成膜方法
【課題】基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層５を形成する工程と、この樹脂層５に、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むことによりフッ素化処理７を施す工程と、樹脂層５を含む撥液膜２上に蒸着材料を堆積し、この蒸着材料を、樹脂層の付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する領域以外の撥液膜上に集合させ、この集合した蒸着材料を膜とする工程と、を有する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する工程と、この撥液膜２上に、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層５を形成する工程と、この樹脂層５に、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むことによりフッ素化処理７を施す工程と、樹脂層５を含む撥液膜２上に蒸着材料を堆積し、この蒸着材料を、樹脂層の付着エネルギーが低くかつ所定のパターンを有する領域以外の撥液膜上に集合させ、この集合した蒸着材料を膜とする工程と、を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材上に所定のパターンの膜を形成する成膜方法として、マスクを用いた蒸着法が広く利用されている。
この蒸着法は、基材上に、成膜すべき蒸着膜と同一のパターンの開口部を有するマスクを配置し、このマスクを介して前記基材上に蒸着材料を堆積させ、このマスクを除去することにより、基材上に所定のパターンの蒸着膜を成膜する方法である。
また、リフトオフによる蒸着膜の成膜方法も提案されている。この方法は、基材上に、逆テーパー状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンを含む基材上に蒸着材料を堆積させて蒸着膜を成膜し、その後、リフトオフ操作によりレジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去し、基材上に所定のパターンの蒸着膜を形成する方法である（特許文献１参照）。
【０００３】
さらに、基材上に化学的気相堆積法（ＣＶＤ法）により所定のパターンの膜を成膜する方法としては、予め、基材の表面に、膜形成領域と、この膜形成領域より濡れ性が低く膜を形成し難い非膜形成領域とを形成しておき、この基材上に膜の原料となる飛来物を、この膜形成領域と非膜形成領域との飛来物に対する濡れ性の違いを利用して膜形成領域に集めるとともに、集められた飛来物を化学反応して得られた反応生成物により、基材上に所定のパターンのＣＶＤ膜を形成する成膜方法も提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１２０４４３号公報
【特許文献２】特開２００５−２１３５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のマスクを用いた蒸着法では、得られた蒸着膜のパターン精度を一定に保ち続けるためには、一定期間毎にマスクを洗浄し、交換する必要があり、マスクのメンテナンスに時間と手間が掛かり、製造コストが上昇する一因になっている、という問題点があった。
また、従来のリフトオフによる成膜方法では、レジストパターンを形成するのに時間と手間を要する上、レジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去する必要があることから、レジスト材料及び蒸着材料に無駄が生じ、特に貴金属材料の場合、無視出来ない量になるという問題点があった。
【０００６】
さらに、これらの方法では、例えば、少量多品種生産の場合、品種毎にマスクを作製する必要があるが、マスクの製造には一定の期間が必要になるために、特に、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等では、マスクの製造が間に合わず、対応が難しくなるという問題点があった。
さらにまた、ＣＶＤ膜を形成する成膜方法では、確かに、マスクやレジストを用いずにＣＶＤ膜を成膜することができるものの、このＣＶＤ膜を安価に得ることが難しいという問題点があった。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような成膜方法を提供した。
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となる。ここで、この樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施すと、樹脂層の表面の付着エネルギーが低下することとなり、その結果、得られた樹脂層は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００１０】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、フッ素化処理が施されることで付着エネルギーが小さくなった樹脂層以外の、基材の表面に集合し易くなり、その結果、基材の表面に選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１１】
さらに、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
【００１２】
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面を撥液化処理する工程と、前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となる。ここで、この樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施すと、樹脂層の表面の付着エネルギーが低下することとなり、その結果、得られた樹脂層は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００１４】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、フッ素化処理が施されることで付着エネルギーが小さくなった樹脂層以外の、基材の表面に集合し易くなり、その結果、基材の表面に選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１５】
また、基材の表面に撥液化処理を施したので、高精細な樹脂層のパターンが形成可能となり、それに伴って膜の精度を高めることができる。
さらに、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
【００１６】
本発明においては、前記樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層を、複数の樹脂層を積層してなる積層構造とすることで、樹脂層の厚みを実質的に厚くすることができ、材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御が可能となる。その結果、積層構造上に堆積した膜材料を容易に落下させることができる。したがって、積層構造を含む基材の表面に膜材料を堆積した場合、膜材料は、付着エネルギーの低い領域以外の基材の表面にさらに集合し易くなり、その結果、基材の表面に形状の精度が高い膜を形成することができる。
【００１７】
本発明においては、前記樹脂層は、上端部より下端部が広い凸状であることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層を、上端部より下端部が広い凸状とすることで、樹脂層上に堆積した膜材料の滑落角度が上昇し、この膜材料をさらに容易に落下させることができる。したがって、膜材料を基材の表面に速やかに集合させることができる。
【００１８】
本発明においては、膜材料を膜とする工程の後に、樹脂層を除去する工程を有することとしてもよい。
この構成によれば、膜材料を集合させて膜とした後に樹脂層を除去することで、基材の表面は膜のみで構成されることとなり、樹脂層が残存しない平坦な膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図である。
【図４】本発明の第２の実施形態の成膜方法における部分平面形状の一例を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の電子部品を時計の文字板の金属層に適用した状態を示す断面図である。
【図６】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図７】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
【図８】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
本発明の実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造とは縮尺や数等が異なっている。
【００２１】
「第１の実施の形態」
以下、本発明の第１の実施形態について、図面に基づき説明する。
本実施形態の成膜方法は、基材の表面を撥液化処理する工程と、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、この樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、この樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、樹脂層以外の基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を膜とする工程と、を有する方法である。
【００２２】
次に、本実施形態の成膜方法について、図１及び図２に基づき詳細に説明する。
