透明導電性積層体及びその色度均一性改善法
【課題】高い透過率を有すると共に、その透明導電性薄膜のパターンが視認できないようになっている透明導電性積層体の提供を目的とし、且つ、前記透明導電性積層体を形成する過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の提供をも目的とする。
【解決手段】基材１の一面上に、前記基材１の側から第１の薄膜２、第２の薄膜３及び透明導電性薄膜４が順に形成されている透明導電性積層体において、前記第２の薄膜３は、前記第１の薄膜１より低い屈折率を有し、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜４が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜４が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすようにして、透明導電性積層体を形成する。
【解決手段】基材１の一面上に、前記基材１の側から第１の薄膜２、第２の薄膜３及び透明導電性薄膜４が順に形成されている透明導電性積層体において、前記第２の薄膜３は、前記第１の薄膜１より低い屈折率を有し、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜４が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜４が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすようにして、透明導電性積層体を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ装置を構成する透明導電性積層体及びその色度均一性改善法に関し、特に、タッチパネル装置を構成する上部フィルム等に好適な透明導電性積層体、及び、該透明導電性積層体を形成する方法における透明導電性積層体の色度均一性改善法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネル装置は、ディスプレイ装置への直接入力における入力デバイスとして、様々な電子機器に利用されるようになってきた。
【０００３】
タッチパネル装置は、一般的に、透明導電性薄膜が下面に形成されている上部透明フィルムと、透明導電性薄膜が上面に形成されている下部透明ガラス板とからなっており、且つ、前記上部透明フィルム及び前記下部透明ガラス板のそれぞれにおける透明導電性薄膜は、互いに対向しており、使用者の押圧により互いに接触して通電することができるようになっている。
【０００４】
このようなタッチパネル装置は、波長の短い可視光に対する透過率が低いので、タッチパネル装置を通してディスプレイ装置を見ると、ディスプレイ装置の色がやや黄色みがかる、という欠点がある。
【０００５】
上記欠点を解決するために、ディスプレイ装置の表示波長領域の全域にわたって高い透過率を有する上部透明フィルム及び下部透明ガラス板を備える様々な透明導電性積層体がすでに開発されている（下記の特許文献参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１７１１４７号公報
【特許文献２】特開２００７−２９９５３４号公報
【特許文献３】特開２００６−３４６８７８号公報
【特許文献４】特開２００４−１８４５７９号公報
【特許文献５】特開２００７−２７６３２２号公報
【特許文献６】特開２００８−０４９５１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記透明導電性積層体は、色度（ｂ＊）を黄色から離れるように下げることによって、黄色みがかることは解消できたが、該透明導電性積層体をタッチパネル装置の構成に使用する際には、タッチパネル装置の内部に電気回路やコンデンサーを形成するため、透明導電性薄膜にパターニングをする必要があり、このパターニングをすると、タッチパネル装置の内部におけるパターン、特に上部透明フィルムにおける透明導電性薄膜のパターンが必ず見えるようになってしまい、更に、色が均一でなく乱雑に見えてしまい、ディスプレイ装置の表示品質が著しく低下するという問題が出る。
【０００８】
上記問題点に鑑みて、本発明は、高い透過率を有すると共に、その透明導電性薄膜のパターンを視認できなくし、且つ色が均一に見えるようにする透明導電性積層体の提供を目的とする。また、前記透明導電性積層体を形成する過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の提供をも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明者は、実験に実験を重ねて、ついに、色度（ｂ＊）を黄色から離れるように下げると共に、透明導電性積層体において、透明導電性薄膜が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）との色度差（Δｂ＊）を下げることで、透明導電性薄膜内のパターンが見えないようにできることを発見し、以下のような本発明に係る透明導電性積層体及び該透明導電性積層体の形成過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法を提供した。
【００１０】
〔１〕透明導電性積層体
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第２の薄膜は、前記第１の薄膜より低い屈折率を有し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）を満たす透明導電性積層体。
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
【００１１】
〔２〕前記透明導電性積層体の形成過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜を順に積層して透明導電性積層体を形成する方法における透明導電性積層体の色度均一性改善法であって、
前記第２の薄膜として、屈折率が前記第１の薄膜よりも低いものを使用し、
前記第１及び第２の薄膜のそれぞれ光学膜厚を、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、上記式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールする透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【００１２】
前記〔１〕の透明導電性積層体の実施形態として、
〔１−１〕基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜が順に積層されており、他面上に改質層が形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に、屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、上記式（１）〜式（３）を満たす透明導電性積層体、及び、
〔１−２〕基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に、屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、上記式（１）〜式（３）を満たす透明導電性積層体が、挙げられる。
【００１３】
