【課題】高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】チップ基体の表面に、下部層としてＴｉ化合物層、上部層としてα型Ａｌ₂Ｏ₃層、の硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆切削チップにおいて、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の全面に、窒化チタン層からなる研磨材層を、０．５〜５μｍの平均層厚で蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材としてＡｌ₂Ｏ₃微粒を配合した研磨液を噴射し、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とし、かつ前記研磨面に硬質被覆層残留応力低減模様をレーザービーム照射形成してなる。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】硬質被覆層のうちの（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（００１）面および（０１１）面の法線がなす傾斜角を測定し、この結果得られた測定傾斜角に基づいて作成された構成原子共有格子点分布グラフにおいて、Σ３に最高ピークが存在し、かつ前記Σ３の全体に占める分布割合が６０％以上である構成原子共有格子点分布グラフを示す改質（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層で構成し、かつ、同Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とすると共に、前記研磨面に硬質被覆層残留応力低減模様をレーザービーム照射形成してなる。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性を有するプラスチック容器に関する。詳しくはプラズマＣＶＤ法でプラスチック容器の内面のうち注出口近傍を除いて形成されているガスバリア膜に疎水性を有する保護膜が積層されているプラスチック容器に関する。
【解決手段】
プラスチック容器の内面のうち注出口先端近傍を除いてガスバリア膜が形成されているプラスチック容器であって、前記注出口先端近傍のガスバリア膜先端面を含めて疎水性を有する保護膜がガスバリア膜に積層されていることを特徴としたプラスチック容器。 （もっと読む）

本方法においては、原子層堆積法を使用して、銀を変色に対して保護する。原子層堆積法においては、被覆材の連続分子層を堆積することによって、薄膜被覆が銀の表面に形成される。例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）または酸化ジルコニウムを被覆材として使用してよい。
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【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、Ｔｉ化合物層の下部層と、密着α型Ａｌ₂Ｏ₃層の層間密着層と、改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の上部層からなる硬質被覆層を形成してなる被覆サーメット工具の前記上部層および層間密着層が、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して、傾斜角度数分布グラフを作成した場合、それぞれ３０〜４５度および７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記傾斜角区分内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上である傾斜角度数分布グラフを示し、かつ前記改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】低温条件での成膜に優れ、安定した成膜が可能であり、かつ段差被覆性に富んだ薄膜を形成することができる。
【解決手段】本発明のＭＯＣＶＤ法用原料は次の式（１）で示される有機金属化合物を用いたことを特徴とする。
【化１０】


但し、Ｍは２価のＰｂ、４価のＰｂ、４価のＺｒ又は４価のＴｉであり、Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜４の直鎖又は分岐状アルキル基であってＲ¹とＲ²は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ³は炭素数２〜４の直鎖又は分岐状アルキル基であり、Ｍが２価のＰｂであるときｎが２でかつｍが２であり、Ｍが４価のＰｂであるときｎが２でかつｍが０であり、Ｍが４価のＺｒ、４価のＴｉであるときｎが４でかつｍが４であるか或いはｎが２でｍが０である。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗値が２００〜１０００Ω／□であって、かつ、均一性に優れたＩＴＯ膜を成膜する方法を提供すること。
【解決手段】スパッター法又はパイロゾル法により膜中のスズ含有量がインジウムに対して１０〜４０重量％、かつ膜厚が１５０Å以上となるように成膜して、膜のシート抵抗が２００〜１０００Ω／□、シート抵抗の均一性が６．１％以内かつ比抵抗が５×１０^−４以上となるようにすることを特徴とするスズドープ酸化インジウム膜の成膜方法。成膜後、酸素を含む雰囲気中で２００℃以上の温度で加熱処理することにより、より高抵抗の膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】薬剤用パッケージ上への高分子抑止表面の作製方法。
【解決手段】含有されるタンパク質溶液の活性に影響することなく、薬剤用パッケージ上へのタンパク質の吸着を低減させる１つ又は複数のコーティングを直接、薬剤用パッケージング上に施すことにより、薬剤用パッケージ上にタンパク質抑止表面を作製する方法。 （もっと読む）

【課題】リモートプラズマ処理方法において、プラズマ処理効率を向上させることである。
【解決手段】相対向する一対の電極４Ａ、４Ｂ、および一対の電極のうち少なくとも一方の電極の対向面に設置された固体誘電体層５もしくは６を備えているプラズマ処理装置を使用する。放電空間８中に大気圧以上の圧力の処理ガス９を導入し、一対の電極へのパルス電圧の印加による放電を用いて処理ガス９を活性化し、活性化した処理ガスを被処理物１１に照射する。放電空間のギャップ間隔ｄが０．３ｍｍ以下であり、電極間の平均電界強度が１０ｋＶ／ｃｍ以上であり、パルス電圧のパルス幅が５マイクロ秒以下である。 （もっと読む）

【課題】ワークの形態、形状、数等に係わらず、プラズマ処理によるワークの表面改質を均一かつ安定的に行う。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、電極２と、電極２の下面に形成された誘電体層３と、ワーク１００を載置すると共に電極２の対向電極としての機能を併有する金属パレット４と、金属パレット４を支持する非金属製のテーブル６と、電極２に対しワーク１００をテーブル６ごとＸ方向に移動する移動手段と、プラズマ処理用のガスを供給するガス供給手段１１とを備える。金属パレット４は、ワーク１００を挿入する複数の凹部４１を有し、金属パレット４の上面４２の凹部４１以外の箇所には、誘電体材料で構成された被覆層５が形成されている。電極２、金属パレット４間に高周波電圧を印加しつつ、ワーク１００と電極２との間にガスを供給してプラズマを発生させ、ワーク１００の被処理面１０１をプラズマ処理する。 （もっと読む）