本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明することとする。
［１］基材の表面の撥液化処理工程
まず、図１（ａ）に示す基材１を用意する。
この基材１としては、いかなる材料により構成されたものでもよいが、例えば、石英ガラス、カリガラス、ソーダガラス等の各種ガラス、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）等の無機系絶縁材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等の有機系絶縁材料、ｌｏｗ−Ｋ材等の各種低誘電率材料、アモルファスシリコン、多結晶シリコン等のシリコン材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ等の金属材料等により構成されたものを用いることができる。
この基材１は、これらの材料で構成された層を複数、積層してなる積層構造であってもよい。
【００２３】
次いで、この基材１の表面１ａに撥液化処理を施す。
撥液化処理としては、例えば、次の様な各種の処理方法が挙げられる。
（１）基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法
（２）基材１の表面１ａにＣＦ４プラズマ等を用いて撥液性を示すイオン、例えば、フッ素イオン等を打ち込む方法
（３）基材１の表面１ａに撥液性を有する官能基を導入する方法
これらの中でも、特に、「基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法」が、大掛かりな設備を必要とせず、簡便な装置を用いて形成することができ、しかも、容易かつ精度よく形成することができるので、好ましい。
【００２４】
この撥液膜２は、高い撥液性を有するものであればよく、特に高い撥液性を有する材料としては、フッ素系材料が好ましい。
このフッ素系材料としては、フッ素系有機材料、フッ素系無機材料、フッ素系有機材料とフッ素系無機材料との複合材料、のいずれか１種が好ましい。
【００２５】
フッ素系有機材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、パーフルオロエチレン−プロペン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、パーフロロアルキルエーテル、およびそれらのシランカップリング剤等が挙げられる。これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２６】
フッ素系無機材料としては、例えば、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、ケイフッ酸等が挙げられ、特に、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウムが好ましい。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２７】
この撥液膜２は、上記のフッ素系材料を含む組成物、すなわちフッ素系材料溶液またはフッ素系材料分散液を、基材１の表面１ａに供給（塗布）し、その後、乾燥、必要に応じて加熱・乾燥を行うことにより、形成することができる。
【００２８】
この溶媒または分散媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２９】
このフッ素系材料を含む組成物を基材１の表面１ａに供給（塗布）する方法としては、例えば、インクジェット印刷法、ディップコート法、スピンコート法、スリットコート法、キャップコート法、ディスペンサー法、スプレーコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等の各種塗布法を用いることができるが、これらの中でも、インクジェット印刷法を用いるのが好ましい。
このインクジェット印刷法によれば、基材１上に直接マスク、例えば、レジスト層等を形成することを必要とせず、しかも、高い寸法精度で撥液膜２を形成することができる。
【００３０】
このフッ素系材料を含む組成物に加熱・乾燥を施すと、フッ素系材料が基材１の表面１ａに固着（固定）するので、好ましい。
このように、上記のフッ素系材料を用いて、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成することにより、この基材１の表面１ａにおける撥液性が特に顕著なものとなり、したがって、後述するインクジェット法にて樹脂層を形成する際に、パターンの微細化及び高精度化を図ることができる。
したがって、後述する蒸着材料の堆積工程においては、蒸着材料を基材１の表面１ａに効果的に集合させることができ、得られた膜の微細化及び高精度化を図ることができる。
【００３１】
［２］樹脂層形成工程
図１（ｂ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、インクジェット３を用いて樹脂を含むインク（液滴）４を吐出させる。
また、基材１の表面１ａにフッ素イオン等を打ち込んだ場合や撥液性を有する官能基を導入した場合には、撥液化処理が施された基材１の表面１ａに、インクジェット３を用いて樹脂を含むインク（液滴）４を吐出させればよい。
【００３２】
このインク４に含まれる樹脂は、後述するフッ素化処理を施すことにより、その付着エネルギーが低下する樹脂であればよく、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、これらの樹脂は、熱硬化性型又は、紫外線硬化型であっても良い。
ポリイミド樹脂としては、例えば、ビスマレイミド型ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００３３】
アクリル樹脂としては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリルレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタアクリルオキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチオールプロパントリアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、１−６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。
【００３４】
シリコーン樹脂としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサン等が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらの樹脂は、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３５】
このインク４に含まれる溶媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３６】
ここで、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、樹脂を含むインク４を吐出させると、図１（ｃ）に示すように、この吐出されたインク４は、基材１の表面１ａの撥液膜２上における濡れ性が抑制されることとなり、その結果、表面張力により付着エネルギーが小さい形状、すなわち半球状あるいは凸レンズ状の樹脂層５となる。
このインク４には溶媒が含まれているので、この溶媒を除去するために、例えば、室温（２５℃）以上かつ１００℃以下の温度にて、１分以上かつ３０分以下、乾燥または加熱・乾燥させる。
【００３７】
ここで、付着エネルギーについて説明する。
付着エネルギーとは、滑落角（転落角）を用いて固体試料を傾けて液滴を滑らせる方法から算出され、付着エネルギーをＥとすると下記の式（１）が提唱されている。
Ｅ＝ｍｇ・ｓｉｎα／２πｒ ……（１）
（式中、ｍ：液滴質量、ｇ：重力加速度、ｒ：着液半径、α：滑落角（転落角））
この滑落角（転落角）は、水平に設置した平面状態で固体試料の表面に液体材料を滴下し、ここから固体試料を傾け、液体が滑りだしたときの角度を滑落角と規定され、付着エネルギーの目安として広く普及している。例えば、滑落角（転落角）が大きいほど液体材料は、固体試料に強く付着していることになる。
【００３８】
［３］樹脂層のフッ素化処理工程
図１（ｄ）に示すように、樹脂層５を含む基材１の表面にフッ素化処理７を施す。このフッ素化処理７としては、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むＣＦ４プラズマ処理が好適である。
このように、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すと、樹脂層５に撥液性が生じることとなり、その結果、この樹脂層５の表面の付着エネルギーが低下することとなる。
【００３９】
このように、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すことにより、得られた樹脂層５は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００４０】
［５］蒸着膜形成工程
図２（ｅ）に示すように、樹脂層５を含む基材１の表面１ａの撥液膜２上に蒸着材料８を堆積させる。
【００４１】
ここで、蒸着材料８としては、特に限定されることはないが、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂの群から選択される１種または２種以上を含む金属・合金材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機系絶縁材料、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ等のカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、ＣＮナノチューブ、ＣＮナノファイバー、ＢＣＮナノチューブ、ＢＣＮナノファイバー、炭素繊維等の各種炭素系材料、、Ａｌｑ３（アルミキノリノール錯体）等の有機発光材料等が挙げられる。
