の表面を撥液化処理することで、これら複数種類の樹脂層と基材の表面との間の付着エネルギーの差を大きくとることができる。その結果、樹脂層上に形成される膜の厚みと基材の表面に形成される膜の厚みとの差を大きくとることができる。
特に、基材、複数種類の樹脂層、及び種類毎に異なる厚みの膜が光透過性を有するものとすれば、これらの間の光透過率の差がより大きなものとなり、光透過率の違いをより効果的に利用することができる。
【００１９】
本発明においては、前記撥液化処理は、前記樹脂層の種類毎に異なることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層の種類毎に異なる撥液化処理を施すことで、複数種類の樹脂層間の付着エネルギーに差を設けることができる。その結果、複数種類の樹脂層それぞれの上に形成される膜の厚みに差をつけることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図である。
【図４】本発明の第２の実施形態の成膜方法における網目状の樹脂層の平面形状の一例を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の成膜方法における網目状の樹脂層上に膜を形成した状態を示す断面図である。
【図６】本発明の第２の実施形態の電子部品を時計の文字板の透明層に適用した状態を示す断面図である。
【図７】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図８】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
【図９】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
本発明の実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造とは縮尺や数等が異なっている。
【００２２】
「第１の実施の形態」
以下、本発明の第１の実施形態について、図面に基づき説明する。
本実施形態の成膜方法は、基材の表面を撥液化処理する工程と、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、この複数種類の樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積し、この複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有する方法である。
【００２３】
次に、本実施形態の成膜方法について、図１及び図２に基づき詳細に説明する。
本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明することとする。
［１］基材の表面の撥液化処理工程
まず、図１（ａ）に示す基材１を用意する。
この基材１としては、いかなる材料により構成されたものでもよいが、例えば、石英ガラス、カリガラス、ソーダガラス等の各種ガラス、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）等の無機系絶縁材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等の有機系絶縁材料、ｌｏｗ−Ｋ材等の各種低誘電率材料、アモルファスシリコン、多結晶シリコン等のシリコン材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ等の金属材料等により構成されたものを用いることができる。
この基材１は、これらの材料で構成された層を複数、積層してなる積層構造であってもよい。
【００２４】
次いで、この基材１の表面１ａに撥液化処理を施す。
撥液化処理としては、例えば、次の様な各種の処理方法が挙げられる。
（１）基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法
（２）基材１の表面１ａにＣＦ４プラズマ等を用いて撥液性を示すイオン、例えば、フッ素イオン等を打ち込む方法
（３）基材１の表面１ａに撥液性を有する官能基を導入する方法
これらの中でも、特に、「基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法」が、大掛かりな設備を必要とせず、簡便な装置を用いて形成することができ、しかも、容易かつ精度よく形成することができるので、好ましい。
【００２５】
この撥液膜２は、高い撥液性を有するものであればよく、特に高い撥液性を有する材料としては、フッ素系材料が好ましい。
このフッ素系材料としては、フッ素系有機材料、フッ素系無機材料、フッ素系有機材料とフッ素系無機材料との複合材料、のいずれか１種が好ましい。
【００２６】
フッ素系有機材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、パーフルオロエチレン−プロペン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、パーフロロアルキルエーテル、およびそれらのシランカップリング剤等が挙げられる。これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２７】
フッ素系無機材料としては、例えば、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、ケイフッ酸等が挙げられ、特に、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウムが好ましい。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２８】
この撥液膜２は、上記のフッ素系材料を含む組成物、すなわちフッ素系材料溶液またはフッ素系材料分散液を、基材１の表面１ａに供給（塗布）し、その後、乾燥、必要に応じて加熱・乾燥を行うことにより、形成することができる。
【００２９】
この溶媒または分散媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３０】
このフッ素系材料を含む組成物を基材１の表面１ａに供給（塗布）する方法としては、例えば、インクジェット印刷法、ディップコート法、スピンコート法、スリットコート法、キャップコート法、ディスペンサー法、スプレーコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等の各種塗布法を用いることができるが、これらの中でも、インクジェット印刷法を用いるのが好ましい。
このインクジェット印刷法によれば、基材１上に直接マスク、例えば、レジスト層等を形成することを必要とせず、しかも、高い寸法精度で撥液膜２を形成することができる。
【００３１】
このフッ素系材料を含む組成物に加熱・乾燥を施すと、フッ素系材料が基材１の表面１ａに固着（固定）するので、好ましい。
このように、上記のフッ素系材料を用いて、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成することにより、この基材１の表面１ａにおける撥液性が特に顕著なものとなり、したがって、後述するインクジェット法にて樹脂層を形成する際に、パターンの微細化及び高精度化を図ることができる。
したがって、後述する蒸着材料の堆積工程においては、蒸着材料を基材１の表面１ａに効果的に集合させることができ、得られた膜の微細化及び高精度化を図ることができる。
【００３２】
［２］樹脂層形成工程
図１（ｂ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置に、インクジェット３ａを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ａを吐出させる。
また、基材１の表面１ａにフッ素イオン等を打ち込んだ場合や撥液性を有する官能基を導入した場合には、撥液化処理が施された基材１の表面１ａ上の所定位置に、インクジェット３ａを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ａを吐出させればよい。
【００３３】
このインク４ａに含まれる樹脂は、後述する撥液化処理を施すことにより、その付着エネルギーが低下する樹脂であればよく、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。各種樹脂材料は、熱硬化性型又は、紫外線硬化型であってもよい。
ポリイミド樹脂としては、例えば、ビスマレイミド型ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００３４】
アクリル樹脂としては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリルレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタアクリルオキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチオールプロパントリアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、１−６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。
【００３５】
シリコーン樹脂としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサン等が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらの樹脂は、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３６】
このインク４ａに含まれる溶媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
【００３７】
このインク４ａに含まれる添加剤としては、例えば、レベリング剤、粘度調整剤等が挙げられる。
これらの溶媒や添加剤は、これらのうちの１種のみを単独で、あるいは、これらのうちの２種以上を混合して用いることができる。
【００３８】
次いで、上記のインク４ａと樹脂、溶媒及び添加剤のうち少なくとも１種が異なるインク４ｂを用いて、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置、すなわちインク４ａが吐出された位置と異なる位置に、インクジェット３ａと異なるインクジェット３ｂを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ｂを吐出させる。
さらに、上記のインク４ａ、４ｂと樹脂、溶媒及び添加剤のうち少なくとも１種が異なるインク４ｃを用いて、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置、すなわちインク４ａ、４ｂが吐出された位置と異なる位置に、インクジェット３ａ、３ｂと異なるインクジェット３ｃを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ｃを吐出させる。
【００３９】
このように、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置に、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…を用いて、樹脂を含むインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を順次吐出させる（（図１（ｂ）では３種類）。
これらのインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…には溶媒が含まれているので、この溶媒を除去するために、例えば、室温（２５℃）以上かつ１００℃以下の温度にて、１分以上かつ３０分以下、乾燥または加熱・乾燥させる。
その結果、互いに組成が異なるインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…は、基材１の表面１ａの撥液膜２上における濡れ性、粘度等が互いに異なることから、付着エネルギーが互いに異なる半球状あるいは凸レンズ状となり、その後、乾燥または加熱・乾燥させることにより、図１（ｃ）に示すように、付着エネルギー及び膜厚が種類毎に異なる半球状あるいは凸レンズ状の複数種類の樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…（（図１（ｃ）では３種類）となる。
【００４０】
ここで、付着エネルギーについて説明する。
付着エネルギーとは、滑落角（転落角）を用いて固体試料を傾けて液滴を滑らせる方法から算出され、付着エネルギーをＥとすると下記の式（１）が提唱されている。
Ｅ＝ｍｇ・ｓｉｎα／２πｒ ……（１）
（式中、ｍ：液滴質量、ｇ：重力加速度、ｒ：着液半径、α：滑落角（転落角））
この滑落角（転落角）は、水平に設置した平面状態で固体試料の表面に液体材料を滴下し、ここから固体試料を傾け、液体が滑りだしたときの角度を滑落角と規定され、付着エネルギーの目安として広く普及している。例えば、滑落角（転落角）が大きいほど液体材料は、固体試料に強く付着していることになる。
【００４１】
なお、用いるインクをインク４ａ一種類のみとし、このインク４ａの吐出量、撥液膜２上の所定位置における吐出回数、乾燥または加熱・乾燥の条件等を変えることにより、付着エネルギー及び膜厚が種類毎に異なる複数種類の樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を形成することもできる。
この場合、インクジェット３ａは一種類でよいので、インクジェットの吐出機構の構成を簡単化するこができるという長所がある。
【００４２】
［３］樹脂層の撥液化処理工程
図１（ｄ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々に、例えば、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むＣＦ４プラズマ処理等の撥液化処理７を施す。
この撥液化処理７としては、上記のＣＦ４プラズマ処理の他、撥液性を有する官能基を導入する方法等も好適に用いられる。
【００４３】
このように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々に対して、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理７を施すことにより、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の撥液性がさらに向上し、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の表面の付着エネルギーは低下することとなり、その結果、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００４４】
この場合、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの膜厚を変えたり、樹脂の種類を変えることにより撥液化処理７の条件が変わるので、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々における付着エネルギーの大きさを変化させることができる。したがって、この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの可視光線の透過率が面内で異なる膜を形成することができる。
【００４５】
［４］蒸着膜形成工程
図２（ｅ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を含む基材１の表面１ａの撥液膜２上に蒸着材料８を堆積させる。
【００４６】
ここで、蒸着材料８としては、特に限定されることはないが、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂの群から選択される１種または２種以上を含む金属・合金材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機系絶縁材料、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ等のカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、ＣＮナノチューブ、ＣＮナノファイバー、ＢＣＮナノチューブ、ＢＣＮナノファイバー、炭素繊維等の各種炭素系材料、、Ａｌｑ３（アルミキノリノール錯体）等の有機発光材料等が挙げられる。
【００４７】
この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を含む撥液膜２上に蒸着材料８を堆積した場合、この蒸着材料８は、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上及び撥液膜２上を覆うように堆積される。
この場合、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上に堆積された蒸着材料８の一部は、付着エネルギーの小さい樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…から撥液膜２上に落下し、この撥液膜２上に集合することとなり、撥液膜２上に選択的に堆積される。
【００４８】
これにより、図２（ｆ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を含む撥液膜２上に、面内の厚み分布が異なる膜９が形成されることとなる。
この膜９は、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の上では膜厚が互いに異なる薄い膜となっており、撥液膜２上では膜厚が厚い膜となっている。
例えば、付着エネルギーの大きさが樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…の順に大きくなっていれば、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の上における膜厚は、この順に大きくなる。
【００４９】
これにより、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上では膜厚が薄く、撥液膜２上では膜厚が厚い、というように面内に厚み分布を有する膜９を形成することができる。
なお、蒸着材料８を堆積させる際の条件等を制御することにより、図２（ｇ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上では膜厚が薄く、撥液膜２上では膜厚が厚く、しかも表面が平坦な膜１０を形成することもできる。
【００５０】
また、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの撥液化処理７の条件を変えることにより、この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの撥液化処理７の条件の差を利用して、可視光線の透過率が面内で異なる膜を形成することができる。
【００５１】
以上により、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…のみに、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理７を施すことにより、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…と撥液膜２との間の付着エネルギーの差を大きくし、この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上に堆積された蒸着材料８の一部を撥液膜２上に落下させることにより、面内に厚み分布を有する膜９を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…という簡便な方法により、面内に所望のパターンの厚み分布を有する膜９を安価に作製することができる。
【００５２】
また、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…のパターン精度に対応して膜９の精度を高めることができるので、この膜９の細密化を図ることができる。
さらに、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…により所定のパターンを有する樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を形成するので、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…の液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００５３】
なお、本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明したが、蒸着材料以外の膜材料、例えば、スパッタ材料、イオンプレーティング材料、化学気相堆積法（ＣＶＤ法）により堆積される材料等においても、同様の作用・効果を奏することができる。
また、樹脂層５と撥液膜２との間の付着エネルギーの差がそれ程問題とされない場合には、撥液膜２を省略し、樹脂層５を含む基材１の表面１ａ上に蒸着材料８を直接堆積させ、蒸着材料８を、樹脂層５と基材１の表面１ａとの付着エネルギーの違いを利用して基材１の表面１ａ上に集合させて膜９を形成することとしてもよい。
【００５４】
「第２の実施の形態」
図３は、本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図であり、本実施形態の成膜方法が第１の実施形態の成膜方法と異なる点は、第１の実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、基材１の表面１ａの撥液膜２上に樹脂を含むインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を順次吐出させて、付着エネルギー及び膜厚が種類毎に異なる単層の樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を形成したのに対し、本実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、インクジェットを用いて樹脂を含むインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を吐出させ、このインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を乾燥または加熱・乾燥させる、という工程を繰り返し行い（図３では、４回）、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、互いに形状が異なる複数種類の積層構造、すなわち凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層させた全体形状が凸状の積層構造１１、凸レンズ状の樹脂層１２ａ〜１２ｄを積層させた全体形状が凸状の積層構造１２、及び凸レンズ状の樹脂層１３ａ〜１３ｄを積層させた全体形状が凸状の積層構造１３をそれぞれ形成した点であり、その他の点については第１の実施形態の成膜方法と同様である。
