蒸着システムおよびそれに関連する方法が、提供される。これらのシステムは、他の利点の中でもとりわけ、質の高い堆積を促進し得；製造、改変および使用を簡単にし得；そして、システムの設置面積を減少させ得る特徴を備えるように設計され得る。１つの局面において、本発明は、原子層堆積システムを提供する。このシステムは、基材を囲むように設計された反応チャンバを備える。この反応チャンバは、上面、底面およびこの上面と底面との間の側壁を有する。
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【課題】 ＭＯＣＶＤ法によりＰＺＴ膜を形成する際に、膜の面方位を（００１）配向が主となるように制御する。
【解決手段】 ＭＯＣＶＤ法によりＰＺＴ膜を形成する際に、ＰＺＴ膜の形成に先立ってＴｉＯｘ核生成層をＭＯＣＶＤ法により、５ｎｍを超える厚さに形成する。 （もっと読む）

【課題】厚膜化α型Ａｌ₂Ｏ₃層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、（ａ）下部層として、いずれも化学蒸着形成された１層または２層以上からなり、かつ０．５〜１０μｍの合計平均層厚を有するＴｉ化合物層、（ｂ）上部層として、化学蒸着形成した状態でα型の結晶構造を有し、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、前記測定傾斜角のうち、４５〜９０度の範囲内にある測定傾斜角を０．２５度のピッチ毎に区分すると共に、各区分内に存在する度数を集計して、特定の傾斜角度数分布グラフを示し、かつ１６〜３０μｍの平均層厚を有する厚膜化改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 安全かつ比較的安価に製造できる、織布といった繊維集合体形態の高活性の光触媒複合材を提供する。
【解決手段】 蒸留精製した四塩化チタンを含む混合ガスを、ガラス繊維の集合体（例、ガラスクロス）と接触させた後、焼成することからなる、蒸着法によってガラス繊維を酸化チタン薄膜で被覆すると、個々のガラス繊維の表面が剥離やクラックや脱落等のない酸化チタンの連続膜で被覆された、高い光触媒活性を有する光触媒複合材が得られる。 （もっと読む）

本発明は、データ媒体や銀行券や証明書などの重要書証及び／又は包装及び同様なものを、偽造防止や追跡調査できるようにすることを目的とするものであって、対象物にコーティングを施して、このコーティングの発色を介して光学的に容易に識別でき、かつ、一義的に関連づけできるように特性表示するシステムに関する。本発明は、また、この特性表示システムのための、セキュリティエレメント及びセキュリティマーキングにも関するものであり、これらは、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法による蒸着によって製造することができるもので、本発明は、それらの製造方法及びそれらの使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に均一かつ良質な薄膜を安定して形成できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 チャンバ３内にはガス供給部７−１、７−２、７−３が設けられる。チャンバ３内の基材１３の同一表面側には電極３５−１、３５−２を有する電極ユニット１５−１、１５−２が回転可能に設けられ、電源１７から電力が供給される。
成膜時には、チャンバ３内にガス供給部７−１、７−２、７−３から成膜用ガスが供給され、電極３５−１、３５−２はプラズマを発生し、基材１３上に薄膜が形成される。
また、成膜中は、電極ユニット１５−１、１５−２の間の距離は放電インピーダンスが一定になるように調整される。 （もっと読む）

薄層の積重ねで被覆された透明ガラスタイプの支持体が記載され、それは少なくとも一つの酸化チタンベースのアンダー層及び酸化錫ベースの主層を含み、被覆された支持体は低い放射率又は好ましい電気伝導性を示しながら極めて低い曇り度を有する。熱分解によって付着された層で被覆された支持体の製造方法もまた記載される。 （もっと読む）

【課題】水滴がたまりにくい防曇素子を提供する。
【解決手段】防曇素子の製造方法であって、基材２２を準備する準備工程と、基材２２の一方の面の周縁部における切り欠き状の領域をそれぞれ押さえる少なくとも３個の保持部３６を有する治具３０により、基材２２を保持する保持工程と、保持部３６に押さえられている領域を除く基材２２の一方の面の全体に、親水膜を成膜する親水膜成膜工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】酸化アルミニウム層の密着性を高めて、工具の長寿命を達成させた酸化アルミニウム被覆工具部材を提供する。
【解決手段】基材の表面に、酸化アルミニウム層と、チタンの炭化物，窒化物，炭窒化物，炭酸化物，窒酸化物，炭窒酸化物の中から選ばれた少なくとも１種のチタン化合物層と、酸化アルミニウム層に隣接した中間層とを被覆した酸化アルミニウム被覆工具部材において、中間層は０．４４〜０．４６ｎｍの格子定数を有するＢ１型化合物からなる酸化アルミニウム被覆工具部材。 （もっと読む）

