【課題】高級感があり、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、ステンレス鋼被膜に近い、高級感のある白色被膜を有する装飾品を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、最外層として貴金属または貴金属の合金からなる白色色調を有する被膜が乾式メッキ法により形成された装飾品において、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成され、前記発色層は、厚み０．２〜１．５μｍの耐摩耗層と厚み０．００２〜０．１μｍの最外層とからなる、ステンレス鋼色調を有する硬質の白色被膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】改質アルミナイド層が形成される基体の被覆のための、従来と異なる方法を提示し、そのような層を有する加工物を使用可能にすること。
【解決手段】基体を被覆するための方法が提示され、ＰｔＭＡｌの種類の白金により改質されたアルミナイドの層が基体に形成され、ここで、Ｍは鉄Ｆｅ又はニッケルＮｉ又はコバルトＣｏなどの金属、又はこれらの金属の組み合わせを示し、層が気相による物理的な堆積ＰＶＤによって形成され、アルミニウムＡｌ及び金属Ｍの少なくとも２つの成分が気相により物理的に堆積され、堆積が少なくとも０．１ｍｂａｒ、好ましくは少なくとも０．４ｍｂａｒ、特に０．４ｍｂａｒと０．６ｍｂａｒの間のプロセス圧力で実行される。この種類の方法を用いて形成された層を付着した基体を備える加工物、特にタービン翼がさらに提示される。 （もっと読む）

【課題】耐硫化性銀系被覆、そのような被覆を堆積させる方法およびその使用方法の提供。
【解決手段】銀系材料被覆の耐硫化性は、被覆の自由表面から１０ｎｍ〜１μｍ、特に１００ｎｍ〜１μｍの深さまで、銀、酸素および材料中に存在することがある一種以上の酸化し得る合金化元素の濃度勾配を形成することにより、さらに改良される。そこで、本被覆は、１個の、銀系材料から製造された主要層１および１個の、酸化された薄膜２の積重構造を含んでなる。これによって、厚さ１０ｎｍ〜１μｍの薄膜が、薄膜２と主要層１との間の界面３から該薄膜２の自由表面２ａに向かって減少して行く銀濃度勾配を有する。支持体上への被覆の堆積は、２つの連続した物理的蒸着工程により、より詳しくは、マグネトロン陰極スパッタリングにより、達成することができる。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバ内の容積を大きくすることなく、真空チャンバ内の複数の蒸発源のいずれかを遮蔽手段によって適宜遮蔽できるようにした成膜装置を提供する。
【解決手段】 処理基板に対向させて少なくとも３個の蒸発源４ａ〜４ｄを設け、いずれかの蒸発源からの蒸発粒子の他の蒸発源への再付着を防止するように蒸発源を遮る遮蔽手段５を設ける。各蒸発源を同一円周上に配置し、この円周の中心を回転中心とする１個の回転軸６１と、この回転軸に同心に配置され各蒸発源の数より少ない本数でかつ真空チャンバ内への突出長さを回転軸より段階的に短くした中空回転軸６２〜６６とを設け、回転軸、中空回転軸に遮蔽手段をそれぞれ連結すると共に、蒸発源を開放する開放位置と蒸発源を遮る遮蔽位置との間で回転軸、中空回転軸を介して遮蔽手段を移動させる駆動手段９を設ける。 （もっと読む）

【課題】 ビッカース硬度が従来の高硬度皮膜と同等かそれ以上であり、かつ耐酸化性を表す酸化開始温度が従来の高硬度皮膜より高い高硬度皮膜を有する、表面被覆部材を提供することを目的とする。
【解決手段】 ＡｌならびにＺｒ、Ｈｆ、Ｐｄ、Ｉｒ及び希土類元素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を主成分とする複合窒化物を含有するコーティング層（２）を基材（１）上に形成する。 （もっと読む）