【００５５】
本実施形態においては、積層構造１１〜１３に対応する位置に開口が形成されたマスクを用いて、積層構造１１〜１３のみに、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理を施すことにより、これらの積層構造１１〜１３の表面における付着エネルギーは、撥液膜２の表面における付着エネルギーと比べてさらに低下したものとなる。その結果、これら積層構造１１〜１３と撥液膜２との間の付着エネルギーの差が、撥液化処理を施す前の状態よりさらに大きくなる。
【００５６】
このように、これら積層構造１１〜１３のみに撥液化処理を施すことにより、これら積層構造１１〜１３の付着エネルギーを低下させるので、第１の実施形態と同様、積層構造１１〜１３上に堆積された蒸着材料の一部は、付着エネルギーの小さい積層構造１１〜１３から撥液膜２上に落下し、積層構造１１〜１３及び撥液膜２上を覆うように蒸着材料が堆積される。
これにより、これら積層構造１１〜１３を含む撥液膜２上に、面内の厚み分布が異なる膜１４が形成されることとなる。
【００５７】
本実施形態によれば、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、積層構造１１〜１３を形成し、さらに、積層構造１１〜１３のみに、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理を施したので、これら積層構造１１〜１３全体の厚みを実質的に厚くするとともに、この厚みのある積層構造１１〜１３の付着エネルギーを低下させることができ、結果として、滑落角（転落角）よりも大きい角度に制御され、その結果、積層構造１１〜１３上に堆積した蒸着材料の一部を、積層構造１１〜１３と撥液膜２との付着エネルギーの違いを利用して撥液膜２上に落下させることができる。
【００５８】
また、積層構造１１（１２、１３）の〜樹脂層１１ａ〜１１ｄ（１２ａ〜１２ｄ、１３ａ〜１３ｄ）は、撥液膜２上から上方に向かって順次小さくなるように、それぞれの形状が制御されて全体形状が凸状の積層構造とされているので、第１の実施形態と同様、これら積層構造１１〜１３を含む撥液膜２上に、面内の厚み分布が異なる膜１４を形成することができる。
【００５９】
図４は、本実施形態の成膜方法における網目状の樹脂層の平面形状の一例を示す平面図であり、撥液膜２上に、インクジェットを用いて樹脂を含むインクを吐出させるという工程を、撥液膜２上の面内にて縦横に繰り返し行い、この撥液膜２上に、この撥液膜２より付着エネルギーが低くかつ微細な所定のパターンを有する樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ…を千鳥状に多数、互いに接触するように密に形成し、網目状の樹脂層２１とした例である。
【００６０】
この例においては、撥液膜２上に、樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ…を多数、互いに接触するように密に形成して、全体の表面形状が凹凸面となる網目状の樹脂層２１とし、しかも樹脂層２１を複数種類に区分して、樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ…毎に撥液化処理７の条件を異ならせるようにすることにより、これら樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…上の膜厚が互いに異なる膜２２を形成している。
【００６１】
この樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…を含む撥液膜２上に蒸着材料を堆積した場合、この蒸着材料の一部は、付着エネルギーの小さい樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…から撥液膜２上に移動し、この撥液膜２上に集合することとなる。特に、この樹脂層２１を凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層した積層構造とした場合、この積層構造上に堆積した蒸着材料の一部は、この樹脂層２１から容易かつ速やかに移動して、撥液膜２上に容易に堆積することとなる。
【００６２】
その結果、図５に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２及び樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…を覆い、かつ樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…上の膜厚が互いに異なる膜２２を形成することができる。
したがって、基材１の表面１ａの撥液膜２上の樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…を覆うように膜２２が形成された可視光線に対して透明性を有する電子部品２３を得ることができる。
【００６３】
図６は、本実施形態の電子部品２３を時計の文字板の金属層に適用した断面図であり、図において、３１はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）、３２はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）３１に対向配置された時計用文字板である。
この時計用文字板３２は、透明基材３３と、表面に樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…が形成され、これら樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…上の膜厚が互いに異なる膜２２が形成された可視光線に対して透明性を有する透明層３４（電子部品２３）と、この透明層３４上に設けられ文字やマークを示す金属層３５と、これら透明層３４及び金属層３５を覆う透明層３６とから構成されている。
【００６４】
この時計用文字板３２では、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、インクジェット法という簡便な方法により、所望の時計用文字板３２を速やかかつ安価に作製することができる。
また、透明層３４に凹凸があったような場合においても、インクジェット法を適用することにより、所望の時計用文字板３２を安価に作製することができるので、有利である。
さらに、インクジェットの液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、時計用文字板３２の試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００６５】
「電子機器」
本発明の第１〜第２の実施形態の成膜方法により得られた膜９、１０、２２を電子部品に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子部品を得ることができる。
また、この電子部品を電子機器に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子機器を得ることができる。
【００６６】
図７は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
このパーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備えた表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部１１０７を介して回動可能に支持されている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、本体部１１０４の筐体部分、表示ユニット１１０６の筐体部分、表示ユニット１１０６の表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、本体部１１０４と表示ユニット１１０６とを接続する可撓性配線基板等に適用されている。
【００６７】
図８は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
この携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４、送話口１２０６、表示部１２０８を備えている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、表示部１２０８の筐体部分、表示部１２０８の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、データを保存するための半導体部品（各種メモリ）等に適用されている。
【００６８】
図９は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。なお、この図においては、外部機器との接続についても簡易的に示している。
ここで、通常のカメラでは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００では、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）等の撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【００６９】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
このケース１３０２の内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図９では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
【００７０】
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、このビデオ信号出力端子１３１２には、ＣＲＴ１４０１及び再生回路１４０２を備えたテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４には、パーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００７１】
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、ケース１３０２、表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、ＣＣＤの撮像信号を保存するための半導体部品（各種メモリ）、回路基板１３０８等に適用されている。
【００７２】