また、前記〔２〕の前記透明導電性積層体の形成過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の実施形態として、
〔２−１〕前記基材の他面上に改質層を積層し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行う透明導電性積層体の色度均一性改善法、及び、
〔２−２〕前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行う透明導電性積層体の色度均一性改善法が挙げられる。
【００１４】
前記ｂ＊（ｂ１＊またはｂ２＊）は、国際照明委員会（ＣＩＥ）の定めたＣＩＥ Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で、波長領域３８０〜７８０ｎｍの光に対する色度を表す。ｂ＊が大きければ大きいほど、黄色に近い。詳しく言うと、ｂ＊が４であれば、真の黄色であり、４から２に下がるにつれて、だんだん薄くなるが、やはり多少は黄色みがかっている。しかし、１．１５以下になると、本発明の場合では、まったく黄色みがかることはない。
【００１５】
また、透明導電性薄膜のパターンは、エッチングで透明導電性積層体の透明導電性薄膜面から透明導電性薄膜の一部を剥離してなるものである。前記構成による本発明の透明導電性積層体においては、その透明導電性薄膜が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）との色度差（Δｂ＊）が０．３５以下となっており、肉眼で判別できないほど小さい。すなわち、パターニングされている場合においても、そのパターンのある箇所（即ち、その透明導電性薄膜が剥離されていない箇所、または、透明導電性薄膜が被覆されている箇所）の色度（ほぼｂ１＊）とパターンのない箇所（即ち、その透明導電性薄膜が剥離されている箇所、または、透明導電性薄膜が被覆されていない箇所）の色度（ほぼｂ２＊）との色度差（Δｂ＊）が０．３５以下となる。よって、パターンが視認できず、且つ色も均一に見えるようになる。
【００１６】
なお、前記光学膜厚とは、物理膜厚に屈折率を掛けてなる数値を言う。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の透明導電性積層体は、前記第１及び第２の薄膜それぞれの光学膜厚を所定値に抑えると共に、上記式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールすることで、黄色みがからず、透過率が高く、且つ、その透明導電性薄膜における、パターンが形成されている箇所の色とパターンが形成されていない箇所の色とが互いに区別できないほどほぼ均一になって、パターンが視認できないようになる。
【００１８】
従って、本発明の透明導電性積層体及びその色度均一性改善法によれば、表示品質が従来より優れたディスプレイ装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態における実施例１〜６の透明導電性積層体を示す断面図である。
【図２】本発明の実施例１〜３及び比較例１〜４における透明導電性積層体の、第１の薄膜の光学膜厚に対する透明導電性薄膜の被覆前後の色度差（Δｂ＊）を示す図面である。
【図３】本発明の実施例５〜６及び比較例５〜６における透明導電性積層体の、第１の薄膜の光学膜厚に対する透明導電性薄膜の被覆前後の色度差（Δｂ＊）を示す図面である。
【図４】本発明の他の好ましい実施形態の透明導電性積層体を示す断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態における実施例７〜９の透明導電性積層体を示す断面図である。
【図６】本発明の実施例７〜９及び比較例７〜８における透明導電性積層体の、第１の薄膜の光学膜厚に対する透明導電性薄膜の被覆前後の色度差（Δｂ＊）を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の、透明導電性積層体の色度均一性改善法は、従来の、黄色みがかる問題を解消する透過率改善法と異なり、図１に示したように、第１及び第２の薄膜２、３を、基材１と透明導電性薄膜４との間に形成し、且つ、該２層の薄膜２、３の光学膜厚をコントロールすることにより、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、下記式（１）〜式（３）を満たすことで、透過率の改善はもちろん、透明導電性薄膜におけるパターンを見えないようにし、色を均一に見えるようにさせることもできる。
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
〔第１実施形態〕
【００２１】
図１に示したように、本発明の第１の実施形態に係る透明導電性積層体は、基材１と、第１の薄膜２と、第２の薄膜３と、透明導電性薄膜４と、改質層５とからなっている。第１の薄膜２、第２の薄膜３及び透明導電性薄膜４は、基材１の一面１１上に、基材１の側から順に形成されており、改質層５は、基材１の他面１２上に形成されている。
【００２２】
基材１の素材として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）などが挙げられる。そのうち、ＰＥＴが好ましい。
【００２３】
第１の薄膜２は、基材１の一面１１に被覆されており、その材料として、例えば、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｂＯ、ＣｅＯ、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などが挙げられるが、Ｎｂ２Ｏ５が特に好ましい。また、その光学膜厚は、１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下の範囲にあり、特に、１２ｎｍ以上、１５ｎｍ以下の範囲にあることが好ましい。
【００２４】
第２の薄膜３は、第１の薄膜２の上面に被覆されている。その屈折率は、第１の薄膜２の屈折率より低いが、材料として、例えば、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＭｇＦ２などが挙げられ、特にＳｉＯ２が好ましい。また、その光学膜厚は、６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲にあり、特に６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下の範囲にあることが好ましい。
【００２５】
本実施形態の透明導電性薄膜４は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）からなっているものである。図１に示されている透明導電性薄膜４は、すでにエッチングを受けた後の、パターンが形成されているものであるので、第２の薄膜３の上面に被覆されている複数の被覆領域４１（パターンが形成されている箇所）と、ＩＴＯが剥離されていて第２の薄膜３の上面が露出している複数の非被覆領域４２（パターンが形成されていない箇所）とからなっている。複数の被覆領域４１（パターンが形成されている箇所）は、透明導電性積層体の内部にある電気回路やコンデンサーが形成されている箇所である。
【００２６】