【課題】切屑を成形し金属機械加工に適した被覆切削工具及びその製造方法に関する。
【解決手段】超硬合金、チタン基またはセラミック基材上に、硬質層帯域をＣＶＤによって堆積する被覆切削工具インサートを製造する方法は、この硬質層帯域が約２〜５０μｍの合計厚みを有し、炭化チタンと窒化チタンと炭窒化チタンと炭酸チタニウムと酸化アルミニウムから選択された少なくとも１層、及び外側の１〜１５μｍ厚みの酸化アルミニウム層または（Ａｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２）×Ｎの多層、ｘが１〜２好ましくは１．３〜１．９の範囲にある最後から２番目の最外層のＴｉＯ_ｘ、及びｘ＋ｙ＋ｚ＝１、ｘ≧０、ｙ≧０及びｚ≧０であり且つ最外層で０．３〜２μｍ厚みのＴｉＣ_ｘＮ_ｙＯ_ｚ、好ましくは単層または多層のＴｉＮ、ＴｉＣまたはｘ＋ｙ＝１、ｘ≧０及びｙ≧０であるＴｉＣ_ｘＮ_ｙ、を含み、切刃線とすくい面との上の少なくとも最外層を除去する後処理を続ける。 （もっと読む）

【課題】第２の反応ガスをプラズマ化して発生されたラジカルのフラックス、すなわち、イオンビームを中性ビーム化して被処理基板に照射するようにした中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明による中性ビーム蒸着装置を利用した蒸着方法は、被処理基板に化学的に吸着されない物質を含む第１の反応ガスを被処理基板がローディングされた反応チャンバ内に供給して化学的に吸着されない物質を含む第１の反応物吸着層を被処理基板上に化学的に吸着させて形成する段階と、第１の反応物吸着層が形成された被処理基板上に第２の反応ガスにより生成された中性ビームを照射して化学的に被処理基板上に吸着されない物質を第１の反応物吸着層から除去して第２の反応物吸着層を形成する段階と、を備える。本発明による中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を利用することによって、チャージングによる損傷なしに工程を実行することができる。 （もっと読む）

【課題】高純度・高密度・均一で、且つ薄くできる高品質のチタン含有酸化物多結晶膜を得るとともにその製造方法、および製造装置の提供。
【解決手段】本発明は、チタン含有酸化物の超微粒子構造を有している多結晶膜とその製造方法に関するものであり、容器外に設置されたコイルに高周波電流を印加して容器内に熱プラズマ炎を生成し、熱プラズマ炎中にチタンを含有した原料ガスを導入することで、原料ガスを原子、イオンの状態まで分解し、斯く分解した原子、イオンが熱プラズマ炎を通過した後原子の再結合、核生成、成長して生成した高温状態のチタン含有酸化物超微粒子（ホットヒューム）を合成する過程において、ホットヒューム中に基板を配置することによって基板上に多結晶膜を作製する。また、基板の配置位置を変更して異なる特性の多結晶膜を作製する。 （もっと読む）

【課題】 基板の熱対流の影響を受け難く、更に均一な酸化物膜の形成が可能で電極への膜付着の問題を解決する酸化物膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】 上方に設置した基板に向かって酸素を含むプラズマ化したガスを下方より吹き付けつつ、金属系化合物ガスを供給して酸化物膜を形成する酸化物膜製造方法であって、前記金属系化合物ガスは、プラズマ化したガスを作り出すための電極部の側面方向より電極部と基板との間に供給する酸化物膜成膜方法である。好ましくは、本発明の上記金属系化合物ガスは基板に対して０〜８０°の範囲で供給する酸化物膜成膜方法であり、更に好ましくは、本発明の上記プラズマ化したガスは、プラズマを発生させるための駆動用ガスと上記金属化合物ガスと反応する反応ガスとの混合ガスである酸化物膜成膜方法である。 （もっと読む）

【課題】 被処理材を部分的に表面処理する場合に、処理ガスを漏洩させることなく、被処理材の処理領域を均一に表面処理することができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】 処理ガスが吹き出す処理ヘッド１の処理表面４３に、ワークＷの処理領域Ｆ１を対向配置し、処理表面４３と処理領域Ｆ１との間に処理ガスを流して、ワークＷの表面処理を行う装置Ｍであって、処理ヘッド１は、処理ガスを排気すべく処理表面４３に隣接する排気口４１ａを備えると共に、ワークＷと対向した処理ヘッド１の表面からワークＷに向って、処理表面４３を突出させて形成している。 （もっと読む）