【００４２】
この樹脂層５を含む撥液膜２上に蒸着材料８を堆積した場合、この蒸着材料８は、付着エネルギーの小さい樹脂層５から付着エネルギーの大きな撥液膜２上に落下し、この撥液膜２上に集合することとなる。特に、樹脂層５が半球状あるいは凸レンズ状の場合、樹脂層５上に堆積した蒸着材料８は、この樹脂層５から容易かつ速やかに移動して、撥液膜２上に容易に堆積することとなる。
【００４３】
これにより、図２（ｆ）に示すように、この蒸着材料８は、撥液膜２上に選択的に堆積され、その結果、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、選択的に蒸着材料８を集合させた膜９が形成されることとなる。
この膜９を形成した後、必要に応じて、樹脂層５を除去することとすれば、図２（ｇ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、微細な所定のパターンの膜９のみが存在することとなる。
【００４４】
以上により、樹脂層５に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すことにより、得られた樹脂層５は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなり、蒸着材料８を撥液膜２上に集合させ、この集合した蒸着材料８により膜９を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェット３という簡便な方法により、所望のパターンを有する膜９を安価に作製することができる。
【００４５】
また、樹脂層５のパターン精度に対応して膜９の精度を高めることができるので、この膜９の細密化を図ることができる。
さらに、インクジェット３により所定のパターンを有する樹脂層５を形成するので、インクジェット３の液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００４６】
なお、本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明したが、蒸着材料以外の膜材料、例えば、スパッタ材料、イオンプレーティング材料などの、物理気相堆積法（ＰＶＤ法）により堆積される材料等においても、同様の作用・効果を奏することができる。
また、撥液膜２を省略し、基材１の表面１ａ上に集合させて膜９を形成することとしてもよい。
【００４７】
「第２の実施の形態」
図３は、本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図であり、本実施形態の成膜方法が第１の実施形態の成膜方法と異なる点は、第１の実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、基材１の表面１ａの撥液膜２上に樹脂を含むインク４を吐出させて、基材１の表面１ａの撥液膜２上に樹脂層５を形成したのに対し、本実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、インクジェットを用いて樹脂を含むインク４を吐出させ、このインク４を乾燥または加熱・乾燥させる、という工程を繰り返し行い（図３では、４回）、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、付着エネルギーが低くかつ微細な所定のパターンを有する凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層させ、全体形状が凸状の積層構造１１とした点であり、その他の点については第１の実施形態の成膜方法と同様である。
【００４８】
本実施形態においては、図３（ａ）に示すように、積層構造１１を含む基材１の表面に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すことにより、この積層構造１１の表面における付着エネルギーが低下する。
【００４９】
このように、積層構造１１にフッ素化処理７を施すことにより、この積層構造１１の付着エネルギーを低下させるので、図３（ｂ）に示すように、この積層構造１１が用いた樹脂の特性で決定される滑落角（転落角）よりも、高い角度を有することと相まってより容易に蒸着材料８の落下が可能となる。
【００５０】
本実施形態によれば、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層して全体形状が凸状の積層構造１１とし、さらに、積層構造１１に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施したので、この積層構造１１全体の厚みを実質的に厚くするとともに、この厚みのある積層構造１１の付着エネルギーを低下させることができ、結果として、滑落角（転落角）よりも大きい角度に制御され、その結果、積層構造１１上に堆積した蒸着材料８を、撥液膜２上に容易に落下させることができる。
【００５１】
また、樹脂層１１ａ〜１１ｄは、撥液膜２上から上方に向かって順次小さくなるように、それぞれの形状が制御されて全体形状が凸状の積層構造１１とされているので、積層構造１１上に堆積した蒸着材料８は、この凸状の積層構造１１の角度が滑落角（転落角）より大きいことにより、この積層構造１１からさらに容易に落下して撥液膜２上に容易に移動することとなり、蒸着材料８を撥液膜２上に速やかに集合させることができる。
【００５２】
その結果、図３（ｃ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、より速やかに、蒸着材料８を集合してなる膜１３を形成することができる。
さらに、この膜１３を形成した後に積層構造１１を除去することとすれば、第１の実施の形態と同様に、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、微細な所定のパターンの膜１３のみを形成したものとすることができる。
【００５３】
図４は、本実施形態の成膜方法における部分平面形状の一例を示す平面図であり、撥液膜２上に、インクジェットを用いて樹脂を含むインクを吐出させるという工程を、撥液膜２上の面内にて縦横に繰り返し行い、この撥液膜２上に、この撥液膜２より付着エネルギーが低くかつ微細な所定のパターンを有する樹脂層２１ａを千鳥状に多数、互いに接触するように密に形成し、網目状の樹脂層２１とした例である。
【００５４】
この例においては、撥液膜２上に、樹脂層２１ａを多数、互いに接触するように密に形成して、全体の表面形状が凹凸面となる網目状の樹脂層２１としている。
この樹脂層２１を含む撥液膜２上に蒸着材料８を堆積した場合、この蒸着材料８は、付着エネルギーの小さい樹脂層２１から撥液膜２上に移動し、この撥液膜２上に集合することとなる。特に、この樹脂層２１を凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層した積層構造とした場合、この樹脂層２１上に堆積した蒸着材料８は、この樹脂層２１から容易かつ速やかに移動して、撥液膜２上に容易に堆積することとなる。
その結果、撥液膜２上の樹脂層２１ａ間に膜２２を容易に形成することができる。
したがって、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、樹脂層２１及び膜２２が設けられた電子部品２３を得ることができる。
【００５５】
図５は、本実施形態の電子部品２３を時計の文字板の金属層に適用した断面図であり、図において、３１はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）、３２はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）３１に対向配置された時計用文字板である。
この時計用文字板３２は、透明基材３３と、多数の樹脂層２１ａが光透過用の小孔とされるとともに膜２２が光遮蔽部とされた金属層３４（電子部品２３）と、この金属層３４上に設けられ文字やマークを示す第２の金属層３５と、これら金属層３４及び第２の金属層３５を覆う透明層３６とから構成されている。
【００５６】
この時計用文字板３２では、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、インクジェット法という簡便な方法により、所望の時計用文字板３２を速やかかつ安価に作製することができる。
また、金属層３４に凹凸があったような場合においても、インクジェット法を適用することにより、所望の時計用文字板３２を安価に作製することができるので、有利である。
さらに、インクジェットの液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、時計用文字板３２の試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００５７】
「電子機器」
本発明の第１〜第２の実施形態の成膜方法により得られた膜９、１３、２２を電子部品に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子部品を得ることができる。
また、この電子部品を電子機器に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子機器を得ることができる。
【００５８】
図６は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
このパーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備えた表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部１１０７を介して回動可能に支持されている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、本体部１１０４の筐体部分、表示ユニット１１０６の筐体部分、表示ユニット１１０６の表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、本体部１１０４と表示ユニット１１０６とを接続する可撓性配線基板等に適用されている。