改質層５としては、電子機器によって、内部に機能性粒子を含有した反応性硬化樹脂からなっている硬度の高い表面保護層、若しくは、他の素材からなっており、反射率が低く、且つ透過率の高いフィルム、又は、光を拡散する機能があって光をより均一に分散できるフィルムが挙げられる。そのうち、内部に機能性粒子を含有した反応性硬化樹脂からなっている硬度の高い表面保護層を改質層５として使用することが好ましい。その表面保護層としての改質層５によって、透明導電性積層体全体の硬度が高まるので、擦れたりして傷付くことを防ぐことができる。
【００２７】
本発明は、第２の薄膜３として屈折率が第１の薄膜２の屈折率より低いものを使用することにより透明導電性積層体全体の透過率を高めると共に、透明導電性積層体における２層の薄膜２、３をそれぞれ特定の光学膜厚に限定する。即ち、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と被覆された後の色度（ｂ２＊）を、共に、１．１５以下に抑え、且つ該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）も０．３５以下に調整する。それにより、エッチングされた後の本発明の透明導電性積層において、透明導電性薄膜４が被覆されていない箇所の色度（ほぼｂ１＊）と被覆されている箇所の色度（ほぼｂ２＊）は黄色から遠く離れる１．１５以下になり、且つ該二つの色度の間の色度差（ほぼΔｂ＊）も肉眼で判別できない０．３５以下になっているので、本発明の透明導電性積層体は、まったく黄色みがからず、その内部にある透明導電性薄膜４のパターンも視認できなくなり、色も均一に見えるようになる。
〔第２実施形態〕
【００２８】
次に本発明の第２実施形態の透明導電性積層体を説明する。
【００２９】
この実施形態の透明導電性積層体では、図４に示したように、改質層５が基材１の他面１２ではなく、基材１の一面１１と第１の薄膜２との間に介在していること以外、他の構成が全て第１実施形態の透明導電性積層体と同様である。
〔第３実施形態〕
【００３０】
次に本発明の第３実施形態の透明導電性積層体を説明する。
【００３１】
第３の実施形態の透明導電性積層体は、図５に示したように、改質層５が配置されておらず、第１の薄膜２の光学膜厚が第１及び第２の実施形態と異なること以外、他の構成が全て第１実施形態の透明導電性積層体と同様である。
【００３２】
本実施形態における第１の薄膜２は、その光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下の範囲にあり、特に、２２ｎｍ以上、２８ｎｍ以下の範囲にあることが好ましい。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例と比較例を挙げて本発明の技術をより具体的に説明する。
（実施例１）
【００３４】
改質層５が形成されている基材１（商品名：ＦＥ−ＲＨＰＣ５６Ｎ）を用意し、基材の改質層のない表面上に真空蒸着法により、第１の薄膜２及び第２の薄膜３を表１に示した光学膜厚になるように形成し、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）及び透過率を測定する。そして、第２の薄膜３上に透明導電性薄膜４を抵抗値が３２０Ω／ｍｍ２になるように形成してから、透明導電性薄膜４が被覆された後の色度（ｂ２＊）及び透過率を測定して、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）を計算して表１に示す。
【００３５】
改質層５が形成されている基材１は、その改質層５が硬度の高い表面保護層となっており、そのうち、基材１の厚さは１２５μｍであり、改質層５の厚さは５μｍである。
【００３６】
透明導電性薄膜４の被覆前後に色度を測定し色度差を計算した値は、実際に図１の透明導電性積層体において、透明導電性薄膜４における複数の被覆領域４１（透明導電性薄膜４の、パターンが形成されている箇所）と、複数の非被覆領域４２（透明導電性薄膜４の、パターンが形成されていない箇所）との色度差とすることができるので、本発明の実施例及び比較例は、透明導電性薄膜４の被覆前後に測定した色度で色度差を計算する。
（実施例２〜４及び比較例１〜４）
【００３７】
実施例２〜４及び比較例１〜４は、それぞれの第１の薄膜２及び第２の薄膜３の光学膜厚（表１に示す）が実施例１と異なる以外、他の部分は全て同様であり、実施例１と同じ手順で色度、透過率及び色度差を測定する。
（色度及び透過率の評価方法）
【００３８】
分光測色計（コニカミノルタ社製、型番：ＣＭ３６００Ｄ）を用いて、国際照明委員会（ＣＩＥ）の定めたＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で、波長領域３８０〜７８０ｎｍの光に対する色度（ｂ＊）及び透過率を測定する。
【表１】
【００３９】
表１に示したデータから分かるように、比較例３及び４では、その第１の薄膜２の光学膜厚が９ｎｍ以下であり、また、その透明導電性積層体に透明導電性薄膜が被覆された後、やや黄色みがかっている。そして、比較例１〜４では、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以上にある。そのため、比較例１〜４は、いずれも黄色みがかる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見られる問題を共に解決することができない。
【００４０】
それに対し、本発明の実施例１〜４では、透明導電性薄膜４が被覆されていない時も、被覆された後も、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、また、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以下にあるので、いずれも黄色みがかる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見られる問題を解決することができる。（実施例５〜６及び比較例５〜６）
【００４１】
実施例５〜６及び比較例５〜６は、基材と改質層との製造元、透明導電性薄膜の抵抗値、及びそれぞれの第１の薄膜２及び第２の薄膜３の光学膜厚（表２に示す）が実施例１と異なること以外、他の部分及び手順は、全て実施例１と同じである。
【００４２】
実施例５〜６及び比較例５〜６は、株式会社きもと製のＫＩＭＯＴＯ−ＧＳＡＢという、改質層５が形成されている基材１を使用する。その改質層５も硬度の高い表面保護層となっており、また、その透明導電性薄膜の抵抗値が、３１２Ω／ｍｍ２である。
【表２】
【００４３】
表２に示したデータから分かるように、比較例５〜６では、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以上にある。そのため、比較例５及び６において、いずれも黄色みが帯びる問題は解決できるが、透明導電性薄膜のパターンが見える問題は解決することができない。
【００４４】
それに対し、本発明の実施例５〜６では、透明導電性薄膜４が被覆されていない時も、被覆された後も、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、また、それらの色度差（Δｂ＊）も全て０．３５以下にあるので、いずれも黄色みが帯びる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見える問題を解決することができる。
【００４５】
