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Fターム[4K030BA46]の内容

CVD (106,390) | 皮膜材質 (16,728) | 化合物成分を含む皮膜 (8,284) | 酸化物 (3,282) | Ti−O系 (204)

Fターム[4K030BA46]に分類される特許

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化学的気相成長を用いて物質の膜を形成する方法。この方法は、選択された材料でできた、少なくとも一つの金属ナノ構造の模様からなる回路基板を提供することを含む。この方法は、ナノ構造の選択された材料のプラズモン共振周波数を決定すること、そして、選択された材料の熱エネルギーを増加させるために、プラズモン共振周波数に既定の周波数を持つ電磁放射源を用いて、選択された材料の一部を励起すること、を含む。この方法は、プラズモン共振周波数で励起された選択された材料を含む回路基板を覆うように、一つ、または複数の、化学的な前駆物質を適用して、選択された材料の少なくとも一部を覆う膜の選択的な蒸着を引き起こすことを含む。
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機能層を作成する方法において、基材がプロセスチャンバー内に導入される工程と、少なくとも1つのプラズマが、例えばプラズマカスケード発生源のような、少なくとも1つのプラズマ発生源(3)により発生される工程と、前記プラズマ(P)の影響下で、少なくとも1つの第1蒸着材料を前記基材(1)上に蒸着させる工程と、同時に、少なくとも1つの第2材料(6)が、第2の蒸着工程により前記基材に適用される工程と、を備えた方法である。本発明はまた、少なくとも1つのプラズマを発生させる、例えばプラズマカスケード発生源のような少なくとも1つのプラズマ発生源と、蒸着材料を各プラズマ内へ導入する手段と、前記プラズマ発生源と同時に、前記基材上に少なくとも1つの第2蒸着材料を蒸着するように配置された第2蒸着発生源(6)と、を備えた装置である。
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超臨界流体を用いて前駆体を反応室中へ流入させる方法を提供する。いくつかの態様ではALD処理中に超臨界流体を用いて少なくとも1種の前駆体を反応室中へ流入させ、また特定の態様においてALD処理中に超臨界流体を用いて複数の前駆体を反応室中へ流入させる。本発明を用いて、例えば金属酸化物、金属窒化物及び金属から成る材料等の金属含有材料を含めた種々材料を製造する。反応室中への金属含有前駆体の流入に用いられる超臨界流体を用いて金属酸化物を製造し、次いで前駆体を用いて基板表面上へ金属含有層を形成させる。次いで金損含有層を酸素と反応させて前記層中の金属の少なくとも一部を金属酸化物へ変換させる。

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本発明は、基材上における酸化チタンのコーティング膜の付着方法において、光化学的性質を備えた該コーティング膜が、特に該金属酸化物の少なくとも1種の有機金属前駆体及び/又は金属ハロゲン化物を含むガス混合物から、気相において化学的に蒸着され、しかもこの蒸着がプラズマ源により援助されることを特徴とする方法に関する。 (もっと読む)


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