【課題】 薄膜形成用蒸着装置を提供する。
【解決手段】 本発明による薄膜形成用蒸着装置は、蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸発源と、前記蒸発源から供給された気相の蒸着材料を移送する送り管と、前記送り管を開閉する開閉手段と、前記送り管に連結され、前記蒸着材料を基板に向けて噴射する噴射手段とを含んでなる。本発明によると、工程の進行によって、蒸着材料の供給を制御することができる。即ち、蒸着材料の供給が不要な場合、これを遮断することによって、蒸着材料の使用効率を極大化することができる。 （もっと読む）

【課題】 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を提供する。
【解決手段】 上面は開放されており、長い筒状に形成されるハウジングと、上面は開放されており、内部に蒸着用物質を入れるものであり、ハウジングに挿入される複数のルツボと、前記ルツボを加熱する加熱装置と、を備え、ルツボで蒸発された蒸着用物質がルツボの開口から広がる高さの各々異なる有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。 （もっと読む）

【課題】簡易かつ低コストであり、表面損傷も少ない方法により表面にフッ素系樹脂の被膜が形成されたエラストマー成形体並びにこれを使用したゴム材料及びＯリングを提供する。
【解決手段】真空蒸着法により、エラストマー成形体の表面に基材温度１５０℃〜３２０℃の条件下においてフッ素系樹脂の被膜を１０μｍ以下の膜厚で形成する。これにより得られたフッ素系樹脂の被膜を有するエラストマー成形体は、２００℃から３００℃の環境下において、金属との固着力が１００Ｎ以下であり、酸素と四フッ化炭素との混合プラズマ照射による重量減少率が１．０重量％以下である。 （もっと読む）

【課題】気相堆積法による蛍光体層を有する放射線画像変換パネルであって、蛍光体層の密着性が良好な放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】蛍光体層１４が、球状結晶層２４と、その上の複数の球状結晶が融着した塊からなるドメイン層２６と、その上の柱状結晶層２８とを有する。ドメイン層２６は、複数の球状結晶が厚さ方向のみならず面方向にも融着してなる塊が凝集している。小さな歪力は球状結晶層２４で緩和し、剪断力のような大きい歪力はドメイン層２６で緩和する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスが簡単な蒸着装置を提供することを目的とする。また、蒸着材料の電極への付着を防止する電極カバーを提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着室と、被処理物を保持する保持部と、蒸発源と、電極と、電極カバーと、電源と有し、蒸着室は、上方に保持部を有し、下方に蒸発源と電極と電極カバーとを有し、電極カバーは、電極の露出面の少なくとも一部を覆っており、電極と前記電源とは電気的に接続されており、蒸発源と電源とは電気的に接続されており、抵抗加熱によって、蒸発源が加熱され、蒸発源に保持された材料が、前記蒸発源の上方に保持された被処理物に成膜される蒸着装置および蒸着装置に用いられる電極カバーを提供する。 （もっと読む）

【課題】優れた膜厚均一性と蒸発材料の高い利用効率とを同時に実現可能とする。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置は、真空チャンバと、その中で被処理体を保持するホルダと、蒸発材料ＥＭを収容するリザーバＲＳＶと、リザーバＲＳＶ内の蒸発材料ＥＭを加熱して気化させるヒータと、給気口がリザーバＲＳＶの排気口に接続された流量調整器ＦＣと、給気口が流量調整器ＦＣの排気口に接続されると共に気化した蒸発材料ＥＭを被処理体に向けて噴き出すノズルヘッドＮＨとを含んだ蒸発ユニットＥＵとを具備する。 （もっと読む）