【００５９】
図７は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
この携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４、送話口１２０６、表示部１２０８を備えている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、表示部１２０８の筐体部分、表示部１２０８の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、データを保存するための半導体部品（各種メモリ）等に適用されている。
【００６０】
図８は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。なお、この図においては、外部機器との接続についても簡易的に示している。
ここで、通常のカメラでは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００では、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）等の撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【００６１】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
このケース１３０２の内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図９では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
【００６２】
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、このビデオ信号出力端子１３１２には、ＣＲＴ１４０１及び再生回路１４０２を備えたテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４には、パーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００６３】
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、ケース１３０２、表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、ＣＣＤの撮像信号を保存するための半導体部品（各種メモリ）、回路基板１３０８等に適用されている。
【００６４】
なお、本発明の電子機器は、図６のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図７の携帯電話機、図８のディジタルスチルカメラの他、例えば、テレビ、ビデオカメラ、ビューファインダ型やモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機等）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置等）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
【実施例】
【００６５】
次に、本発明の具体的な実施例について説明する。
「実施例１」
まず、石英ガラス基板（基材）を用意し、この石英ガラス基板の表面を純水を用いて洗浄した。
次いで、この石英ガラス基板の表面に、スピンコート法により、フッ素系コーティング材であるノベックＥＧＣ−１７２０（住友スリーエム株式会社製）を含む塗料を塗布して塗布膜を形成し、次いで、この塗布膜を、大気中、８０℃にて３０分、乾燥させて撥液膜を形成し、撥液膜付石英ガラス基板を得た。
【００６６】
次いで、この撥液膜付石英ガラス基板上に、インクジェット印刷法により、オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）を含むインクを吐出させて、半球状の樹脂前駆体を形成し、次いで、この樹脂前駆体を、大気中、８０℃にて１０分、乾燥させて溶媒を除去し、撥液膜の表面に半球状の樹脂層を形成し、樹脂層付石英ガラス基板を得た。
なお、この樹脂層の厚みは２００ｎｍ、臨界表面張力γｃは１２ｍＮ／ｍであった。
【００６７】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層にフッ素化処理を施した。
このようにして得られたフッ素化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、樹脂層から容易かつ速やかに落下して撥液膜上に移動して堆積され、銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の厚みは１００ｎｍであった。
次いで、この銅（Ｃｕ）膜付石英ガラス基板をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びトルエンを含む溶媒により超音波洗浄し、樹脂層を除去した。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００６８】
「実施例２」
オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）をユニダイン ＴＧ−６５６（臨界表面張力：１０ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）に替えた他は、実施例１と同様にして、撥液膜の表面に半球状の樹脂層を形成した。この樹脂層の厚みは２μｍ、臨界表面張力γｃは１０ｍＮ／ｍであった。
【００６９】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層にフッ素化処理を施した。
このようにして得られたフッ素化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、樹脂層から容易かつ速やかに落下して撥液膜上に移動して堆積され、銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の厚みは１００ｎｍであった。
次いで、この銅（Ｃｕ）膜付石英ガラス基板をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びトルエンを含む溶媒により超音波洗浄し、樹脂層を除去した。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００７０】
「実施例３」
実施例１で得られたフッ素化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、物理気相堆積法（ＰＶＤ法）により、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）を堆積させた。
このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）は、樹脂層から容易かつ速やかに落下して撥液膜上に移動して堆積された。このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜の厚みは１００ｎｍであった。
【００７１】
次いで、このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜付石英ガラス基板をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びトルエンを含む溶媒により超音波洗浄し、樹脂層を除去した。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有するスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）からなるＣＶＤ膜を安価に作製することができた。
【符号の説明】
【００７２】
１…基材、１ａ…表面、２…撥液膜、３…インクジェット、４…インク（液滴）、５…樹脂層、７…フッ素化処理、８…蒸着材料、９…膜、１１…積層構造、１１ａ〜１１ｄ…樹脂層、１３…膜、２１…網目状の樹脂層、２１ａ…樹脂層、２２…膜、２３…電子部品、１１００…パーソナルコンピュータ（電子機器）、１２００…携帯電話機（電子機器）、１３００…ディジタルスチルカメラ（電子機器）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材上に所定のパターンの膜を形成する成膜方法として、マスクを用いた蒸着法が広く利用されている。
この蒸着法は、基材上に、成膜すべき蒸着膜と同一のパターンの開口部を有するマスクを配置し、このマスクを介して前記基材上に蒸着材料を堆積させ、このマスクを除去することにより、基材上に所定のパターンの蒸着膜を成膜する方法である。
また、リフトオフによる蒸着膜の成膜方法も提案されている。この方法は、基材上に、逆テーパー状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンを含む基材上に蒸着材料を堆積させて蒸着膜を成膜し、その後、リフトオフ操作によりレジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去し、基材上に所定のパターンの蒸着膜を形成する方法である（特許文献１参照）。
【０００３】
さらに、基材上に化学的気相堆積法（ＣＶＤ法）により所定のパターンの膜を成膜する方法としては、予め、基材の表面に、膜形成領域と、この膜形成領域より濡れ性が低く膜を形成し難い非膜形成領域とを形成しておき、この基材上に膜の原料となる飛来物を、この膜形成領域と非膜形成領域との飛来物に対する濡れ性の違いを利用して膜形成領域に集めるとともに、集められた飛来物を化学反応して得られた反応生成物により、基材上に所定のパターンのＣＶＤ膜を形成する成膜方法も提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１２０４４３号公報