【課題】皮膜の更なる高硬度化と耐摩耗性を向上させ、耐熱性を改善して温度上昇よる摩耗増大を抑制した硬質皮膜を提供することである。更に、該硬質皮膜を複数層被覆した多層皮膜被覆部材、及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】基材表面に組成が異なる硬質皮膜を２層以上被覆した多層皮膜被覆部材であって、該硬質皮膜は少なくとも硬質皮膜Ａ及び硬質皮膜Ｂを有し、該硬質皮膜Ａは、Ｓｉ（Ｂ_ｕＣ_ｖＮ_ｗＯ_ｚ）で示され、但し、ｕ、ｖ、ｗ、ｚは各元素の原子％、ｕ＞０、ｖ＞０、ｗ＞０、ｚ≧０、ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｚ＝１、を満足する硬質皮膜、該硬質皮膜Ｂは、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ、Ｖ、Ｓｉから選択される２種以上とＢ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１種以上を有する硬質皮膜であることを特徴とする多層皮膜被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】 従来の硬質皮膜であるＴｉＮ皮膜やＴｉＡｌＮ皮膜よりも耐摩耗性に優れた硬質皮膜およびその形成用スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】〔１〕 （Ｚｒ_1-a ，Ｈｆ_a ）（Ｃ_1-x Ｎ_x ）からなる硬質皮膜であって、０．０５≦ａ≦０．４、０≦ｘ≦１を満たすことを特徴とする硬質皮膜（但し、上記式において、ａはＨｆの原子比、ｘはＮの原子比を示すものである）、〔２〕（Ｚｒ_1-a-b ，Ｈｆ_a ，Ｍ_b ）（Ｃ_1-x Ｎ_x ）からなる硬質皮膜（ただし、ＭはＷ，Ｍｏの１種以上）であって、０≦１−ａ−ｂ、０≦ａ、０．０３≦ｂ≦０．３５、０≦ｘ≦１を満たすことを特徴とする硬質皮膜（但し、上記式において、ａはＨｆの原子比、ｂはＭの原子比、ｘはＮの原子比を示すものである）等。 （もっと読む）

【課題】
室温成膜可能なアモルファス酸化物半導体であるＩｎＧａＺｎＯ４を主成分とする半導体の形成時に酸素流量の精密な制御をする必要がなく、再現性良く半導体を成膜することができ、薄膜トランジスタの歩留りの向上を可能とした薄膜トランジスタ料およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】
ＳｎをドープしたＩｎＧａＺｎＯ４ターゲットとし、フレキシブル基板上に、スパッタリング法によりＳｎドープＩｎＧａＺｎＯ４薄膜からなる活性層を形成することにより解決した。 （もっと読む）

【課題】熱による微量の遊離ハロゲンとの反応による反射率の低下を抑制し且つ耐熱性を改善しつつ、高い反射率および低い電気抵抗を有し、しかも熱や湿度に対しても高い安定性を有する反射膜、配線用または電極用薄膜及び半反射型半透過膜、ならびにかかる膜の製造に有用なスパッタリングターゲット材および蒸着材料を提供すること。
【解決手段】Ａｇに、特定少量のＣｕとＴｅ、Ｓｅ、Ｐの少なくとも１種とＭｎを添加し、さらに必要に応じてＩｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｕおよびＩｒの少なくとも１種および／またはＮｉ、Ｆｅ、ＢｉおよびＣｒの少なくとも１種を少量追加添加してなるＡｇ基合金から構成された、スパッタリングターゲット材または蒸着材料ならびに反射膜、配線用膜、電極用膜または半反射型半透過膜。 （もっと読む）

【課題】パーティクル起因の欠陥を低減させたフォトマスクブランクを製造する方法を提供すること。
【解決手段】最も基本的な構造のサセプタ１１は、第１および第２の透明石英部１１ａとの間に不透明石英部１１ｂを挟み込んだ３層構造を有している。不透明石英部１１ｂは例えば「泡入り石英」などの素材が用いられる。また、閃光に対する不透明度は、基板１０上に設けられた薄膜の組成や膜厚ならびに閃光処理する際の照射光エネルギなどの諸条件との関係を考慮して、適当な範囲の値となるように不透明石英部１１ｂの材料選択や厚み設定により決定される。なお、この積層構造は、互いに不透明度が異なる不透明石英部を複数積層させることとしてもよく、光透過性材料からなる層をｎ層（ｎは２以上の自然数）積層させた構造とし、これらｎ層のうちの少なくとも１層をその不透明度が他の層とは異なる構造とすることもできる。 （もっと読む）