【課題】従来のようなプライマ塗装を施す必要がなく、樹脂ガラス用高分子基板とハードコート層との付着性が十分に高く、しかも樹脂ガラス用高分子基板の紫外線による劣化が十分に防止できる高度な耐候性を発揮できるとともに優れた耐擦傷性を発揮することが可能な樹脂ガラス用積層体、並びに、その樹脂ガラス用積層体を効率よく且つ確実に製造することが可能な樹脂ガラス用積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂ガラス用高分子基板と、前記樹脂ガラス用高分子基板上にアルミニウム、ケイ素、チタン、アルミニウム化合物、ケイ素化合物及びチタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の微粒子を付着してなる無機層と、前記無機層を介して前記樹脂ガラス用高分子基板に積層されたアルコキシシラン含有ハードコート層とを備えることを特徴とする樹脂ガラス用積層体。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いた真空蒸着法によりアレイ基板上に薄膜パターンを形成した表示装置で輝点及び／又は滅点が発生するのを抑制する。
【解決手段】本発明の表示装置の製造装置は、真空チャンバＶＣと、真空チャンバＶＣ内でアレイ基板ＡＳを保持する基板ホルダＨＬＤ２と、真空チャンバＶＣ内でアレイ基板ＡＳの下面と向き合うようにマスクＭＳＫを保持するマスクホルダＨＬＤ２と、真空チャンバＶＣＸ内であってマスクＭＳＫの下方に配置される坩堝が収容する蒸発材料を加熱して気化させるヒータと、アレイ基板ＡＳ及び／又はマスクＭＳＫの電位を測定する電位計ＳＮＳ２と、電位計ＳＮＳ２の出力に基づいてアレイ基板ＡＳとマスクＭＳＫとの電位差を小さくする電位制御を行うコントローラＣＮＴとを具備する。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを用いて大型基板の表面を覆う際にフレームレス構造を実現可能とする極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子形成用のマスク等を提供する。
【解決手段】表面にメッキ法により金属層３が設けられた有機ＥＬ素子形成用マスクであって、金属層３を設けたマスク表面の一部にこの金属層３を有しない画定された領域４と、この領域４内に金属層３で形成するマスク側アライメントマーク５とを設けて、このマスク側アライメントマーク５と、前記基板１に設けた基板側アライメントマーク６とを用いてアライメント調整を行えるように構成したもの。 （もっと読む）

【課題】三相遮断素子が故障しているか否かの判別が困難であったという点である。
【解決手段】 電子ビームを発生する電子銃と、前記電子銃放電時に前記電子銃に供給される電流を遮断する遮断回路と、前記電子銃放電時の放電波形を量子化する量子化回路と、この量子化された信号に基づき前記遮断回路の故障状態を判別する判別回路と、を備えた電子ビーム発生装置であって、前記判別回路において前記量子化された信号の幅が所定の幅より長い場合に故障と判別し、所定の幅に満たない場合は正常と判別することを特徴とする電子ビーム装置。 （もっと読む）

【課題】液滴の発生が少なく、大面積に成膜できるアーク蒸着源を提供する。
【解決手段】蒸着材料２５を、冷却電極２３上に配置し、支持電極２２内の循環パイプ３０内に冷媒体を流し、冷却電極２３内を循環させ、表面が溶融しないようにする。バッキングプレート２４内に磁界形成装置２９を設け、プラズマを蒸着材料２５の中心に集め、中心から蒸気を放出させるようにする。また、蒸着材料２５の周囲に浸食停止体２８を設け、周辺部分が浸食されないようにする。以上により、液滴の発生が防止され、また、蒸着材料２５の使用効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】自立性薄膜の微細孔を覆うような多層薄膜を提供する。
【解決手段】自立性薄膜の微細孔内に乾燥泡膜を形成し、該自立性薄膜の片面に所定の材料を蒸着し、さらに別材質のものを蒸着することにより多層薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】電磁波シールド特性に優れたＣｕを高い生産性で成膜することが可能な真空メッキ法を用いて作製することができ、ウイスカが発生しない保護膜を備え、導電性、シールド特性、密着性および耐食性に優れ、かつ、コストおよび生産性においても優れた電磁波シールド膜を提供する。
【解決手段】複数のプラスチック成型品をロット毎に処理し、各ロットにおいて、真空メッキ法で、成型品の表面にＣｕ膜からなる第１層を形成し、得られたＣｕ膜の表面にモネル合金膜からなる第２層を形成するに際し、第２ロット以降、第１ロットの成膜における溶融固化により得られたモネル合金インゴットを繰り返し使用し、ロット毎に、残存するインゴットの質量の４質量％〜１５質量％にあたるＣｕを添加したうえで、成膜を行う。 （もっと読む）