【特許文献２】特開２００５−２１３５９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のマスクを用いた蒸着法では、得られた蒸着膜のパターン精度を一定に保ち続けるためには、一定期間毎にマスクを洗浄し、交換する必要があり、マスクのメンテナンスに時間と手間が掛かり、製造コストが上昇する一因になっている、という問題点があった。
また、従来のリフトオフによる成膜方法では、レジストパターンを形成するのに時間と手間を要する上、レジストパターンとその上の蒸着膜を一緒に除去する必要があることから、レジスト材料及び蒸着材料に無駄が生じ、特に貴金属材料の場合、無視出来ない量になるという問題点があった。
【０００６】
さらに、これらの方法では、例えば、少量多品種生産の場合、品種毎にマスクを作製する必要があるが、マスクの製造には一定の期間が必要になるために、特に、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等では、マスクの製造が間に合わず、対応が難しくなるという問題点があった。
さらにまた、ＣＶＤ膜を形成する成膜方法では、確かに、マスクやレジストを用いずにＣＶＤ膜を成膜することができるものの、このＣＶＤ膜を安価に得ることが難しいという問題点があった。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、基板上に膜を成膜する際に、マスクやレジスト膜を用いることなく、所望のパターンを有する膜を安価に得ることができる成膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような成膜方法を提供した。
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となる。ここで、この樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施すと、樹脂層の表面の付着エネルギーが低下することとなり、その結果、得られた樹脂層は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００１０】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、フッ素化処理が施されることで付着エネルギーが小さくなった樹脂層以外の、基材の表面に集合し易くなり、その結果、基材の表面に選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１１】
さらに、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
【００１２】
本発明の成膜方法は、基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面を撥液化処理する工程と、前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により樹脂を含む液滴を吐出させると、吐出された液滴は、球状あるいは球状に近い略レンズ状となる。ここで、この樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施すと、樹脂層の表面の付着エネルギーが低下することとなり、その結果、得られた樹脂層は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００１４】
そこで、樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積すると、この膜材料は、フッ素化処理が施されることで付着エネルギーが小さくなった樹脂層以外の、基材の表面に集合し易くなり、その結果、基材の表面に選択的に膜材料を集合させた膜を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、簡便な方法により、所望のパターンを有する膜を安価に作製することができる。
【００１５】
また、基材の表面に撥液化処理を施したので、高精細な樹脂層のパターンが形成可能となり、それに伴って膜の精度を高めることができる。
さらに、インクジェット法により所定のパターンを有する樹脂層を形成するので、インクジェットの描画パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等に対しても、容易に対応することができる。
【００１６】
本発明においては、前記樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層を、複数の樹脂層を積層してなる積層構造とすることで、樹脂層の厚みを実質的に厚くすることができ、材料の特性で決定される滑落角（転落角）以上に角度制御が可能となる。その結果、積層構造上に堆積した膜材料を容易に落下させることができる。したがって、積層構造を含む基材の表面に膜材料を堆積した場合、膜材料は、付着エネルギーの低い領域以外の基材の表面にさらに集合し易くなり、その結果、基材の表面に形状の精度が高い膜を形成することができる。
【００１７】
本発明においては、前記樹脂層は、上端部より下端部が広い凸状であることが好ましい。
この構成によれば、樹脂層を、上端部より下端部が広い凸状とすることで、樹脂層上に堆積した膜材料の滑落角度が上昇し、この膜材料をさらに容易に落下させることができる。したがって、膜材料を基材の表面に速やかに集合させることができる。
【００１８】
本発明においては、膜材料を膜とする工程の後に、樹脂層を除去する工程を有することとしてもよい。
この構成によれば、膜材料を集合させて膜とした後に樹脂層を除去することで、基材の表面は膜のみで構成されることとなり、樹脂層が残存しない平坦な膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の成膜方法を示す過程図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図である。
【図４】本発明の第２の実施形態の成膜方法における部分平面形状の一例を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の電子部品を時計の文字板の金属層に適用した状態を示す断面図である。
【図６】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
【図７】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
【図８】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
本発明の実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。
また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造とは縮尺や数等が異なっている。
【００２１】
「第１の実施の形態」
以下、本発明の第１の実施形態について、図面に基づき説明する。
本実施形態の成膜方法は、基材の表面を撥液化処理する工程と、撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、この樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、この樹脂層を含む基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、樹脂層以外の基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を膜とする工程と、を有する方法である。
【００２２】
次に、本実施形態の成膜方法について、図１及び図２に基づき詳細に説明する。
本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明することとする。
［１］基材の表面の撥液化処理工程
まず、図１（ａ）に示す基材１を用意する。
この基材１としては、いかなる材料により構成されたものでもよいが、例えば、石英ガラス、カリガラス、ソーダガラス等の各種ガラス、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）等の無機系絶縁材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等の有機系絶縁材料、ｌｏｗ−Ｋ材等の各種低誘電率材料、アモルファスシリコン、多結晶シリコン等のシリコン材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ等の金属材料等により構成されたものを用いることができる。
この基材１は、これらの材料で構成された層を複数、積層してなる積層構造であってもよい。
【００２３】
次いで、この基材１の表面１ａに撥液化処理を施す。
撥液化処理としては、例えば、次の様な各種の処理方法が挙げられる。
（１）基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法
（２）基材１の表面１ａにＣＦ４プラズマ等を用いて撥液性を示すイオン、例えば、フッ素イオン等を打ち込む方法
（３）基材１の表面１ａに撥液性を有する官能基を導入する方法
これらの中でも、特に、「基材１の表面１ａに撥液膜２を形成する方法」が、大掛かりな設備を必要とせず、簡便な装置を用いて形成することができ、しかも、容易かつ精度よく形成することができるので、好ましい。
【００２４】
この撥液膜２は、高い撥液性を有するものであればよく、特に高い撥液性を有する材料としては、フッ素系材料が好ましい。
このフッ素系材料としては、フッ素系有機材料、フッ素系無機材料、フッ素系有機材料とフッ素系無機材料との複合材料、のいずれか１種が好ましい。
【００２５】
