【課題】視聴者に違和感を与えない品質の良好な映像を得ることができるＮＤフィルタ及びテレビカメラ並びにＮＤフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】ＮＤフィルタ１０は、円盤状に形成された透明ガラス板３２の円周方向に光透過率が略１００％の第１の領域と、光透過率が段階状に連続的に変化する第２の領域とが連続して形成されている。このため、透明ガラス板３２の全領域において画像光が透過する。これにより、光量調整操作時に、画像光が透過しない領域が画像光の通過エリアを横切ることはないため、光量調整操作時に画面が瞬間的に暗くなることはない。よって、このＮＤフィルタ１０を使用することにより、視聴者に違和感を与えない品質の良好な映像を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、しかも、簡便な方法により、膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により、付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する樹脂層５を形成する工程と、樹脂層５を含む撥液膜２上に蒸着材料６を堆積し、この蒸着材料６を、樹脂層５の付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する領域以外の撥液膜２上に集合させ、この集合した蒸着材料６を膜７とする工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】支持基板上に形成した昇華温度が異なる２種以上の成膜材料を含む材料層を、加熱処理により被成膜基板上に成膜する方法において、昇華温度の異なる２種以上の成膜材料が濃度勾配を生じることなく成膜されることを課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成される吸収層と、吸収層上に形成され、第１の成膜材料、第２の成膜材料及び下記数式（１）を満たす高分子化合物を含む材料層とを有する第１の基板の一方の面と、第２の基板の被成膜面とを対向させて配置し、第１の基板の他方の面側から加熱処理をすることで、第２の基板の被成膜面に第１の成膜材料と第２の成膜材料とを含む層を形成する成膜方法。


（式（１）中、Ｓは、高分子化合物のガラス転移温度（℃）を示し、Ｔ_ａは、第１の成膜材料又は第２の成膜材料の昇華温度（℃）のうち高い温度（℃）を示す） （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。
【解決手段】テーパ面５Ａ乃至５Ｄを有する開口部３を複数形成した有機ＥＬ用マスク１のクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、各開口部３に形成される４つのテーパ面５Ａ乃至５Ｄのうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、開口部３の対角線Ｄ１を挟んで反対側から第１のレーザＬ１を入射させて開口部３の斜め方向に走査させる第１のレーザ光学系１７Ａと、対角線Ｄ１を挟んで２つのテーパ面の反対側から第１のレーザＬ１が入射するように、有機ＥＬ用マスク１と第１のレーザ光学系１７Ａとを相対的に移動させる第１のレーザ移動部２４Ａと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間に第１方向に沿って配されて、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、基板と蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定程度離隔するように形成され、基板は、薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、遮断部材は、基板の少なくとも一部を遮蔽するように基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】表示装置を高精細化することが可能な蒸着マスク及び自発光表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】マスク薄膜ＭＰの一面側からのエッチングで形成された第１エッチング領域と、他面側からのエッチングで形成された第２エッチング領域との形成により、当該マスク薄膜の一面側から他面側に貫通する開孔部ＨＬ１，ＨＬ２が形成され、行方向及び列方向にマトリクス状に前記開孔部が配列されるマスク薄膜を備える蒸着マスクであって、前記開孔部は前記行方向及び／又は列方向に異なる開孔幅を有する第１開孔部ＨＬ１と第２開孔部ＨＬ２とから構成された蒸着マスク。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部；真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部；静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部；基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部；アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第２循環部；を含み、第１循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】金属メッキ層を有する薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】主に薄膜の表面に剥離層を吹き付け塗装、塗布または印刷によって設け、剥離層に空白部をあらかじめに残し、この剥離層と空白部上に金属メッキ層をメッキ加工して、金属メッキ層によって剥離層と空白部とを被せた上、この金属メッキ層上に接着層を吹き付け塗装、塗布または印刷によって設ける。引き続き、この接着層上に基層を貼り付けるか、または前記金属メッキ層に接着層を有する基層を貼り付け、最後に、この基層と接着層を剥がし、接着層によって、余分な金属メッキ層と剥離層を同時に剥がし、特定図案、線形、文字、符号または数字だけの金属メッキ層を残す。これにより、金属メッキ層を有する薄膜を無線周波数識別（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ， ＲＦＩＤ）システムまたは無線伝送のアンテナあるいは導電製品に応用できる。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリ１００を含む真空に維持される複数のチャンバにおいて、被蒸着用基板と接し、基板を支持する支持面を具備した本体と、本体に内蔵され、支持面に静電気力を生成させる電極と、電極に電気的に連結され、本体に備わった電池を有する静電チャック６００がチャンバを通過するように移動させるキャリアを含む薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を低減するとともに、高精度にマスクの位置を決めるマスク位置合わせ機構及びこのようなマスク位置合わせ機構を備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】マスク位置合わせ機構は、基板搬送の際に上下動可能、且つ４つのテーパピンが形成された基板ホルダ７と、それぞれのテーパピンを挿入可能な溝３７が形成されたマスク３１を有して構成されており、テーパピンは、基板を挟んで対峙して配設された長いテーパピン３５ａと短いテーパピン３５ｂの一対ずつからなり、長いテーパピンと短いテーパピンにそれぞれ形成されているテーパ面は異なる高さに位置している。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本体６０１に内蔵され、本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホール６０３ａ，６０３ｂを含む基板５００を支持する静電チャック６００で、キャリアのチャンバ７３１通過時に電源ホールへの着脱自在の、電極に電力を提供する移動経路の上流の第１電源フィン６０４ａと他の電源ホールに着脱自在の下流に位置する第２電源フィン６０４ｂを含む薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜厚が均一な薄膜を形成可能な有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造装置において、蒸発させた蒸着材料を線上に配置した複数のノズルを介して真空槽の内部に放出させる蒸発源の各ノズルからの有機ＥＬ材料の蒸発量を、蒸発量モニタ手段で各ノズルにモニタし、このモニタした各ノズルの有機ＥＬ材料の蒸発量の情報を用いて制御手段で蒸発源を制御するようにした。 （もっと読む）