なお、本発明の電子機器は、図７のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図８の携帯電話機、図９のディジタルスチルカメラの他、例えば、テレビ、ビデオカメラ、ビューファインダ型やモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機等）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置等）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
【実施例】
【００７３】
次に、本発明の具体的な実施例について説明する。
「実施例１」
まず、石英ガラス基板（基材）を用意し、この石英ガラス基板の表面を純水を用いて洗浄した。
次いで、この石英ガラス基板の表面に、スピンコート法により、フッ素系コーティング材であるノベックＥＧＣ−１７２０（住友スリーエム株式会社製）を含む塗料を塗布して塗布膜を形成し、次いで、この塗布膜を、大気中、８０℃にて３０分、乾燥させて撥液膜を形成し、撥液膜付石英ガラス基板を得た。
【００７４】
次いで、この撥液膜付石英ガラス基板上に、インクジェット印刷法により、オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）を含むインクを吐出させて、膜厚及び形状が互いに異なる３種類の半球状の樹脂前駆体を形成し、次いで、これら３種類の樹脂前駆体を、大気中、８０℃にて１０分、乾燥させて溶媒を除去し、撥液膜の表面に膜厚及び形状が互いに異なる３種類の半球状の樹脂層を形成し、樹脂層付石英ガラス基板を得た。
この樹脂層の平均の厚みは２００ｎｍ、臨界表面張力γｃは１２ｍＮ／ｍであった。
【００７５】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層に撥液化処理を施した。
ここでは、３種類の樹脂層毎にフッ素イオンの打ち込み条件を変化させて、３種類の付着エネルギーが互いに異なる樹脂層を形成した。
このようにして得られた撥液化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、その一部が樹脂層から落下して撥液膜上に移動して堆積され、３種類の樹脂層上の膜厚が互いに異なる褶曲状の銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の平均の厚みは１００ｎｍであった。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００７６】
「実施例２」
ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）ユニダイン ＴＧ−６５６（臨界表面張力：１０ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）に替えた他は、実施例１と同様にして、撥液膜の表面に膜厚及び形状が互いに異なる３種類の半球状の樹脂層を形成した。この樹脂層の平均の厚みは２μｍ、臨界表面張力γｃは１０ｍＮ／ｍであった。
【００７７】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層に撥液化処理を施した。
ここでは、３種類の樹脂層毎にフッ素イオンの打ち込み条件を変化させて、３種類の付着エネルギーが互いに異なる樹脂層を形成した。
このようにして得られた撥液化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、その一部が樹脂層から落下して撥液膜上に移動して堆積され、３種類の樹脂層上の膜厚が互いに異なる褶曲状の銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の平均の厚みは１００ｎｍであった。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００７８】
「実施例３」
実施例１で得られた撥液化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、物理気相堆積法（ＰＶＤ法）により、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）を堆積させた。
このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）は、その一部が樹脂層から落下して撥液膜上に移動して堆積され、３種類の樹脂層上の膜厚が互いに異なる褶曲状のスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜となった。このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜の平均の厚みは１００ｎｍであった。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有するスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）からなるＣＶＤ膜を安価に作製することができた。
【符号の説明】
【００７９】
１…基材、１ａ…表面、２…撥液膜、３ａ〜３ｃ…インクジェット、４ａ〜４ｃ…インク（液滴）、５ａ〜５ｃ…樹脂層、７…撥液化処理、８…蒸着材料、９…膜、１０…膜、１１〜１３…積層構造、１１ａ〜１１ｄ、１２ａ〜１２ｄ、１３ａ〜１３ｄ…樹脂層、１４…膜、２１…網目状の樹脂層、２１ａ〜２１ｄ…樹脂層、２２…膜、２３…電子部品、１１００…パーソナルコンピュータ（電子機器）、１２００…携帯電話機（電子機器）、１３００…ディジタルスチルカメラ（電子機器）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材上に所定のパターンの膜を形成する成膜方法として、マスクを用いた蒸着法が広く利用されている。
この蒸着法は、基材上に、成膜すべき蒸着膜と同一のパターンの開口部を有するマスクを配置し、このマスクを介して前記基材上に蒸着材料を堆積させ、このマスクを除去することにより、基材上に所定のパターンの蒸着膜を成膜する方法である。
また、リフトオフによる蒸着膜の成膜方法も提案されている。この方法は、基材上に、逆テーパー状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンを含む基材上に蒸着材料を堆積させて蒸着膜を成膜し、その後、リフトオフ操作によりレジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去し、基材上に所定のパターンの蒸着膜を形成する方法である（特許文献１参照）。
【０００３】
さらに、基材上に化学的気相堆積法（ＣＶＤ法）により所定のパターンの膜を成膜する方法としては、予め、基材の表面に、膜形成領域と、この膜形成領域より濡れ性が低く膜を形成し難い非膜形成領域とを形成しておき、この基材上に膜の原料となる飛来物を、この膜形成領域と非膜形成領域との飛来物に対する濡れ性の違いを利用して膜形成領域に集めるとともに、集められた飛来物を化学反応して得られた反応生成物により、基材上に所定のパターンのＣＶＤ膜を形成する成膜方法も提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１２０４４３号公報
【特許文献２】特開２００５−２１３５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のマスクを用いた蒸着法では、得られた蒸着膜のパターン精度を一定に保ち続けるためには、一定期間毎にマスクを洗浄し、交換する必要があり、マスクのメンテナンスに時間と手間が掛かり、製造コストが上昇する一因になっている、という問題点があった。
また、従来のリフトオフによる成膜方法では、レジストパターンを形成するのに時間と手間を要する上、レジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去する必要があることから、レジスト材料及び蒸着材料に無駄が生じ、特に貴金属材料の場合、無視出来ない量になるという問題点があった。
【０００６】
さらに、これらの方法では、例えば、少量多品種生産の場合、品種毎にマスクを作製する必要があるが、マスクの製造には一定の期間が必要になるために、特に、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等では、マスクの製造が間に合わず、対応が難しくなるという問題点があった。
さらにまた、ＣＶＤ膜を形成する成膜方法では、確かに、マスクやレジストを用いずにＣＶＤ膜を成膜することができるものの、このＣＶＤ膜を安価に得ることが難しいという問題点があった。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような成膜方法を提供した。
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となり、得られた樹脂層は材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、したがって、樹脂層の付着エネルギーは小さなものとなる。
また、種類毎に付着エネルギーを異ならせることにより、基材の表面には、種類毎に付着エネルギーの異なる樹脂層が複数種類形成されることとなり、よって、この基材の表面は、これらの樹脂層により、付着エネルギーの異なる複数種類の領域に区分されることとなる。
【００１０】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、基材の表面に集合するとともに、複数種類の樹脂層のうち、付着エネルギーの小さな樹脂層上には少なく、また、付着エネルギーの大きな樹脂層上には多く集合することとなり、その結果、複数種類の樹脂層を含む基材の表面に、選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１１】
また、インクジェット法により所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
特に、基材、複数種類の樹脂層、及び種類毎に異なる厚みの膜が光透過性を有するものとすれば、光透過率の異なる複数種類の膜を形成することができる。したがって、光透過率の違いを利用することで美的外観に優れた光部材や光製品を提供することができる。
【００１２】
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、前記基材の表面を撥液化処理する工程と、前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となり、得られた樹脂層は材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、したがって、樹脂層の付着エネルギーは小さなものとなる。
また、種類毎に付着エネルギーを異ならせることにより、基材の表面には、種類毎に付着エネルギーの異なる樹脂層が複数種類形成されることとなり、よって、この基材の表面は、これらの樹脂層により、付着エネルギーの異なる複数種類の領域に区分されることとなる。
【００１４】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、撥液化処理が施された基材の表面に集合するとともに、複数種類の樹脂層のうち、付着エネルギーの小さな樹脂層上には少なく、また、付着エネルギーの大きな樹脂層上には多く集合することとなり、その結果、複数種類の樹脂層を含む基材の表面に、選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１５】