フッ素系有機材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、パーフルオロエチレン−プロペン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、パーフロロアルキルエーテル、およびそれらのシランカップリング剤等が挙げられる。これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２６】
フッ素系無機材料としては、例えば、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、ケイフッ酸等が挙げられ、特に、フッ化チタン酸カリウム、ケイフッ化カリウム、フッ化ジルコン酸カリウムが好ましい。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２７】
この撥液膜２は、上記のフッ素系材料を含む組成物、すなわちフッ素系材料溶液またはフッ素系材料分散液を、基材１の表面１ａに供給（塗布）し、その後、乾燥、必要に応じて加熱・乾燥を行うことにより、形成することができる。
【００２８】
この溶媒または分散媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００２９】
このフッ素系材料を含む組成物を基材１の表面１ａに供給（塗布）する方法としては、例えば、インクジェット印刷法、ディップコート法、スピンコート法、スリットコート法、キャップコート法、ディスペンサー法、スプレーコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等の各種塗布法を用いることができるが、これらの中でも、インクジェット印刷法を用いるのが好ましい。
このインクジェット印刷法によれば、基材１上に直接マスク、例えば、レジスト層等を形成することを必要とせず、しかも、高い寸法精度で撥液膜２を形成することができる。
【００３０】
このフッ素系材料を含む組成物に加熱・乾燥を施すと、フッ素系材料が基材１の表面１ａに固着（固定）するので、好ましい。
このように、上記のフッ素系材料を用いて、基材１の表面１ａに撥液膜２を形成することにより、この基材１の表面１ａにおける撥液性が特に顕著なものとなり、したがって、後述するインクジェット法にて樹脂層を形成する際に、パターンの微細化及び高精度化を図ることができる。
したがって、後述する蒸着材料の堆積工程においては、蒸着材料を基材１の表面１ａに効果的に集合させることができ、得られた膜の微細化及び高精度化を図ることができる。
【００３１】
［２］樹脂層形成工程
図１（ｂ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、インクジェット３を用いて樹脂を含むインク（液滴）４を吐出させる。
また、基材１の表面１ａにフッ素イオン等を打ち込んだ場合や撥液性を有する官能基を導入した場合には、撥液化処理が施された基材１の表面１ａに、インクジェット３を用いて樹脂を含むインク（液滴）４を吐出させればよい。
【００３２】
このインク４に含まれる樹脂は、後述するフッ素化処理を施すことにより、その付着エネルギーが低下する樹脂であればよく、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、これらの樹脂は、熱硬化性型又は、紫外線硬化型であっても良い。
ポリイミド樹脂としては、例えば、ビスマレイミド型ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００３３】
アクリル樹脂としては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリルレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリルオキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−メタアクリルオキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチオールプロパントリアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、１−６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。
【００３４】
シリコーン樹脂としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサン等が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらの樹脂は、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３５】
このインク４に含まれる溶媒としては、例えば、蒸留水、純水、ＲＯ水等の各種水の他、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル（フェニルセロソルブ）等のエーテル類（セロソルブ類）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘブチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等の長鎖アルキル基及びベンゼン環を有する芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩またはその他の各種油類等が挙げられる。
これらは、これらの群から選択される１種のみを単独で、あるいは、これらの群から選択される２種以上を混合して用いることができる。
【００３６】
ここで、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、樹脂を含むインク４を吐出させると、図１（ｃ）に示すように、この吐出されたインク４は、基材１の表面１ａの撥液膜２上における濡れ性が抑制されることとなり、その結果、表面張力により付着エネルギーが小さい形状、すなわち半球状あるいは凸レンズ状の樹脂層５となる。
このインク４には溶媒が含まれているので、この溶媒を除去するために、例えば、室温（２５℃）以上かつ１００℃以下の温度にて、１分以上かつ３０分以下、乾燥または加熱・乾燥させる。
【００３７】
ここで、付着エネルギーについて説明する。
付着エネルギーとは、滑落角（転落角）を用いて固体試料を傾けて液滴を滑らせる方法から算出され、付着エネルギーをＥとすると下記の式（１）が提唱されている。
Ｅ＝ｍｇ・ｓｉｎα／２πｒ ……（１）
（式中、ｍ：液滴質量、ｇ：重力加速度、ｒ：着液半径、α：滑落角（転落角））
この滑落角（転落角）は、水平に設置した平面状態で固体試料の表面に液体材料を滴下し、ここから固体試料を傾け、液体が滑りだしたときの角度を滑落角と規定され、付着エネルギーの目安として広く普及している。例えば、滑落角（転落角）が大きいほど液体材料は、固体試料に強く付着していることになる。
【００３８】
［３］樹脂層のフッ素化処理工程
図１（ｄ）に示すように、樹脂層５を含む基材１の表面にフッ素化処理７を施す。このフッ素化処理７としては、ＣＦ４プラズマを用いて撥液性を示すフッ素イオンを打ち込むＣＦ４プラズマ処理が好適である。
このように、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すと、樹脂層５に撥液性が生じることとなり、その結果、この樹脂層５の表面の付着エネルギーが低下することとなる。
【００３９】
このように、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すことにより、得られた樹脂層５は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなる。
【００４０】
［５］蒸着膜形成工程
図２（ｅ）に示すように、樹脂層５を含む基材１の表面１ａの撥液膜２上に蒸着材料８を堆積させる。
【００４１】
ここで、蒸着材料８としては、特に限定されることはないが、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂの群から選択される１種または２種以上を含む金属・合金材料、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等の金属酸化物材料、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）、スズ添加アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、亜鉛添加インジウム酸化物（ＩＺＯ）、フッ素含有インジウム錫酸化物（ＦＴＯ）等の複合金属酸化物材料、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機系絶縁材料、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ等のカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、ＣＮナノチューブ、ＣＮナノファイバー、ＢＣＮナノチューブ、ＢＣＮナノファイバー、炭素繊維等の各種炭素系材料、、Ａｌｑ３（アルミキノリノール錯体）等の有機発光材料等が挙げられる。
【００４２】
この樹脂層５を含む撥液膜２上に蒸着材料８を堆積した場合、この蒸着材料８は、付着エネルギーの小さい樹脂層５から付着エネルギーの大きな撥液膜２上に落下し、この撥液膜２上に集合することとなる。特に、樹脂層５が半球状あるいは凸レンズ状の場合、樹脂層５上に堆積した蒸着材料８は、この樹脂層５から容易かつ速やかに移動して、撥液膜２上に容易に堆積することとなる。
【００４３】
これにより、図２（ｆ）に示すように、この蒸着材料８は、撥液膜２上に選択的に堆積され、その結果、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、選択的に蒸着材料８を集合させた膜９が形成されることとなる。
この膜９を形成した後、必要に応じて、樹脂層５を除去することとすれば、図２（ｇ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、微細な所定のパターンの膜９のみが存在することとなる。