【課題】高い透過率を有すると共に、その透明導電性薄膜のパターンが視認できないようになっている透明導電性積層体の提供を目的とし、且つ、前記透明導電性積層体を形成する過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の提供をも目的とする。
【解決手段】基材１の一面上に、前記基材１の側から第１の薄膜２、第２の薄膜３及び透明導電性薄膜４が順に形成されている透明導電性積層体において、前記第２の薄膜３は、前記第１の薄膜１より低い屈折率を有し、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜４が形成されていない部分の色度（ｂ１^＊）と、前記透明導電性薄膜４が形成されている部分の色度（ｂ２^＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ^＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１^＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２^＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ^＊＝｜ｂ１^＊−ｂ２^＊｜ ＜ ０．３５
を満たすようにして、透明導電性積層体を形成する。 （もっと読む）

【課題】成膜速度を安定的に制御することができ、均一かつ高品質の膜質を有する薄膜電極を再現性良く形成することができる薄膜電極製造装置及び薄膜電極製造方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム真空蒸着装置１００は、真空チャンバー１１０内に、水冷ハース１１１とインサート坩堝１１２Ａと密着治具１１３Ａからなる原材料収容部が設けられている。密着治具１１３Ａは、水冷ハース１１１とインサート坩堝１１２Ａの間に介在し、水冷ハース１１１の凹部１１１ａの内面（側面及び底面）と、インサート坩堝１１２Ａの外周面（側面及び底面）との間に均一に密着する形状を有している。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数個の蒸着アセンブリ１００、２００、３００を含み、蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源１１０と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シート１５１と、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間に、第１方向に沿って配され、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板１３１を具備する遮断板アセンブリとを含み、該薄膜蒸着装置は、基板４００と所定距離離隔されるように形成され、薄膜蒸着装置と基板は、いずれか一側が他側に対して、相対的に移動自在に形成される。 （もっと読む）

【課題】高い精度で金属を加工する。
【解決手段】金属板２１０の両面にフォトレジスト液を塗布し、フォトレジスト膜２２０及び２３０を形成し（ステップＳ１０２）、引き続き、フォトレジスト膜２２０及び２３０の露光と現像を行い、孔を開ける部分のフォトレジスト膜２２０及び２３０を残すように、他のフォトレジスト膜２２０及び２３０を除去する（ステップＳ１０３）。次に、フォトレジスト膜２２０及び２３０が形成された金属板２１０の両面に、金属薄膜２４０及び２５０を形成する（ステップＳ１０４）。引き続き、フォトレジスト膜２２０及び２３０を除去すると同時に、フォトレジスト膜２２０及び２３０の上に形成された金属薄膜２４５及び２５５を除去する（ステップＳ１０５）。最後に、この金属板２１０をエッチング液に浸し、エッチングを行い、金属板２１０に高精度の孔を形成する（ステップＳ１０６）。 （もっと読む）

【課題】エピタキシャル層の形成中にシリコン基板の表面に設けられた不純物の埋込層からのオートドープを抑制することのできるエピタキシャルウェーハの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のエピタキシャルウェーハの製造方法は、シリコン基板の主表面にイオン注入法によって不純物を注入して第１素子分離不純物埋込層を形成する第１素子分離不純物注入工程Ｓ２と、前記第１素子分離不純物注入工程Ｓ２を経たシリコン基板にエピタキシャル層を形成させるエピタキシャル層形成工程Ｓ３と、を備え、第１素子分離不純物注入工程Ｓ２におけるイオン注入時のエネルギーが１００〜２００ｋｅＶであり、かつ第１素子分離不純物注入工程Ｓ２とエピタキシャル層形成工程Ｓ３との間に実質的に熱処理を行なわないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】中間担体１を使用して、材料６を基材７上に局所的に堆積させるための方法及び装置を提供すること。
【解決手段】中間担体１からの材料６の局所的堆積が、放射線によるエネルギー印加によって行われる。中間担体１は微細構造を備え、この微細構造によって材料６が中間担体１から基材７上に微細構造化されて転写される。 （もっと読む）

本発明は、構造化被覆部を基板上に形成する方法であって、被覆される表面を有する基板を準備するステップと、少なくとも１種類の蒸着被覆物質、具体的には、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、または、二酸化チタンを、熱蒸着法および加法的構造化法によって上記被覆される基板表面上に積層することによって、該表面上に構造化被覆部を形成するステップとを含む、方法に関する。本発明は、さらに、被覆済み基板および被覆済み基板を備えた半完成品にも関する。
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【課題】ライン状の蒸発源を複数用い、複数の蒸発材料を混合して蒸着を行う際、膜厚方向において、蒸発材料の混合比が一定となる均質な薄膜を形成することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数のライン状の蒸着源を備えた真空蒸着装置において、蒸発容器８ａ、８ｂの放出孔１３ａ、１３ｂから放出された蒸発材料の蒸気の単位時間当たりの蒸着量が等しくなる等厚面１９ａ、１９ｂを、蒸発容器８ａ、８ｂ各々について求め、等厚面１９ａ、１９ｂの接する位置が基板４の蒸着面で一致するように、蒸発容器８ａ、８ｂを配置した。 （もっと読む）