【課題】ワークのプラズマにより処理する領域を容易かつ自在に設定し得るプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、複数の単位電極４２を有するヘッド４と、ワークを介し、単位電極４２に対向して配置される共通電極２と、共通電極２とワークとの間に所定のガスを供給するガス供給手段と、共通電極４２とワークとの間に供給されたガスを活性化させてプラズマが発生するように、共通電極２と単位電極４２との間に電圧を印加する電源部と、ヘッド４とワークとを相対的に移動させる移動手段とを備え、複数の単位電極４２は、ワークに対するヘッド４の移動方向と異なる方向に沿って並設されており、移動手段によりヘッド４とワークとを相対的に移動させつつ、ワークの単位電極４２に対応した位置を発生したプラズマにより処理するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆超硬工具を提供する。
【解決手段】被覆超硬工具の硬質被覆層の上部層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、この測定結果から作成した傾斜角度数分布グラフにおいて、少なくとも７〜１５度の範囲内の傾斜角区分および０〜７度の範囲内の傾斜角区分にピークが存在すると共に、前記７〜１５度の範囲内に存在する度数の合計が全体の３５〜５０％、前記０〜７度の範囲内に存在する度数の合計が全体の２５〜４０％、である傾斜角度数分布グラフを示す改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層で構成し、前記改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆超硬工具を提供する。
【解決手段】被覆超硬工具の硬質被覆層の上部層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、この測定結果から作成した傾斜角度数分布グラフにおいて、少なくとも７〜１５度の範囲内の傾斜角区分および０〜７度の範囲内の傾斜角区分にピークが存在すると共に、前記７〜１５度の範囲内に存在する度数の合計が全体の３５〜５０％、前記０〜７度の範囲内に存在する度数の合計が全体の２５〜４０％、である傾斜角度数分布グラフを示す改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層で構成し、前記改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】難削材の切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、３〜２０μｍのＴｉ化合物層の下部層と、０．１〜１．９μｍの密着α型Ａｌ₂Ｏ₃層の層間密着層と、６〜２０μｍの改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の上部層からなる硬質被覆層を形成してなる被覆サーメット工具の前記上部層および層間密着層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して、傾斜角度数分布グラフを作成した場合、それぞれ３０〜４５度および７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記傾斜角区分内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上である傾斜角度数分布グラフを示すα型Ａｌ₂Ｏ₃層で構成する。 （もっと読む）

【課題】 高速切削加工で耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】チップ基体の表面に、下部層としてＴｉ化合物層、上部層として酸化アルミニウムと酸化ジルコニウムの２相混合酸化物層（Ａｌ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２層）を蒸着形成してなる被覆切削チップにおいて、前記上部層の全面に、下側層として、組成式：ＴｉＯ_Ｘで表わした場合、Ｘ：原子比で１．２〜１．７、を満足する酸化チタン層、上側層として、組成式：ＴｉＮ_１−Ｙ（Ｏ）_Ｙで表わした場合（但し、（Ｏ）は前記酸化チタン層からの拡散酸素を示す）、Ｙ：原子比で０．０１〜０．４、を満足する窒酸化チタン層、の研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、Ａｌ_２Ｏ_３微粒を配合した研磨液を噴射し、工具取り付け孔周辺部の研磨材層を残して、前記２相混合酸化物層（Ａｌ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２層）の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層が高速断続切削ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、下部層がＴｉ化合物層、上部層がα型Ａｌ₂Ｏ₃層の硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆サーメット工具の前記α型Ａｌ₂Ｏ₃層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して、傾斜角度数分布グラフを作成した場合、３０〜４５度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記３０〜４５度の範囲内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す上位層と、７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記７５〜９０度の範囲内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す下位層層で構成する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法、ＡＬＤ法の原料として熱安定性と気化特性を有する化合物、その製造方法、その化合物を用いた薄膜及び形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物を原料とした金属含有薄膜を形成する。
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自動色制御の方法およびシステムが提供される。これらの方法およびシステムは、熱処理された鋼、例えばかみそりブレード鋼を着色するための様々な酸化プロセスに使用するのに適している。色を測定する工程、測定された色を目標の色値と比較し、それらの間の差を定量化する工程、および、差が予め定められた閾値を超える場合、測定された色および目標色が同等になるか、または予め定められた差異以内になるように、色調節パラメータ、例えば、酸化区域への空気流を調節する工程を包含する、フィードバックループ（閉ループ制御）が確立される。
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【課題】新規なチタン錯体の製法、それらを用いたチタン含有薄膜の形成方法の提供。
【解決手段】ジイミンと金属リチウムとを反応させ、次いでテトラキスアミド錯体を反応させることにより一般式（１）で表されるチタン錯体を製造し、そのチタン錯体を原料としてチタン含有薄膜を形成させる。
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【課題】硬質被覆層が高速重切削ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、下部層がＴｉ化合物層、上部層がα型Ａｌ₂Ｏ₃層の硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆サーメット工具の前記α型Ａｌ₂Ｏ₃層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して、傾斜角度数分布グラフを作成した場合、０〜１５度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記０〜１５度の範囲内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す上位層と、７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記７５〜９０度の範囲内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す下位層層で構成する。 （もっと読む）