【００４４】
以上により、樹脂層５に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すことにより、得られた樹脂層５は滑落角（転落角）以上に角度制御がなされ、従って樹脂層の付着エネルギーは非常に小さいものとなり、蒸着材料８を撥液膜２上に集合させ、この集合した蒸着材料８により膜９を形成することができる。
したがって、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェット３という簡便な方法により、所望のパターンを有する膜９を安価に作製することができる。
【００４５】
また、樹脂層５のパターン精度に対応して膜９の精度を高めることができるので、この膜９の細密化を図ることができる。
さらに、インクジェット３により所定のパターンを有する樹脂層５を形成するので、インクジェット３の液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００４６】
なお、本実施形態の成膜方法では、膜材料として蒸着材料を例に取り説明したが、蒸着材料以外の膜材料、例えば、スパッタ材料、イオンプレーティング材料などの、物理気相堆積法（ＰＶＤ法）により堆積される材料等においても、同様の作用・効果を奏することができる。
また、撥液膜２を省略し、基材１の表面１ａ上に集合させて膜９を形成することとしてもよい。
【００４７】
「第２の実施の形態」
図３は、本発明の第２の実施形態の成膜方法の一部の工程を示す過程図であり、本実施形態の成膜方法が第１の実施形態の成膜方法と異なる点は、第１の実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、基材１の表面１ａの撥液膜２上に樹脂を含むインク４を吐出させて、基材１の表面１ａの撥液膜２上に樹脂層５を形成したのに対し、本実施形態の成膜方法の樹脂層形成工程では、インクジェットを用いて樹脂を含むインク４を吐出させ、このインク４を乾燥または加熱・乾燥させる、という工程を繰り返し行い（図３では、４回）、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、付着エネルギーが低くかつ微細な所定のパターンを有する凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層させ、全体形状が凸状の積層構造１１とした点であり、その他の点については第１の実施形態の成膜方法と同様である。
【００４８】
本実施形態においては、図３（ａ）に示すように、積層構造１１を含む基材１の表面に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施すことにより、この積層構造１１の表面における付着エネルギーが低下する。
【００４９】
このように、積層構造１１にフッ素化処理７を施すことにより、この積層構造１１の付着エネルギーを低下させるので、図３（ｂ）に示すように、この積層構造１１が用いた樹脂の特性で決定される滑落角（転落角）よりも、高い角度を有することと相まってより容易に蒸着材料８の落下が可能となる。
【００５０】
本実施形態によれば、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層して全体形状が凸状の積層構造１１とし、さらに、積層構造１１に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理７を施したので、この積層構造１１全体の厚みを実質的に厚くするとともに、この厚みのある積層構造１１の付着エネルギーを低下させることができ、結果として、滑落角（転落角）よりも大きい角度に制御され、その結果、積層構造１１上に堆積した蒸着材料８を、撥液膜２上に容易に落下させることができる。
【００５１】
また、樹脂層１１ａ〜１１ｄは、撥液膜２上から上方に向かって順次小さくなるように、それぞれの形状が制御されて全体形状が凸状の積層構造１１とされているので、積層構造１１上に堆積した蒸着材料８は、この凸状の積層構造１１の角度が滑落角（転落角）より大きいことにより、この積層構造１１からさらに容易に落下して撥液膜２上に容易に移動することとなり、蒸着材料８を撥液膜２上に速やかに集合させることができる。
【００５２】
その結果、図３（ｃ）に示すように、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、より速やかに、蒸着材料８を集合してなる膜１３を形成することができる。
さらに、この膜１３を形成した後に積層構造１１を除去することとすれば、第１の実施の形態と同様に、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、微細な所定のパターンの膜１３のみを形成したものとすることができる。
【００５３】
図４は、本実施形態の成膜方法における部分平面形状の一例を示す平面図であり、撥液膜２上に、インクジェットを用いて樹脂を含むインクを吐出させるという工程を、撥液膜２上の面内にて縦横に繰り返し行い、この撥液膜２上に、この撥液膜２より付着エネルギーが低くかつ微細な所定のパターンを有する樹脂層２１ａを千鳥状に多数、互いに接触するように密に形成し、網目状の樹脂層２１とした例である。
【００５４】
この例においては、撥液膜２上に、樹脂層２１ａを多数、互いに接触するように密に形成して、全体の表面形状が凹凸面となる網目状の樹脂層２１としている。
この樹脂層２１を含む撥液膜２上に蒸着材料８を堆積した場合、この蒸着材料８は、付着エネルギーの小さい樹脂層２１から撥液膜２上に移動し、この撥液膜２上に集合することとなる。特に、この樹脂層２１を凸レンズ状の樹脂層１１ａ〜１１ｄを積層した積層構造とした場合、この樹脂層２１上に堆積した蒸着材料８は、この樹脂層２１から容易かつ速やかに移動して、撥液膜２上に容易に堆積することとなる。
その結果、撥液膜２上の樹脂層２１ａ間に膜２２を容易に形成することができる。
したがって、基材１の表面１ａの撥液膜２上に、樹脂層２１及び膜２２が設けられた電子部品２３を得ることができる。
【００５５】
図５は、本実施形態の電子部品２３を時計の文字板の金属層に適用した断面図であり、図において、３１はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）、３２はＥＬ発光体（またはソーラーセル体）３１に対向配置された時計用文字板である。
この時計用文字板３２は、透明基材３３と、多数の樹脂層２１ａが光透過用の小孔とされるとともに膜２２が光遮蔽部とされた金属層３４（電子部品２３）と、この金属層３４上に設けられ文字やマークを示す第２の金属層３５と、これら金属層３４及び第２の金属層３５を覆う透明層３６とから構成されている。
【００５６】
この時計用文字板３２では、マスクやレジスト膜を用いることなく、また、高価な露光・現像装置等を用いることなく、インクジェット法という簡便な方法により、所望の時計用文字板３２を速やかかつ安価に作製することができる。
また、金属層３４に凹凸があったような場合においても、インクジェット法を適用することにより、所望の時計用文字板３２を安価に作製することができるので、有利である。
さらに、インクジェットの液滴パターンを変更するだけで少量多品種生産に容易かつ迅速に対応することができる。したがって、時計用文字板３２の試作品や生産品を短納期にて作製する必要が生じた場合等にも容易に対応することができる。
【００５７】
「電子機器」
本発明の第１〜第２の実施形態の成膜方法により得られた膜９、１３、２２を電子部品に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子部品を得ることができる。
また、この電子部品を電子機器に適用することにより、信頼性が高くかつ安価な電子機器を得ることができる。
【００５８】
図６は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータを示す斜視図である。
このパーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備えた表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部１１０７を介して回動可能に支持されている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、本体部１１０４の筐体部分、表示ユニット１１０６の筐体部分、表示ユニット１１０６の表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、本体部１１０４と表示ユニット１１０６とを接続する可撓性配線基板等に適用されている。
【００５９】
図７は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）を示す斜視図である。
この携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４、送話口１２０６、表示部１２０８を備えている。
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、表示部１２０８の筐体部分、表示部１２０８の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、データを保存するための半導体部品（各種メモリ）等に適用されている。
【００６０】
図８は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラを示す斜視図である。なお、この図においては、外部機器との接続についても簡易的に示している。
ここで、通常のカメラでは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００では、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）等の撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【００６１】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