また、基材の表面に撥液化処理を施したので、高精細な樹脂層のパターンが形成可能となり、それに伴って膜の精度を高めることができる。
また、インクジェット法により所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
特に、基材、複数種類の樹脂層、及び種類毎に異なる厚みの膜が光透過性を有するものとすれば、光透過率の異なる複数種類の膜を形成することができる。したがって、光透過率の違いを利用することで美的外観に優れた光部材や光製品を提供することができる。
【００１６】
本発明においては、前記複数種類の樹脂層は、その種類毎に、樹脂及び添加剤のうち少なくとも一方の組成を異ならせることにより、その種類毎に付着エネルギーを異ならせることとしたことが好ましい。
この構成によれば、インクジェットにより吐出する樹脂及び添加剤を含む液滴の組成を変更するだけで、基材の表面に、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を容易かつ短時間にて形成することができる。したがって、少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができ、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
【００１７】
本発明においては、前記樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層を、複数の樹脂層を積層してなる積層構造とすることで、樹脂層の厚みを実質的に厚くすることができ、材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御が可能となる。その結果、積層構造上に堆積した膜材料を容易に落下させることができる。したがって、積層構造を含む基材の表面に膜材料を堆積した場合、膜材料は、複数種類の樹脂層のうち、積層構造の樹脂層上には少なく、また、積層構造以外の樹脂層上には多く集合することとなり、その結果、複数種類の樹脂層を含む基材の表面に、樹脂層の種類毎に厚みの異なる膜を形成することができる。
【００１８】
本発明においては、前記複数種類の樹脂層は、表面を撥液化処理してなることが好ましい。
この構成によれば、複数種類の樹脂層各々の表面を撥液化処理することで、これら複数種類の樹脂層と基材の表面との間の付着エネルギーの差を大きくとることができる。その結果、樹脂層上に形成される膜の厚みと基材の表面に形成される膜の厚みとの差を大きくとることができる。
特に、基材、複数種類の樹脂層、及び種類毎に異なる厚みの膜が光透過性を有するものとすれば、これらの間の光透過率の差がより大きなものとなり、光透過率の違いをより効果的に利用することができる。
【００１９】
本発明においては、前記撥液化処理は、前記樹脂層の種類毎に異なることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層の種類毎に異なる撥液化処理を施すことで、複数種類の樹脂層間の付着エネルギーに差を設けることができる。その結果、複数種類の樹脂層それぞれの上に形成される膜の厚みに差をつけることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図である。
【図４】本発明の第２の実施形態の成膜方法における網目状の樹脂層の平面形状の一例を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の成膜方法における網目状の樹脂層上に膜を形成した状態を示す断面図である。
【図６】本発明の第２の実施形態の電子部品を時計の文字板の透明層に適用した状態を示す断面図である。
【図７】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図８】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
【図９】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
本発明の実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造とは縮尺や数等が異なっている。
【００２２】
「第１の実施の形態」
以下、本発明の第１の実施形態について、図面に基づき説明する。
本実施形態の成膜方法は、基材の表面を撥液化処理する工程と、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、この複数種類の樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積し、この複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、を有する方法である。
【００２３】
次に、本実施形態の成膜方法について、図１及び図２に基づき詳細に説明する。
本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明することとする。
［１］基材の表面の撥液化処理工程
まず、図１（ａ）に示す基材１を用意する。
この基材１としては、いかなる材料により構成されたものでもよいが、例えば、石英ガラス、カリガラス、ソーダガラス等の各種ガラス、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）等の無機系絶縁材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等の有機系絶縁材料、ｌｏｗ−Ｋ材等の各種低誘電率材料、アモルファスシリコン、多結晶シリコン等のシリコン材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ等の金属材料等により構成されたものを用いることができる。
この基材１は、これらの材料で構成された層を複数、積層してなる積層構造であってもよい。
【００２４】
次いで、この基材１の表面１ａに撥液化処理を施す。
撥液化処理としては、例えば、次の様な各種の処理方法が挙げられる。
（１）基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法
（２）基材１の表面１ａにＣＦ４プラズマ等を用いて撥液性を示すイオン、例えば、フッ素イオン等を打ち込む方法
（３）基材１の表面１ａに撥液性を有する官能基を導入する方法
これらの中でも、特に、「基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法」が、大掛かりな設備を必要とせず、簡便な装置を用いて形成することができ、しかも、容易かつ精度よく形成することができるので、好ましい。
【００２５】
この撥液膜２は、高い撥液性を有するものであればよく、特に高い撥液性を有する材料としては、フッ素系材料が好ましい。
このフッ素系材料としては、フッ素系有機材料、フッ素系無機材料、フッ素系有機材料とフッ素系無機材料との複合材料、のいずれか１種が好ましい。
【００２６】
フッ素系有機材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、パーフルオロエチレン−プロペン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、パーフロロアルキルエーテル、およびそれらのシランカップリング剤等が挙げられる。これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２７】
フッ素系無機材料としては、例えば、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、ケイフッ酸等が挙げられ、特に、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウムが好ましい。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２８】
この撥液膜２は、上記のフッ素系材料を含む組成物、すなわちフッ素系材料溶液またはフッ素系材料分散液を、基材１の表面１ａに供給（塗布）し、その後、乾燥、必要に応じて加熱・乾燥を行うことにより、形成することができる。
【００２９】
この溶媒または分散媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３０】
このフッ素系材料を含む組成物を基材１の表面１ａに供給（塗布）する方法としては、例えば、インクジェット印刷法、ディップコート法、スピンコート法、スリットコート法、キャップコート法、ディスペンサー法、スプレーコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等の各種塗布法を用いることができるが、これらの中でも、インクジェット印刷法を用いるのが好ましい。
このインクジェット印刷法によれば、基材１上に直接マスク、例えば、レジスト層等を形成することを必要とせず、しかも、高い寸法精度で撥液膜２を形成することができる。
【００３１】
このフッ素系材料を含む組成物に加熱・乾燥を施すと、フッ素系材料が基材１の表面１ａに固着（固定）するので、好ましい。
このように、上記のフッ素系材料を用いて、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成することにより、この基材１の表面１ａにおける撥液性が特に顕著なものとなり、したがって、後述するインクジェット法にて樹脂層を形成する際に、パターンの微細化及び高精度化を図ることができる。
したがって、後述する蒸着材料の堆積工程においては、蒸着材料を基材１の表面１ａに効果的に集合させることができ、得られた膜の微細化及び高精度化を図ることができる。
【００３２】
［２］樹脂層形成工程
図１（ｂ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置に、インクジェット３ａを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ａを吐出させる。
また、基材１の表面１ａにフッ素イオン等を打ち込んだ場合や撥液性を有する官能基を導入した場合には、撥液化処理が施された基材１の表面１ａ上の所定位置に、インクジェット３ａを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ａを吐出させればよい。
【００３３】
このインク４ａに含まれる樹脂は、後述する撥液化処理を施すことにより、その付着エネルギーが低下する樹脂であればよく、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。各種樹脂材料は、熱硬化性型又は、紫外線硬化型であってもよい。
ポリイミド樹脂としては、例えば、ビスマレイミド型ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００３４】