また、表１における実施例１〜４と表２における実施例５〜６とを合わせてみれば、改質層５のある基材１を使用して本発明の改質層５のある透明導電性積層体を形成するとき、透明導電性積層体において、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とを、式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールするためには、第１の薄膜２の光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行えばよい。特に、第１の薄膜２の光学膜厚が１２ｎｍ以上、１５ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下の範囲内で行うことがより好ましい。
（実施例７〜９及び比較例７〜８）
【００４６】
実施例７〜９及び比較例７〜８は、改質層がないことと、基材の製造元、透明導電性薄膜の抵抗値、及びそれぞれの第１の薄膜２及び第２の薄膜３の光学膜厚（表３に示す）が実施例１と異なること以外、他の部分及び手順は、全て実施例１と同じである。
【００４７】
実施例７〜９及び比較例７〜８は、基材１として、ＴＯＹＯＢＯ Ａ４１５０（東洋紡績株式会社製）という、改質層がついていないＰＥＴフィルムを使用している。また、その透明導電性薄膜４の抵抗値は、２９０Ω／ｍｍ２である。
【表３】
【００４８】
表３に示したデータから分かるように、比較例７及び８では、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあるが、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以上にある。そのため、比較例７及び８において、いずれも黄色みがかる問題は解決できるが、透明導電性薄膜のパターンが見える問題は解決することができない。
【００４９】
それに対し、本発明の実施例７〜９では、透明導電性薄膜４が被覆されていない時も、被覆された後も、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、また、それらの色度差（Δｂ＊）も全て０．３５以下にあるので、いずれも黄色みがかる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見える問題を解決することができる。
【００５０】
また、実施例７〜９のデータをより詳しくみると、改質層５のない基材１を使用して本発明の透明導電性積層体（本発明の第３実施形態）を形成するとき、透明導電性積層体において、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールするには、第１の薄膜２の光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行えばよい。特に、第１の薄膜２の光学膜厚が２２ｎｍ以上、２８ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下との範囲内で行うことがより好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
上述のように、本発明は、２層の薄膜２、３それぞれの光学膜厚が上記式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールしながら透明導電性積層体を形成するので、作製された透明導電性積層体は、肉眼では黄色みが確認できないと共に透過率が非常に高く、且つ透明導電性薄膜におけるパターンも見えず、均一的に見える。従って、本発明の透明導電性積層体及びその色度均一性改善法によれば、表示品質が従来より優れたタッチパネルを提供することができる。
【符号の説明】
【００５２】
１…基材、２…第１の薄膜、３…第２の薄膜、４…透明導電性薄膜、４１…被覆領域、４２…非被覆領域、５…改質層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ装置を構成する透明導電性積層体及びその色度均一性改善法に関し、特に、タッチパネル装置を構成する上部フィルム等に好適な透明導電性積層体、及び、該透明導電性積層体を形成する方法における透明導電性積層体の色度均一性改善法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネル装置は、ディスプレイ装置への直接入力における入力デバイスとして、様々な電子機器に利用されるようになってきた。
【０００３】
タッチパネル装置は、一般的に、透明導電性薄膜が下面に形成されている上部透明フィルムと、透明導電性薄膜が上面に形成されている下部透明ガラス板とからなっており、且つ、前記上部透明フィルム及び前記下部透明ガラス板のそれぞれにおける透明導電性薄膜は、互いに対向しており、使用者の押圧により互いに接触して通電することができるようになっている。
【０００４】
このようなタッチパネル装置は、波長の短い可視光に対する透過率が低いので、タッチパネル装置を通してディスプレイ装置を見ると、ディスプレイ装置の色がやや黄色みがかる、という欠点がある。
【０００５】
上記欠点を解決するために、ディスプレイ装置の表示波長領域の全域にわたって高い透過率を有する上部透明フィルム及び下部透明ガラス板を備える様々な透明導電性積層体がすでに開発されている（下記の特許文献参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１７１１４７号公報
【特許文献２】特開２００７−２９９５３４号公報
【特許文献３】特開２００６−３４６８７８号公報
【特許文献４】特開２００４−１８４５７９号公報
【特許文献５】特開２００７−２７６３２２号公報
【特許文献６】特開２００８−０４９５１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記透明導電性積層体は、色度（ｂ＊）を黄色から離れるように下げることによって、黄色みがかることは解消できたが、該透明導電性積層体をタッチパネル装置の構成に使用する際には、タッチパネル装置の内部に電気回路やコンデンサーを形成するため、透明導電性薄膜にパターニングをする必要があり、このパターニングをすると、タッチパネル装置の内部におけるパターン、特に上部透明フィルムにおける透明導電性薄膜のパターンが必ず見えるようになってしまい、更に、色が均一でなく乱雑に見えてしまい、ディスプレイ装置の表示品質が著しく低下するという問題が出る。
【０００８】
上記問題点に鑑みて、本発明は、高い透過率を有すると共に、その透明導電性薄膜のパターンを視認できなくし、且つ色が均一に見えるようにする透明導電性積層体の提供を目的とする。また、前記透明導電性積層体を形成する過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の提供をも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明者は、実験に実験を重ねて、ついに、色度（ｂ＊）を黄色から離れるように下げると共に、透明導電性積層体において、透明導電性薄膜が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）との色度差（Δｂ＊）を下げることで、透明導電性薄膜内のパターンが見えないようにできることを発見し、以下のような本発明に係る透明導電性積層体及び該透明導電性積層体の形成過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法を提供した。
【００１０】
〔１〕透明導電性積層体