このケース１３０２の内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図９では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
【００６２】
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、このビデオ信号出力端子１３１２には、ＣＲＴ１４０１及び再生回路１４０２を備えたテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４には、パーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００６３】
本発明の成膜方法により得られた膜は、例えば、ケース１３０２、表示部の各画素の切り替えを行うスイッチング素子、ＣＣＤの撮像信号を保存するための半導体部品（各種メモリ）、回路基板１３０８等に適用されている。
【００６４】
なお、本発明の電子機器は、図６のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図７の携帯電話機、図８のディジタルスチルカメラの他、例えば、テレビ、ビデオカメラ、ビューファインダ型やモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機等）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置等）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
【実施例】
【００６５】
次に、本発明の具体的な実施例について説明する。
「実施例１」
まず、石英ガラス基板（基材）を用意し、この石英ガラス基板の表面を純水を用いて洗浄した。
次いで、この石英ガラス基板の表面に、スピンコート法により、フッ素系コーティング材であるノベックＥＧＣ−１７２０（住友スリーエム株式会社製）を含む塗料を塗布して塗布膜を形成し、次いで、この塗布膜を、大気中、８０℃にて３０分、乾燥させて撥液膜を形成し、撥液膜付石英ガラス基板を得た。
【００６６】
次いで、この撥液膜付石英ガラス基板上に、インクジェット印刷法により、オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）を含むインクを吐出させて、半球状の樹脂前駆体を形成し、次いで、この樹脂前駆体を、大気中、８０℃にて１０分、乾燥させて溶媒を除去し、撥液膜の表面に半球状の樹脂層を形成し、樹脂層付石英ガラス基板を得た。
なお、この樹脂層の厚みは２００ｎｍ、臨界表面張力γｃは１２ｍＮ／ｍであった。
【００６７】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層にフッ素化処理を施した。
このようにして得られたフッ素化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、樹脂層から容易かつ速やかに落下して撥液膜上に移動して堆積され、銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の厚みは１００ｎｍであった。
次いで、この銅（Ｃｕ）膜付石英ガラス基板をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びトルエンを含む溶媒により超音波洗浄し、樹脂層を除去した。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００６８】
「実施例２」
オプツールＤＳＸ（臨界表面張力：１２ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）をユニダイン ＴＧ−６５６（臨界表面張力：１０ｍＮ／ｍ、ダイキン工業株式会社製）に替えた他は、実施例１と同様にして、撥液膜の表面に半球状の樹脂層を形成した。この樹脂層の厚みは２μｍ、臨界表面張力γｃは１０ｍＮ／ｍであった。
【００６９】
次いで、この樹脂層付石英ガラス基板の樹脂層のみにＣＦ４プラズマを用いてフッ素イオンを打ち込み、この樹脂層にフッ素化処理を施した。
このようにして得られたフッ素化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、蒸着材料である銅（Ｃｕ）を堆積させた。
この銅（Ｃｕ）は、樹脂層から容易かつ速やかに落下して撥液膜上に移動して堆積され、銅（Ｃｕ）膜となった。この銅（Ｃｕ）膜の厚みは１００ｎｍであった。
次いで、この銅（Ｃｕ）膜付石英ガラス基板をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びトルエンを含む溶媒により超音波洗浄し、樹脂層を除去した。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有する銅（Ｃｕ）からなる蒸着膜を安価に作製することができた。
【００７０】
「実施例３」
実施例１で得られたフッ素化処理済みの樹脂層付石英ガラス基板上に、物理気相堆積法（ＰＶＤ法）により、スズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）を堆積させた。
このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）は、樹脂層から容易かつ速やかに落下して撥液膜上に移動して堆積された。このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜の厚みは１００ｎｍであった。
【００７１】
次いで、このスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）膜付石英ガラス基板をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びトルエンを含む溶媒により超音波洗浄し、樹脂層を除去した。
以上により、マスクやレジスト膜を用いることなく、インクジェットという簡便な方法により、所望のパターンを有するスズ添加インジウム酸化物（ＩＴＯ）からなるＣＶＤ膜を安価に作製することができた。
【符号の説明】
【００７２】
１…基材、１ａ…表面、２…撥液膜、３…インクジェット、４…インク（液滴）、５…樹脂層、７…フッ素化処理、８…蒸着材料、９…膜、１１…積層構造、１１ａ〜１１ｄ…樹脂層、１３…膜、２１…網目状の樹脂層、２１ａ…樹脂層、２２…膜、２３…電子部品、１１００…パーソナルコンピュータ（電子機器）、１２００…携帯電話機（電子機器）、１３００…ディジタルスチルカメラ（電子機器）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、
前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項２】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面を撥液化処理する工程と、
前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、
前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項３】
前記樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることを特徴とする請求項１または２記載の成膜方法。
【請求項４】
前記樹脂層は、上端部より下端部が広い凸状であることを特徴とする請求項１、２または３記載の成膜方法。
【請求項５】
前記膜材料を前記膜とする工程の後に、前記樹脂層を除去する工程を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の成膜方法。
【請求項１】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、
前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項２】
基材の表面に膜材料を堆積させることにより膜を形成する成膜方法であって、
前記基材の表面を撥液化処理する工程と、
前記撥液化処理が施された基材の表面に、インクジェット法により、所定のパターンを有する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に、その付着エネルギーを低下させるフッ素化処理を施す工程と、
前記樹脂層を含む前記基材の表面に膜材料を堆積し、この膜材料を、前記樹脂層以外の前記基材の表面に集合させ、この集合した膜材料を前記膜とする工程と、
を有することを特徴とする成膜方法。
【請求項３】
前記樹脂層は、複数の樹脂層を積層してなる積層構造であることを特徴とする請求項１または２記載の成膜方法。
【請求項４】
前記樹脂層は、上端部より下端部が広い凸状であることを特徴とする請求項１、２または３記載の成膜方法。
【請求項５】
前記膜材料を前記膜とする工程の後に、前記樹脂層を除去する工程を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の成膜方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１１−７４４５０（Ｐ２０１１−７４４５０Ａ）
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２７０８１（Ｐ２００９−２２７０８１）
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年４月１４日（２０１１．４．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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