アクリル樹脂としては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリルレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタアクリルオキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチオールプロパントリアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、１−６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。
【００３５】
シリコーン樹脂としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサン等が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらの樹脂は、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３６】
このインク４ａに含まれる溶媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
【００３７】
このインク４ａに含まれる添加剤としては、例えば、レベリング剤、粘度調整剤等が挙げられる。
これらの溶媒や添加剤は、これらのうちの１種のみを単独で、あるいは、これらのうちの２種以上を混合して用いることができる。
【００３８】
次いで、上記のインク４ａと樹脂、溶媒及び添加剤のうち少なくとも１種が異なるインク４ｂを用いて、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置、すなわちインク４ａが吐出された位置と異なる位置に、インクジェット３ａと異なるインクジェット３ｂを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ｂを吐出させる。
さらに、上記のインク４ａ、４ｂと樹脂、溶媒及び添加剤のうち少なくとも１種が異なるインク４ｃを用いて、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置、すなわちインク４ａ、４ｂが吐出された位置と異なる位置に、インクジェット３ａ、３ｂと異なるインクジェット３ｃを用いて樹脂を含むインク（液滴）４ｃを吐出させる。
【００３９】
このように、基材１の表面１ａの撥液膜２上の所定位置に、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…を用いて、樹脂を含むインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を順次吐出させる（（図１（ｂ）では３種類）。
これらのインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…には溶媒が含まれているので、この溶媒を除去するために、例えば、室温（２５℃）以上かつ１００℃以下の温度にて、１分以上かつ３０分以下、乾燥または加熱・乾燥させる。
その結果、互いに組成が異なるインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…は、基材１の表面１ａの撥液膜２上における濡れ性、粘度等が互いに異なることから、付着エネルギーが互いに異なる半球状あるいは凸レンズ状となり、その後、乾燥または加熱・乾燥させることにより、図１（ｃ）に示すように、付着エネルギー及び膜厚が種類毎に異なる半球状あるいは凸レンズ状の複数種類の樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…（（図１（ｃ）では３種類）となる。
【００４０】
ここで、付着エネルギーについて説明する。
付着エネルギーとは、滑落角（転落角）を用いて固体試料を傾けて液滴を滑らせる方法から算出され、付着エネルギーをＥとすると下記の式（１）が提唱されている。
Ｅ＝ｍｇ・ｓｉｎα／２πｒ ……（１）
（式中、ｍ：液滴質量、ｇ：重力加速度、ｒ：着液半径、α：滑落角（転落角））
この滑落角（転落角）は、水平に設置した平面状態で固体試料の表面に液体材料を滴下し、ここから固体試料を傾け、液体が滑りだしたときの角度を滑落角と規定され、付着エネルギーの目安として広く普及している。例えば、滑落角（転落角）が大きいほど液体材料は、固体試料に強く付着していることになる。
【００４１】
なお、用いるインクをインク４ａ一種類のみとし、このインク４ａの吐出量、撥液膜２上の所定位置における吐出回数、乾燥または加熱・乾燥の条件等を変えることにより、付着エネルギー及び膜厚が種類毎に異なる複数種類の樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を形成することもできる。
この場合、インクジェット３ａは一種類でよいので、インクジェットの吐出機構の構成を簡単化するこができるという長所がある。
【００４２】
［３］樹脂層の撥液化処理工程
図１（ｄ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々に、例えば、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むＣＦ４プラズマ処理等の撥液化処理７を施す。
この撥液化処理７としては、上記のＣＦ４プラズマ処理の他、撥液性を有する官能基を導入する方法等も好適に用いられる。
【００４３】
このように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々に対して、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理７を施すことにより、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の撥液性がさらに向上し、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の表面の付着エネルギーは低下することとなり、その結果、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００４４】
この場合、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの膜厚を変えたり、樹脂の種類を変えることにより撥液化処理７の条件が変わるので、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々における付着エネルギーの大きさを変化させることができる。したがって、この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの可視光線の透過率が面内で異なる膜を形成することができる。
【００４５】
［４］蒸着膜形成工程
図２（ｅ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を含む基材１の表面１ａの撥液膜２上に蒸着材料８を堆積させる。
【００４６】
ここで、蒸着材料８としては、特に限定されることはないが、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂの群から選択される１種または２種以上を含む金属・合金材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機系絶縁材料、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ等のカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、ＣＮナノチューブ、ＣＮナノファイバー、ＢＣＮナノチューブ、ＢＣＮナノファイバー、炭素繊維等の各種炭素系材料、、Ａｌｑ３（アルミキノリノール錯体）等の有機発光材料等が挙げられる。
【００４７】
この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を含む撥液膜２上に蒸着材料８を堆積した場合、この蒸着材料８は、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上及び撥液膜２上を覆うように堆積される。
この場合、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上に堆積された蒸着材料８の一部は、付着エネルギーの小さい樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…から撥液膜２上に落下し、この撥液膜２上に集合することとなり、撥液膜２上に選択的に堆積される。
【００４８】
これにより、図２（ｆ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を含む撥液膜２上に、面内の厚み分布が異なる膜９が形成されることとなる。
この膜９は、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の上では膜厚が互いに異なる薄い膜となっており、撥液膜２上では膜厚が厚い膜となっている。
例えば、付着エネルギーの大きさが樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…の順に大きくなっていれば、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…各々の上における膜厚は、この順に大きくなる。
【００４９】
これにより、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上では膜厚が薄く、撥液膜２上では膜厚が厚い、というように面内に厚み分布を有する膜９を形成することができる。
なお、蒸着材料８を堆積させる際の条件等を制御することにより、図２（ｇ）に示すように、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上では膜厚が薄く、撥液膜２上では膜厚が厚く、しかも表面が平坦な膜１０を形成することもできる。
【００５０】
また、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの撥液化処理７の条件を変えることにより、この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…それぞれの撥液化処理７の条件の差を利用して、可視光線の透過率が面内で異なる膜を形成することができる。
【００５１】
以上により、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…のみに、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理７を施すことにより、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…と撥液膜２との間の付着エネルギーの差を大きくし、この樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…上に堆積された蒸着材料８の一部を撥液膜２上に落下させることにより、面内に厚み分布を有する膜９を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…という簡便な方法により、面内に所望のパターンの厚み分布を有する膜９を安価に作製することができる。
【００５２】
また、樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…のパターン精度に対応して膜９の精度を高めることができるので、この膜９の細密化を図ることができる。