【課題】高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及び上記薄層Ｂは、特定な組成式を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＴａ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．６５、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及びＢは、特定な組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＴａ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．６５、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】可視光透過率が減少せず、コーティングの色に悪影響を与えず、耐久性が高い、赤外放射の反射率が高い低放射率コーティングの提供。
【解決手段】前記コーティングは、３つの赤外反射フィルム領域を備え、それぞれ銀を含む。また、本発明によれば、対向する第１および第２主面を有するコーティングされた透明窓板であって、前記コーティングされた窓板は第２の窓板を含む複層断熱グレージングユニットの一部であって、前記断熱グレージングユニットは、窓板間のスペースを有し、前記コーティングされた窓板の前記第２主面はこの窓板間のスペースに曝されており、前記第２主面は、前記低放射率コーティングを備え、前記コーティングされた窓板の可視光透過率は、０．６０を超えることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの相が結晶粒構造を有する、少なくとも２相又は少なくとも２成分を有する材料からなるスパッタターゲットにおいて、少なくとも１つの相の前記結晶粒構造は、最大直径対前記最大直径に対して垂直方向の直径の直径比が２より大で、かつ理論密度の少なくとも９８％の密度を有することを特徴とする、スパッタターゲットに関する。さらに、本発明はスパッタターゲットの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは、特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＶ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、上記薄層Ｂは、特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｍ＋Ｎ）}Ａｌ_ＭＶ_Ｎ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＶ_Ｙ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは、特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＶ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、上記薄層Ｂは、特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｍ＋Ｎ）}Ａｌ_ＭＶ_Ｎ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなり、上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＶ_Ｙ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】Ｔｉ及びＡｌを含有するほかに、Ｎを任意成分として含むことがあるアモルファス膜を成膜する方法を提供する。
【解決手段】 Ｔｉ及びＡｌを含むほかに任意成分としてＮを含むことがあるアモルファス膜であって、電気抵抗率が、６×１０^２Ω・ｃｍ以下の当該アモルファス膜を、スパッタリングターゲットとしてＴｉＡｌ合金を用い、下記のスパッタ条件で基板上に成膜する。（１）ＤＣパワーは、１ｋＷ以上かつ３ｋＷ以下である、（２）成膜室内の気圧は、６ｍＴｏｒｒ以上かつ１２ｍＴｏｒｒ以下である、（３）基板温度は、１００℃以上かつ３００℃以下である、及び（４）Ｎ_２ガスとＡｒガスとの混合スパッタガス中におけるＮ_２ガスの体積比率が０％以上かつ７０％以下である。 （もっと読む）

モリブデンチタンスパッタターゲットが提供される。一態様において、該ターゲットは実質的にβ（Ｔｉ、Ｍｏ）合金相を含まない。もう一つの態様において、該ターゲットは実質的に単一の相β（Ｔｉ、Ｍｏ）合金からなる。両方の態様において、スパッタリング中の粒子放出が減少される。ターゲットを製造する方法、大面積スパッタターゲットを作製するためにターゲットをいっしょに結合する方法、および該ターゲットによって作製された膜も提供される。
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本発明は、付加的に少なくともＴｉＯ_xを含有する、主成分としてコバルト系合金を有する材料混合物に関する。 （もっと読む）

本発明は、５０μｇ／ｇ未満の酸素含量と、理論密度で９９％を上回る密度と、１００μｍ未満の平均粒径とを有するＭｏ又はＭｏ合金を含み、支持管に接続される管状ターゲットを製造する方法に関し、フィッシャー法で測定して０．５〜１０μｍの平均粒径を有するＭｏ又はＭｏ合金からなる金属粉末の製造、１００ＭＰａ＜ｐ＜５００ＭＰａの圧力ｐで、コアを使って可撓性の型で金属粉末を冷間等方加圧することによる管素材の形での圧粉体の製造、減圧又は真空中で、１６００℃＜Ｔ＜２５００℃の温度Ｔで前記圧粉体を焼結することによる管素材の製造、前記管素材を、ＤＢＴＴ＜Ｔ＜（Ｔｓ−８００℃）の成形温度Ｔで加熱し且つ心棒上での押出しによる管の製造、前記支持管への前記管の接合および機械加工の各工程を含む。 （もっと読む）