本発明は、コーティングされた状態で優れた腐食抵抗性及び溶接性を有する、コーティングシステムを提供されるフラット鋼生成物に関する。本発明によると、前記鋼生成物は、鋼製のベース層と、前記ベース層へ付与される防食システムとを有し、
前記防食システムは、厚さ３．５μｍ未満の金属コーティングと、前記金属コーティング上に付与されるプラズマポリマー層とを有しており、
ここで、前記金属コーティングが、前記ベース層上に付与される第１金属層と、前記第１金属層上に付与される第２金属層とから形成され、そして、前記第２金属層が、前記第１金属層と共に金属合金を形成している。 （もっと読む）

【課題】高いＪ_Ｃおよび高いＩ_Ｃ等の優れた特性と、低コスト化の実現とを両立することが可能な超電導薄膜材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】超電導薄膜材料１は、金属配向基板１０と、金属配向基板１０上に形成された酸化物超電導膜３０とを備え、酸化物超電導膜３０は、物理蒸着法により形成された物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１と、物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１上に有機金属堆積法により形成された有機金属堆積ＨｏＢＣＯ層３２とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着によって蛍光体層を形成する蛍光体パネルの製造において、蛍光体層に含まれる不純物を低減することができ、蛍光体層中の不純物に起因する輝度劣化の無い、高輝度で高性能な蛍光体パネルを安定して製造することができる蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。
【解決手段】抵抗加熱による真空蒸着によって基板に蛍光体層を形成する蛍光体パネルの製造において、蒸着源としてタンタル製のルツボを用い、前記ルツボへの印加電圧を２．５Ｖ以下として、前記蛍光体層を成膜することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる気相堆積膜の製造方法および気相堆積膜の製造装置並びに放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】真空時蒸着装置の真空チャンバ内に基板がセットされた状態で、前記真空チャンバ内を真空に排気した後に、蒸着前の前記基板の表面状態を確認する工程と、前記基板表面に蛍光体層を形成する工程とを有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。ここで、前記基板の表面状態を確認する工程は表面状態検査手段により行われることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】プレス加工が完了し、意図的にキャリア箔を引き剥がすまでの間に、キャリア箔が銅箔層に確実に密着した状態にあり、且つ、３００℃を超えるプレス加工温度で使用可能なピーラブルタイプのキャリア箔付銅箔の提供を目的とする。
【解決手段】前記課題を解決するために、キャリア箔の表面に接合界面層を介して銅箔層を有するキャリア箔付銅箔であって、当該接合界面層は物理蒸着法で形成した単独の炭素層又は金属層と炭素層とからなる複合層であり、当該銅箔層は物理蒸着法で形成したことを特徴とするキャリア箔付銅箔を採用する。また、当該キャリア箔付銅箔の銅箔層の表面に物理蒸着法で形成した防錆処理、シランカップリング剤処理から選択された１種又は２種以上の表面処理を施したキャリア箔付表面処理銅箔を採用することも好ましい。 （もっと読む）

【課題】 乾式製膜方法によって金属薄膜を形成する際に受ける熱による障害が抑制され皺や剥離のない金属薄膜が形成された金属化ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】 残存溶媒量が０．１〜１００ｐｐｍであるポリイミドフィルムの少なくとも片面に乾式製膜方法によって形成された厚さ０．５μｍ〜５μｍの金属層が形成された金属化ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

本発明は、多数のナノシリンダーがその上に施与されており、その際、それぞれのナノシリンダーは少なくとも４の上下に重なって存在している、１〜１０原子層からなる層を有する基板からなる部材の製造方法に関する。該層は、交互に磁性の元素の原子Ｍと非磁性の元素の原子Ｘとからなり、その際、有利にはＭ＝Ｆｅ、ＣｏまたはＮｉ、およびＸ＝Ｐｄ、Ｐｔ、ＲｈまたはＡｕが選択される。層の数および厚さは、ナノシリンダーの磁気特性に影響を与える。このために、まず準備した基板を、Ａｌ₂Ｏ₃からなるナノポーラス膜により被覆する。引き続き、該ナノポーラス膜により覆われた基板に交互に磁性の元素の原子Ｍと非磁性の元素の原子Ｘとを蒸着させる。最後に、膜の細孔の箇所にナノシリンダーが残るよう膜を除去する。本発明により製造された部材は、磁気メモリー媒体として、回路素子として、またはセンサーとして使用される。 （もっと読む）