さらに、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…により所定のパターンを有する樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を形成するので、インクジェット３ａ、３ｂ、３ｃ、…の液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００５３】
なお、本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明したが、蒸着材料以外の膜材料、例えば、スパッタ材料、イオンプレーティング材料、化学気相堆積法（ＣＶＤ法）により堆積される材料等においても、同様の作用・効果を奏することができる。
また、樹脂層５と撥液膜２との間の付着エネルギーの差がそれ程問題とされない場合には、撥液膜２を省略し、樹脂層５を含む基材１の表面１ａ上に蒸着材料８を直接堆積させ、蒸着材料８を、樹脂層５と基材１の表面１ａとの付着エネルギーの違いを利用して基材１の表面１ａ上に集合させて膜９を形成することとしてもよい。
【００５４】
「第２の実施の形態」
図３は、本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図であり、本実施形態の成膜方法が第１の実施形態の成膜方法と異なる点は、第１の実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、基材１の表面１ａの撥液膜２上に樹脂を含むインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を順次吐出させて、付着エネルギー及び膜厚が種類毎に異なる単層の樹脂層５ａ、５ｂ、５ｃ、…を形成したのに対し、本実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、インクジェットを用いて樹脂を含むインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を吐出させ、このインク４ａ、４ｂ、４ｃ、…を乾燥または加熱・乾燥させる、という工程を繰り返し行い（図３では、４回）、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、互いに形状が異なる複数種類の積層構造、すなわち凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層させた全体形状が凸状の積層構造１１、凸レンズ状の樹脂層１２ａ〜１２ｄを積層させた全体形状が凸状の積層構造１２、及び凸レンズ状の樹脂層１３ａ〜１３ｄを積層させた全体形状が凸状の積層構造１３をそれぞれ形成した点であり、その他の点については第１の実施形態の成膜方法と同様である。
【００５５】
本実施形態においては、積層構造１１〜１３に対応する位置に開口が形成されたマスクを用いて、積層構造１１〜１３のみに、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理を施すことにより、これらの積層構造１１〜１３の表面における付着エネルギーは、撥液膜２の表面における付着エネルギーと比べてさらに低下したものとなる。その結果、これら積層構造１１〜１３と撥液膜２との間の付着エネルギーの差が、撥液化処理を施す前の状態よりさらに大きくなる。
【００５６】
このように、これら積層構造１１〜１３のみに撥液化処理を施すことにより、これら積層構造１１〜１３の付着エネルギーを低下させるので、第１の実施形態と同様、積層構造１１〜１３上に堆積された蒸着材料の一部は、付着エネルギーの小さい積層構造１１〜１３から撥液膜２上に落下し、積層構造１１〜１３及び撥液膜２上を覆うように蒸着材料が堆積される。
これにより、これら積層構造１１〜１３を含む撥液膜２上に、面内の厚み分布が異なる膜１４が形成されることとなる。
【００５７】
本実施形態によれば、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、積層構造１１〜１３を形成し、さらに、積層構造１１〜１３のみに、その付着エネルギーを低下させる撥液化処理を施したので、これら積層構造１１〜１３全体の厚みを実質的に厚くするとともに、この厚みのある積層構造１１〜１３の付着エネルギーを低下させることができ、結果として、滑落角（転落角）よりも大きい角度に制御され、その結果、積層構造１１〜１３上に堆積した蒸着材料の一部を、積層構造１１〜１３と撥液膜２との付着エネルギーの違いを利用して撥液膜２上に落下させることができる。
【００５８】
また、積層構造１１（１２、１３）の〜樹脂層１１ａ〜１１ｄ（１２ａ〜１２ｄ、１３ａ〜１３ｄ）は、撥液膜２上から上方に向かって順次小さくなるように、それぞれの形状が制御されて全体形状が凸状の積層構造とされているので、第１の実施形態と同様、これら積層構造１１〜１３を含む撥液膜２上に、面内の厚み分布が異なる膜１４を形成することができる。
【００５９】
図４は、本実施形態の成膜方法における網目状の樹脂層の平面形状の一例を示す平面図であり、撥液膜２上に、インクジェットを用いて樹脂を含むインクを吐出させるという工程を、撥液膜２上の面内にて縦横に繰り返し行い、この撥液膜２上に、この撥液膜２より付着エネルギーが低くかつ微細な所定のパターンを有する樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ…を千鳥状に多数、互いに接触するように密に形成し、網目状の樹脂層２１とした例である。
【００６０】
この例においては、撥液膜２上に、樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ…を多数、互いに接触するように密に形成して、全体の表面形状が凹凸面となる網目状の樹脂層２１とし、しかも樹脂層２１を複数種類に区分して、樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ…毎に撥液化処理７の条件を異ならせるようにすることにより、これら樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…上の膜厚が互いに異なる膜２２を形成している。
【００６１】
この樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…を含む撥液膜２上に蒸着材料を堆積した場合、この蒸着材料の一部は、付着エネルギーの小さい樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…から撥液膜２上に移動し、この撥液膜２上に集合することとなる。特に、この樹脂層２１を凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層した積層構造とした場合、この積層構造上に堆積した蒸着材料の一部は、この樹脂層２１から容易かつ速やかに移動して、撥液膜２上に容易に堆積することとなる。
【００６２】
その結果、図５に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２及び樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…を覆い、かつ樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…上の膜厚が互いに異なる膜２２を形成することができる。
したがって、基材１の表面１ａの撥液膜２上の樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…を覆うように膜２２が形成された可視光線に対して透明性を有する電子部品２３を得ることができる。
【００６３】
図６は、本実施形態の電子部品２３を時計の文字板の金属層に適用した断面図であり、図において、３１はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）、３２はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）３１に対向配置された時計用文字板である。
この時計用文字板３２は、透明基材３３と、表面に樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…が形成され、これら樹脂層２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、…上の膜厚が互いに異なる膜２２が形成された可視光線に対して透明性を有する透明層３４（電子部品２３）と、この透明層３４上に設けられ文字やマークを示す金属層３５と、これら透明層３４及び金属層３５を覆う透明層３６とから構成されている。
【００６４】
この時計用文字板３２では、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、インクジェット法という簡便な方法により、所望の時計用文字板３２を速やかかつ安価に作製することができる。
また、透明層３４に凹凸があったような場合においても、インクジェット法を適用することにより、所望の時計用文字板３２を安価に作製することができるので、有利である。
さらに、インクジェットの液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、時計用文字板３２の試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００６５】
「電子機器」
本発明の第１〜第２の実施形態の成膜方法により得られた膜９、１０、２２を電子部品に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子部品を得ることができる。
また、この電子部品を電子機器に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子機器を得ることができる。
【００６６】
図７は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
このパーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備えた表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部１１０７を介して回動可能に支持されている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、本体部１１０４の筐体部分、表示ユニット１１０６の筐体部分、表示ユニット１１０６の表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、本体部１１０４と表示ユニット１１０６とを接続する可撓性配線基板等に適用されている。
【００６７】
図８は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
この携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４、送話口１２０６、表示部１２０８を備えている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、表示部１２０８の筐体部分、表示部１２０８の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、データを保存するための半導体部品（各種メモリ）等に適用されている。