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第２の薄膜は、前記第１の薄膜より低い屈折率を有し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）を満たす透明導電性積層体。
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
【００１１】
〔２〕前記透明導電性積層体の形成過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜を順に積層して透明導電性積層体を形成する方法における透明導電性積層体の色度均一性改善法であって、
前記第２の薄膜として、屈折率が前記第１の薄膜よりも低いものを使用し、
前記第１及び第２の薄膜のそれぞれ光学膜厚を、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、上記式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールする透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【００１２】
前記〔１〕の透明導電性積層体の実施形態として、
〔１−１〕基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜が順に積層されており、他面上に改質層が形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に、屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、上記式（１）〜式（３）を満たす透明導電性積層体、及び、
〔１−２〕基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜、透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に、屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、上記式（１）〜式（３）を満たす透明導電性積層体が、挙げられる。
【００１３】
また、前記〔２〕の前記透明導電性積層体の形成過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の実施形態として、
〔２−１〕前記基材の他面上に改質層を積層し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行う透明導電性積層体の色度均一性改善法、及び、
〔２−２〕前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行う透明導電性積層体の色度均一性改善法が挙げられる。
【００１４】
前記ｂ＊（ｂ１＊またはｂ２＊）は、国際照明委員会（ＣＩＥ）の定めたＣＩＥ Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で、波長領域３８０〜７８０ｎｍの光に対する色度を表す。ｂ＊が大きければ大きいほど、黄色に近い。詳しく言うと、ｂ＊が４であれば、真の黄色であり、４から２に下がるにつれて、だんだん薄くなるが、やはり多少は黄色みがかっている。しかし、１．１５以下になると、本発明の場合では、まったく黄色みがかることはない。
【００１５】
また、透明導電性薄膜のパターンは、エッチングで透明導電性積層体の透明導電性薄膜面から透明導電性薄膜の一部を剥離してなるものである。前記構成による本発明の透明導電性積層体においては、その透明導電性薄膜が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）との色度差（Δｂ＊）が０．３５以下となっており、肉眼で判別できないほど小さい。すなわち、パターニングされている場合においても、そのパターンのある箇所（即ち、その透明導電性薄膜が剥離されていない箇所、または、透明導電性薄膜が被覆されている箇所）の色度（ほぼｂ１＊）とパターンのない箇所（即ち、その透明導電性薄膜が剥離されている箇所、または、透明導電性薄膜が被覆されていない箇所）の色度（ほぼｂ２＊）との色度差（Δｂ＊）が０．３５以下となる。よって、パターンが視認できず、且つ色も均一に見えるようになる。
【００１６】
なお、前記光学膜厚とは、物理膜厚に屈折率を掛けてなる数値を言う。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の透明導電性積層体は、前記第１及び第２の薄膜それぞれの光学膜厚を所定値に抑えると共に、上記式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールすることで、黄色みがからず、透過率が高く、且つ、その透明導電性薄膜における、パターンが形成されている箇所の色とパターンが形成されていない箇所の色とが互いに区別できないほどほぼ均一になって、パターンが視認できないようになる。
【００１８】
従って、本発明の透明導電性積層体及びその色度均一性改善法によれば、表示品質が従来より優れたディスプレイ装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態における実施例１〜６の透明導電性積層体を示す断面図である。
【図２】本発明の実施例１〜３及び比較例１〜４における透明導電性積層体の、第１の薄膜の光学膜厚に対する透明導電性薄膜の被覆前後の色度差（Δｂ＊）を示す図面である。
【図３】本発明の実施例５〜６及び比較例５〜６における透明導電性積層体の、第１の薄膜の光学膜厚に対する透明導電性薄膜の被覆前後の色度差（Δｂ＊）を示す図面である。
【図４】本発明の他の好ましい実施形態の透明導電性積層体を示す断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態における実施例７〜９の透明導電性積層体を示す断面図である。
【図６】本発明の実施例７〜９及び比較例７〜８における透明導電性積層体の、第１の薄膜の光学膜厚に対する透明導電性薄膜の被覆前後の色度差（Δｂ＊）を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の、透明導電性積層体の色度均一性改善法は、従来の、黄色みがかる問題を解消する透過率改善法と異なり、図１に示したように、第１及び第２の薄膜２、３を、基材１と透明導電性薄膜４との間に形成し、且つ、該２層の薄膜２、３の光学膜厚をコントロールすることにより、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、下記式（１）〜式（３）を満たすことで、透過率の改善はもちろん、透明導電性薄膜におけるパターンを見えないようにし、色を均一に見えるようにさせることもできる。
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
〔第１実施形態〕
【００２１】
図１に示したように、本発明の第１の実施形態に係る透明導電性積層体は、基材１と、第１の薄膜２と、第２の薄膜３と、透明導電性薄膜４と、改質層５とからなっている。第１の薄膜２、第２の薄膜３及び透明導電性薄膜４は、基材１の一面１１上に、基材１の側から順に形成されており、改質層５は、基材１の他面１２上に形成されている。
【００２２】
基材１の素材として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）などが挙げられる。そのうち、ＰＥＴが好ましい。
【００２３】