可視光透過率が60％未満であり且つ透過及び反射における色相が実質的に同一の透明基板（１０）は、少なくとも一方の面上にコーティングを具える。該コーティングは、着色層（３０）とオーバーコート層（２０）とを含む。該着色層（３０）は、酸化スズを含み且つ幾何学的厚さが250 nm未満であり；前記オーバーコート層（２０）は、幾何学的厚さが50 nm未満で且つ前記着色層（３０）よりも540 nmでの屈折率が高い。該オーバーコート層は、好ましくは、チタニアを含む。前記コーティングを、500℃を超える温度で、スプレー熱分解法を用いて付加することができる。前記基板は、好ましくは、異形ガラスシートである。 （もっと読む）

基板クリーニング装置を備えたコータを開示する。また、基板クリーニング装置を備えたコータにおける基板の処理方法も開示する。基板クリーニング装置は、イオン銃（つまり、イオン源）を備えている。イオン銃は、コータ内に延びている基板走行路の下方（例えば、基板支持部の下方）に配置され、基板の底主面の処理に適している。一定の実施形態は、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置を備えている。この種のいくつかの実施形態において、上向コーティング装置は、基板の底主面に対し、光触媒コーティングを上方に向かって堆積するように構成されている。本発明のある実施形態は、下向コーティング装置を備えており、基板クリーニング装置は、基板走行路に沿って、前記下向コーティング装置よりも先方にある。この種のいくつかの実施形態はまた、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置も備えている。
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【課題】大面積を均一に処理することが可能であると共に、これ以外の処理も容易且つ柔軟に行うことができる基体表面処理方法および基体表面処理装置を提供すること。
【解決手段】電源１８に負荷抵抗１４Ａを介して接続され、電源１８により電圧が印加される第１の電極１２Ａと、第１の電極１２Ａに対向配置された第２の電極１３Ａとの間に、Ｈｅガスを含むＨｅ含有ガスを供給しつつ大気圧近傍の圧力下でプラズマを発生させ、基体表面を前記プラズマにより活性化された活性化物質に曝して処理する方法および装置であって、第１の電極１２Ａが、互いに隣接し且つ絶縁された状態で配置された２つ以上の電極からなり、負荷抵抗１４Ａが、２つ以上の電極１２Ａの各々に対応して設けられている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、エッチング性に優れ、低抵抗値、高い透過率、良好な表面平滑性を併せ持つ透明電極及び透明電極の製造方法を提供することである。
【解決手段】 透明基材上に透明高屈折率層と金属粒子とを交互に積層し、総膜厚が３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であって、かつ表面抵抗値が１Ω／□以上、１３Ω／□以下であることを特徴とする透明電極。 （もっと読む）

【課題】温度上昇や被加工物の高硬度化による摩耗増大を抑制することのできる最適な耐摩耗皮膜及び耐摩耗皮膜を被覆した被覆切削工具及び耐摩耗皮膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】耐摩耗皮膜の金属成分が（ＳｉＸＭ１−Ｘ）、非金属成分が（ＮＹＧ１−Ｙ）で示され、但しＸの値は金属成分のみの原子％を１００とした場合、１５原子％以上、９５原子％以下であり、Ｙの値は非金属成分のみの原子％を１００とした場合、１０原子％以上、９９．９原子％以下であり、ＭはＴｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｙ、Ｃｕ、Ｎｉから選択される１種以上であり、ＧはＣ、Ｏ、Ｂ、Ｃｌ、Ｓ、Ｐ、Ｈ、Ｆから選択される１種以上であり、該耐摩耗皮膜はＳｉ含有量が１０原子％未満の結晶粒子とＳｉ含有量が１０原子％以上の非晶質相とが存在することを特徴とする耐摩耗皮膜である。 （もっと読む）

大気圧もしくはその近傍の圧力下、高周波電界Ａを発生させた第１の放電空間に放電ガスを供給して励起し、前記励起した放電ガスのエネルギーを薄膜形成ガスに伝えて励起し、基材を、前記励起した薄膜形成ガスに晒すことにより、前記基材上に薄膜を形成する第１の工程と、高周波電界Ｂを発生させた第２の放電空間に酸化性ガスを含有するガスを供給して励起し、前記第１の工程で形成された前記薄膜を、前記励起した酸化性ガスを含有するガスに晒す第２の工程とを有することを特徴とする薄膜形成方法。
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