【００６８】
図９は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。なお、この図においては、外部機器との接続についても簡易的に示している。
ここで、通常のカメラでは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００では、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）等の撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【００６９】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
このケース１３０２の内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図９では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
【００７０】
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、このビデオ信号出力端子１３１２には、ＣＲＴ１４０１及び再生回路１４０２を備えたテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４には、パーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００７１】
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、ケース１３０２、表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、ＣＣＤの撮像信号を保存するための半導体部品（各種メモリ）、回路基板１３０８等に適用されている。
【００７２】
なお、本発明の電子機器は、図７のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図８の携帯電話機、図９のディジタルスチルカメラの他、例えば、テレビ、ビデオカメラ、ビューファインダ型やモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機等）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置等）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
【実施例】
【００７３】
次に、本発明の具体的な実施例について説明する。
「実施例１」
まず、石英ガラス基板（基材）を用意し、この石英ガラス基板の表面を純水を用いて洗浄した。
次いで、この石英ガラス基板の表面に、スピンコート法により、フッ素系コーティング材であるノベックＥＧＣ−１７２０（住友スリーエム株式会社製）を含む塗料を塗布して塗布膜を形成し、次いで、この塗布膜を、大気中、８０℃にて３０分、乾燥させて撥液膜を形成し、撥液膜付石英ガラス基板を得た。
【００７４】
次いで、この撥液膜付石英ガラス基板上に、インクジェット印刷法により、オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）を含むインクを吐出させて、膜厚及び形状が互いに異なる３種類の半球状の樹脂前駆体を形成し、次いで、これら３種類の樹脂前駆体を、大気中、８０℃にて１０分、乾燥させて溶媒を除去し、撥液膜の表面に膜厚及び形状が互いに異なる３種類の半球状の樹脂層を形成し、樹脂層付石英ガラス基板を得た。
この樹脂層の平均の厚みは２００ｎｍ、臨界表面張力γｃは１２ｍＮ／ｍであった。
【００７５】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層に撥液化処理を施した。
ここでは、３種類の樹脂層毎にフッ素イオンの打ち込み条件を変化させて、３種類の付着エネルギーが互いに異なる樹脂層を形成した。
このようにして得られた撥液化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、その一部が樹脂層から落下して撥液膜上に移動して堆積され、３種類の樹脂層上の膜厚が互いに異なる褶曲状の銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の平均の厚みは１００ｎｍであった。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００７６】
「実施例２」
ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）ユニダイン ＴＧ−６５６（臨界表面張力：１０ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）に替えた他は、実施例１と同様にして、撥液膜の表面に膜厚及び形状が互いに異なる３種類の半球状の樹脂層を形成した。この樹脂層の平均の厚みは２μｍ、臨界表面張力γｃは１０ｍＮ／ｍであった。
【００７７】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層に撥液化処理を施した。
ここでは、３種類の樹脂層毎にフッ素イオンの打ち込み条件を変化させて、３種類の付着エネルギーが互いに異なる樹脂層を形成した。
このようにして得られた撥液化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、その一部が樹脂層から落下して撥液膜上に移動して堆積され、３種類の樹脂層上の膜厚が互いに異なる褶曲状の銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の平均の厚みは１００ｎｍであった。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００７８】
「実施例３」
実施例１で得られた撥液化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、物理気相堆積法（ＰＶＤ法）により、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）を堆積させた。
このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）は、その一部が樹脂層から落下して撥液膜上に移動して堆積され、３種類の樹脂層上の膜厚が互いに異なる褶曲状のスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜となった。このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜の平均の厚みは１００ｎｍであった。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有するスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）からなるＣＶＤ膜を安価に作製することができた。
【符号の説明】
【００７９】
１…基材、１ａ…表面、２…撥液膜、３ａ〜３ｃ…インクジェット、４ａ〜４ｃ…インク（液滴）、５ａ〜５ｃ…樹脂層、７…撥液化処理、８…蒸着材料、９…膜、１０…膜、１１〜１３…積層構造、１１ａ〜１１ｄ、１２ａ〜１２ｄ、１３ａ〜１３ｄ…樹脂層、１４…膜、２１…網目状の樹脂層、２１ａ〜２１ｄ…樹脂層、２２…膜、２３…電子部品、１１００…パーソナルコンピュータ（電子機器）、１２００…携帯電話機（電子機器）、１３００…ディジタルスチルカメラ（電子機器）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、
前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項２】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面を撥液化処理する工程と、
前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、
前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項３】
前記複数種類の樹脂層は、その種類毎に、樹脂及び添加剤のうち少なくとも一方の組成を異ならせることにより、その種類毎に付着エネルギーを異ならせることとしたことを特徴とする請求項１または２記載の成膜方法。
【請求項４】
前記複数種類の樹脂層のうち、少なくとも１種類の樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項記載の成膜方法。
【請求項５】
前記複数種類の樹脂層は、表面を撥液化処理してなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の成膜方法。
【請求項６】
前記撥液化処理は、前記樹脂層の種類毎に異なることを特徴とする請求項５記載の成膜方法。
【請求項１】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、
前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項２】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面を撥液化処理する工程と、
前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有しかつ付着エネルギーの異なる複数種類の樹脂層を形成する工程と、
前記複数種類の樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、前記複数種類の樹脂層それぞれの表面に、付着エネルギーの違いに応じた種類毎に異なる厚みの膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項３】
前記複数種類の樹脂層は、その種類毎に、樹脂及び添加剤のうち少なくとも一方の組成を異ならせることにより、その種類毎に付着エネルギーを異ならせることとしたことを特徴とする請求項１または２記載の成膜方法。
【請求項４】
前記複数種類の樹脂層のうち、少なくとも１種類の樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項記載の成膜方法。
【請求項５】
前記複数種類の樹脂層は、表面を撥液化処理してなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の成膜方法。
【請求項６】
前記撥液化処理は、前記樹脂層の種類毎に異なることを特徴とする請求項５記載の成膜方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−７４４５１（Ｐ２０１１−７４４５１Ａ）
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２７０８２（Ｐ２００９−２２７０８２）
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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