第１の薄膜２は、基材１の一面１１に被覆されており、その材料として、例えば、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｂＯ、ＣｅＯ、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などが挙げられるが、Ｎｂ２Ｏ５が特に好ましい。また、その光学膜厚は、１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下の範囲にあり、特に、１２ｎｍ以上、１５ｎｍ以下の範囲にあることが好ましい。
【００２４】
第２の薄膜３は、第１の薄膜２の上面に被覆されている。その屈折率は、第１の薄膜２の屈折率より低いが、材料として、例えば、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＭｇＦ２などが挙げられ、特にＳｉＯ２が好ましい。また、その光学膜厚は、６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲にあり、特に６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下の範囲にあることが好ましい。
【００２５】
本実施形態の透明導電性薄膜４は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）からなっているものである。図１に示されている透明導電性薄膜４は、すでにエッチングを受けた後の、パターンが形成されているものであるので、第２の薄膜３の上面に被覆されている複数の被覆領域４１（パターンが形成されている箇所）と、ＩＴＯが剥離されていて第２の薄膜３の上面が露出している複数の非被覆領域４２（パターンが形成されていない箇所）とからなっている。複数の被覆領域４１（パターンが形成されている箇所）は、透明導電性積層体の内部にある電気回路やコンデンサーが形成されている箇所である。
【００２６】
改質層５としては、電子機器によって、内部に機能性粒子を含有した反応性硬化樹脂からなっている硬度の高い表面保護層、若しくは、他の素材からなっており、反射率が低く、且つ透過率の高いフィルム、又は、光を拡散する機能があって光をより均一に分散できるフィルムが挙げられる。そのうち、内部に機能性粒子を含有した反応性硬化樹脂からなっている硬度の高い表面保護層を改質層５として使用することが好ましい。その表面保護層としての改質層５によって、透明導電性積層体全体の硬度が高まるので、擦れたりして傷付くことを防ぐことができる。
【００２７】
本発明は、第２の薄膜３として屈折率が第１の薄膜２の屈折率より低いものを使用することにより透明導電性積層体全体の透過率を高めると共に、透明導電性積層体における２層の薄膜２、３をそれぞれ特定の光学膜厚に限定する。即ち、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と被覆された後の色度（ｂ２＊）を、共に、１．１５以下に抑え、且つ該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）も０．３５以下に調整する。それにより、エッチングされた後の本発明の透明導電性積層において、透明導電性薄膜４が被覆されていない箇所の色度（ほぼｂ１＊）と被覆されている箇所の色度（ほぼｂ２＊）は黄色から遠く離れる１．１５以下になり、且つ該二つの色度の間の色度差（ほぼΔｂ＊）も肉眼で判別できない０．３５以下になっているので、本発明の透明導電性積層体は、まったく黄色みがからず、その内部にある透明導電性薄膜４のパターンも視認できなくなり、色も均一に見えるようになる。
〔第２実施形態〕
【００２８】
次に本発明の第２実施形態の透明導電性積層体を説明する。
【００２９】
この実施形態の透明導電性積層体では、図４に示したように、改質層５が基材１の他面１２ではなく、基材１の一面１１と第１の薄膜２との間に介在していること以外、他の構成が全て第１実施形態の透明導電性積層体と同様である。
〔第３実施形態〕
【００３０】
次に本発明の第３実施形態の透明導電性積層体を説明する。
【００３１】
第３の実施形態の透明導電性積層体は、図５に示したように、改質層５が配置されておらず、第１の薄膜２の光学膜厚が第１及び第２の実施形態と異なること以外、他の構成が全て第１実施形態の透明導電性積層体と同様である。
【００３２】
本実施形態における第１の薄膜２は、その光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下の範囲にあり、特に、２２ｎｍ以上、２８ｎｍ以下の範囲にあることが好ましい。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例と比較例を挙げて本発明の技術をより具体的に説明する。
（実施例１）
【００３４】
改質層５が形成されている基材１（商品名：ＦＥ−ＲＨＰＣ５６Ｎ）を用意し、基材の改質層のない表面上に真空蒸着法により、第１の薄膜２及び第２の薄膜３を表１に示した光学膜厚になるように形成し、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）及び透過率を測定する。そして、第２の薄膜３上に透明導電性薄膜４を抵抗値が３２０Ω／ｍｍ２になるように形成してから、透明導電性薄膜４が被覆された後の色度（ｂ２＊）及び透過率を測定して、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）を計算して表１に示す。
【００３５】
改質層５が形成されている基材１は、その改質層５が硬度の高い表面保護層となっており、そのうち、基材１の厚さは１２５μｍであり、改質層５の厚さは５μｍである。
【００３６】
透明導電性薄膜４の被覆前後に色度を測定し色度差を計算した値は、実際に図１の透明導電性積層体において、透明導電性薄膜４における複数の被覆領域４１（透明導電性薄膜４の、パターンが形成されている箇所）と、複数の非被覆領域４２（透明導電性薄膜４の、パターンが形成されていない箇所）との色度差とすることができるので、本発明の実施例及び比較例は、透明導電性薄膜４の被覆前後に測定した色度で色度差を計算する。
（実施例２〜４及び比較例１〜４）
【００３７】
実施例２〜４及び比較例１〜４は、それぞれの第１の薄膜２及び第２の薄膜３の光学膜厚（表１に示す）が実施例１と異なる以外、他の部分は全て同様であり、実施例１と同じ手順で色度、透過率及び色度差を測定する。
（色度及び透過率の評価方法）
【００３８】
分光測色計（コニカミノルタ社製、型番：ＣＭ３６００Ｄ）を用いて、国際照明委員会（ＣＩＥ）の定めたＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で、波長領域３８０〜７８０ｎｍの光に対する色度（ｂ＊）及び透過率を測定する。
【表１】
【００３９】
表１に示したデータから分かるように、比較例３及び４では、その第１の薄膜２の光学膜厚が９ｎｍ以下であり、また、その透明導電性積層体に透明導電性薄膜が被覆された後、やや黄色みがかっている。そして、比較例１〜４では、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以上にある。そのため、比較例１〜４は、いずれも黄色みがかる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見られる問題を共に解決することができない。
【００４０】
それに対し、本発明の実施例１〜４では、透明導電性薄膜４が被覆されていない時も、被覆された後も、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、また、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以下にあるので、いずれも黄色みがかる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見られる問題を解決することができる。（実施例５〜６及び比較例５〜６）
【００４１】
実施例５〜６及び比較例５〜６は、基材と改質層との製造元、透明導電性薄膜の抵抗値、及びそれぞれの第１の薄膜２及び第２の薄膜３の光学膜厚（表２に示す）が実施例１と異なること以外、他の部分及び手順は、全て実施例１と同じである。
【００４２】
実施例５〜６及び比較例５〜６は、株式会社きもと製のＫＩＭＯＴＯ−ＧＳＡＢという、改質層５が形成されている基材１を使用する。その改質層５も硬度の高い表面保護層となっており、また、その透明導電性薄膜の抵抗値が、３１２Ω／ｍｍ２である。
【表２】
【００４３】
表２に示したデータから分かるように、比較例５〜６では、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以上にある。そのため、比較例５及び６において、いずれも黄色みが帯びる問題は解決できるが、透明導電性薄膜のパターンが見える問題は解決することができない。
【００４４】
それに対し、本発明の実施例５〜６では、透明導電性薄膜４が被覆されていない時も、被覆された後も、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、また、それらの色度差（Δｂ＊）も全て０．３５以下にあるので、いずれも黄色みが帯びる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見える問題を解決することができる。
【００４５】
また、表１における実施例１〜４と表２における実施例５〜６とを合わせてみれば、改質層５のある基材１を使用して本発明の改質層５のある透明導電性積層体を形成するとき、透明導電性積層体において、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とを、式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールするためには、第１の薄膜２の光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行えばよい。特に、第１の薄膜２の光学膜厚が１２ｎｍ以上、１５ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下の範囲内で行うことがより好ましい。
（実施例７〜９及び比較例７〜８）
【００４６】
実施例７〜９及び比較例７〜８は、改質層がないことと、基材の製造元、透明導電性薄膜の抵抗値、及びそれぞれの第１の薄膜２及び第２の薄膜３の光学膜厚（表３に示す）が実施例１と異なること以外、他の部分及び手順は、全て実施例１と同じである。
【００４７】
実施例７〜９及び比較例７〜８は、基材１として、ＴＯＹＯＢＯ Ａ４１５０（東洋紡績株式会社製）という、改質層がついていないＰＥＴフィルムを使用している。また、その透明導電性薄膜４の抵抗値は、２９０Ω／ｍｍ２である。
【表３】
【００４８】
表３に示したデータから分かるように、比較例７及び８では、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあるが、それらの色度差（Δｂ＊）が全て０．３５以上にある。そのため、比較例７及び８において、いずれも黄色みがかる問題は解決できるが、透明導電性薄膜のパターンが見える問題は解決することができない。
【００４９】
それに対し、本発明の実施例７〜９では、透明導電性薄膜４が被覆されていない時も、被覆された後も、色度（ｂ１＊、ｂ２＊）が全て１．１５以下にあり、また、それらの色度差（Δｂ＊）も全て０．３５以下にあるので、いずれも黄色みがかる問題及び透明導電性薄膜のパターンが見える問題を解決することができる。
【００５０】
また、実施例７〜９のデータをより詳しくみると、改質層５のない基材１を使用して本発明の透明導電性積層体（本発明の第３実施形態）を形成するとき、透明導電性積層体において、透明導電性薄膜４が被覆されていない時の色度（ｂ１＊）と、被覆された後の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールするには、第１の薄膜２の光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下の範囲内で行えばよい。特に、第１の薄膜２の光学膜厚が２２ｎｍ以上、２８ｎｍ以下、第２の薄膜３の光学膜厚が６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下との範囲内で行うことがより好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
上述のように、本発明は、２層の薄膜２、３それぞれの光学膜厚が上記式（１）〜式（３）を満たすようにコントロールしながら透明導電性積層体を形成するので、作製された透明導電性積層体は、肉眼では黄色みが確認できないと共に透過率が非常に高く、且つ透明導電性薄膜におけるパターンも見えず、均一的に見える。従って、本発明の透明導電性積層体及びその色度均一性改善法によれば、表示品質が従来より優れたタッチパネルを提供することができる。
【符号の説明】
【００５２】
１…基材、２…第１の薄膜、３…第２の薄膜、４…透明導電性薄膜、４１…被覆領域、４２…非被覆領域、５…改質層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第２の薄膜は、前記第１の薄膜より低い屈折率を有し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすことを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項２】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜が順に形成されており、前記基材の前記一面上又は他面上に改質層が形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすことを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項３】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすことを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項４】
前記改質層は、前記基材の他面上に形成されており、且つ、硬度の高い反応性硬化樹脂からなっている表面保護層であることを特徴とする請求項２に記載の透明導電性積層体。
【請求項５】
前記第１の薄膜の光学膜厚は、１２ｎｍ以上、１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２または請求項４に記載の透明導電性積層体。
【請求項６】
前記第１の薄膜の光学膜厚は、２２ｎｍ以上、２８ｎｍ以下であることを特徴とする請求項３に記載の透明導電性積層体。
【請求項７】
前記第２の薄膜の光学膜厚は、６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２〜６のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
【請求項８】
前記透明導電性薄膜は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）からなっていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
【請求項９】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜を順に積層して透明導電性積層体を形成する方法における透明導電性積層体の色度均一性改善法であって、
前記第２の薄膜として、屈折率が前記第１の薄膜よりも低いものを使用し、 前記第１及び第２の薄膜のそれぞれ光学膜厚を、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすようにコントロールすることを特徴とする、透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【請求項１０】
前記基材の他面上に改質層を積層し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下との範囲内で行うことを特徴とする、請求項９に記載の透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【請求項１１】
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下との範囲内で行うことを特徴とする、請求項９に記載の透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【請求項１】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第２の薄膜は、前記第１の薄膜より低い屈折率を有し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすことを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項２】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜が順に形成されており、前記基材の前記一面上又は他面上に改質層が形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすことを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項３】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜が順に形成されている透明導電性積層体において、
前記第１の薄膜は、光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下であり、
前記第２の薄膜は、光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下であると共に屈折率が前記第１の薄膜の屈折率より低く、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすことを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項４】
前記改質層は、前記基材の他面上に形成されており、且つ、硬度の高い反応性硬化樹脂からなっている表面保護層であることを特徴とする請求項２に記載の透明導電性積層体。
【請求項５】
前記第１の薄膜の光学膜厚は、１２ｎｍ以上、１５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２または請求項４に記載の透明導電性積層体。
【請求項６】
前記第１の薄膜の光学膜厚は、２２ｎｍ以上、２８ｎｍ以下であることを特徴とする請求項３に記載の透明導電性積層体。
【請求項７】
前記第２の薄膜の光学膜厚は、６０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２〜６のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
【請求項８】
前記透明導電性薄膜は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）からなっていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
【請求項９】
基材の一面上に、前記基材の側から第１の薄膜、第２の薄膜及び透明導電性薄膜を順に積層して透明導電性積層体を形成する方法における透明導電性積層体の色度均一性改善法であって、
前記第２の薄膜として、屈折率が前記第１の薄膜よりも低いものを使用し、 前記第１及び第２の薄膜のそれぞれ光学膜厚を、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とが、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ＊＝｜ｂ１＊−ｂ２＊｜ ＜ ０．３５
を満たすようにコントロールすることを特徴とする、透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【請求項１０】
前記基材の他面上に改質層を積層し、
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が１１ｎｍ以上、１６ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下との範囲内で行うことを特徴とする、請求項９に記載の透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【請求項１１】
前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜が形成されていない部分の色度（ｂ１＊）と、前記透明導電性薄膜が形成されている部分の色度（ｂ２＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ＊）とのコントロールを、前記第１の薄膜の光学膜厚が２０ｎｍ以上、２９ｎｍ以下、前記第２の薄膜の光学膜厚が６０ｎｍ以上、９０ｎｍ以下との範囲内で行うことを特徴とする、請求項９に記載の透明導電性積層体の色度均一性改善法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−３７２５８（Ｐ２０１１−３７２５８Ａ）
【公開日】平成２３年２月２４日（２０１１．２．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−９４０８７（Ｐ２０１０−９４０８７）
【出願日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【出願人】（５０５２８３９３５）迎輝科技股▲分▼有限公司 (6)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月２４日（２０１１．２．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【出願人】（５０５２８３９３５）迎輝科技股▲分▼有限公司 (6)
【Ｆターム（参考）】
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