【課題】ワークの被処理面を短時間に効率よく処理することができる簡易な構造のプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、間隙４０を介して略平行に対向して配置された１対の平板状の第１の電極２と、ワーク１０を設置するワーク設置部１００と、ワーク設置部１００を介して第１の電極２の下端部と対向配置された第２の電極３と、第１の電極２と第２の電極３との間に電圧を印加する電源７２を備えた電源回路７と、間隙４０にプラズマ生成のための処理ガスを供給するガス供給手段８とを備え、間隙４０に処理ガスを供給しつつ、第１の電極２と第２の電極３との間に電圧を印加することにより、処理ガスを活性化してプラズマを生成させ、間隙４０の下端部に形成されたプラズマ噴出部５より該プラズマを噴出して、ワーク１０の被処理面１０１を処理するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】
熱ＣＶＤ法あるいはＭＯＣＶＤ法で製造される従来の薄膜太陽電池用基板（透明電極）に比べて、安価で、且つ、電気的及び光学的性能が優れている薄膜太陽電池用基板の製造方法として、大面積の製膜が可能で、且つ、安価な有機金属材料を原料に使うことが可能な高周波プラズマＣＶＤ技術を用いた新しい方法及び装置を創出し、それに関する技術を提供すること。
【解決手段】
有機金属材料を原料とする高周波プラズマＣＶＤ装置により、透明性絶縁基板の上に、非晶質酸化チタン膜と結晶質酸化チタン膜と結晶質酸化亜鉛膜の３層構造からなる透明電極膜を積層する。その結果、安価で、且つ、光閉じ込め効果（膜の凹凸構造）を有し、高導電性で高光透過性の薄膜太陽電池用基板が得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマ化学気相堆積時の基板の加熱を低減する目的に基づいている。
【解決手段】そのために、プラズマ気相堆積を用いて基板をコーティングするための方法および装置が提供されるが、その方法および装置では、コーティングしようとする基板の基板表面の周囲の少なくとも一部が排気され、コーティングのための開始物質をもつプロセス・ガスが入れられ、コーティングが、プロセス・ガスで満たされた基板表面の周囲で電磁エネルギーを放射することによって点火されるプラズマにより堆積される。電磁エネルギーは、好ましくはマイクロ波または無線周波のパルスの、多数のパルス・シーケンスの形態で放射され、そのパルス・シーケンスは第１の間隔で時間的に間隔をあけられた多数のパルスをもち、放射された電磁エネルギーはその間隔で停止され、パルス・シーケンス間の間隔は、パルス・シーケンス内のパルス間の第１の間隔より少なくとも３倍、好ましくは少なくとも５倍長い。 （もっと読む）

【課題】高機能性薄膜を、大面積へ均一に、生産性高く、且つ、高性能に形成する薄膜形成方法、該薄膜を有する物品、光学フィルム、および、それを達成するための誘電体被覆電極およびプラズマ放電処理装置を提供する。
【解決手段】導電性母材を誘電体で被覆した角柱型の誘電体被覆電極であって、前記誘電体の空隙率が１０体積％以下であることを特徴とする誘電体被覆電極 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生領域で短時間にワークの被処理面を均一化する処理が可能なプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、第１の電極２と、第１の電極２と対向配置される第２の電極３と、第１の電極２と第２の電極３との間に電圧を印加する電源７２を備えた電源回路７と、第１の電極２と第２の電極３との間にプラズマ生成のための処理ガスを供給するガス供給手段８と、第１の電極２に向けて処理ガスを噴出するノズル５とを備え、第１の電極２と第２の電極３との間に電圧を印加することにより、ノズル５から噴出された処理ガスを活性化してプラズマを生成し、該プラズマによりワーク１０の被処理面１０１をプラズマ処理するよう構成されているプラズマ処理装置１であって、第２の電極３の第１の電極２と対向する面側に、ノズル５の外周側に周方向に沿って凸部３１と凹部３２とが形成されてなり、凸部３１と第１の電極２との距離が凹部３２と第１の電極２との距離よりも狭く配置されている。 （もっと読む）

【課題】データ保存のための強誘電体薄膜の製造方法及びそれを利用した強誘電体記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に非晶質のＴｉＯ_２層を形成する工程、ＴｉＯ_２層上にＰｂＯガス雰囲気を形成する工程及びＴｉＯ_２層とＰｂＯガスとを４００℃ないし６５０℃の温度範囲で反応させて、基板上に１ｎｍないし２０ｎｍサイズの微細結晶粒構造を有するＰｂＴｉＯ_３強誘電体薄膜を形成する工程を含む強誘電体薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ガラス生産プロセス中にフロートバス内で移動しているガラスリボン上に、少なくとも１３０Å／秒の高い堆積速度で、相当の厚さの金属酸化物コーティング、特に酸化スズコーティングを堆積する化学蒸着方法及び、該方法により被覆されたガラスを提供する。
【解決手段】被覆される金属酸化物に対応する金属の四塩化物、酸化スズコーティングに際しては四塩化スズを用い、酸素源としては有機酸素含有化合物、好ましくはβ水素を有するアルキル基を有するエステルを用いる。 （もっと読む）

【課題】装置の複雑化を伴うことなく、ワークの被処理面の各部に応じた処理を行い得るプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、プラズマを用いて、ワーク１００の被処理面１０１を処理する装置であり、第１の電極２と、複数の単位電極４１で構成され、各単位電極４１がそれぞれ第１の電極２に対して接近および離間可能なように、ワーク１００を介して第１の電極２に対向して設置された第２の電極４と、第１の電極２と第２の電極４との間に電圧を印加する電源回路（通電手段）８と、第１の電極２と第２の電極４との間に、ワーク１００の被処理面１０１を処理する処理ガスを供給するガス供給手段１１と、複数の単位電極４１と第１の電極２との離間距離を規定する離間距離規定手段５とを有する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理を効率よく行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、印加電極２と、ワーク１００を載置するとともに印加電極２の対向電極としての機能を併有するパレット（第１の電極）４と、プラズマ処理用のガスを供給するガス供給手段１１と、印加電極２とパレット４との間に電圧を印加する第１の回路（電源部）８を備え、パレット４を載置するテーブル６の下面６３には、振動子９が配設されており、この振動子９によりパレット４とワーク１００とを一体的に振動させながらワーク１００の被処理面１１０を処理するよう構成されている。また、この振動子９による振動により、被処理面１１０と対向面３０との間に、被処理面１１０に節が位置する定在波を発生させるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速重切削加工等で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）Ｔｉ化合物層からなる下部層、（ｂ）結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して傾斜角度数分布グラフを作成した場合、７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在し、その度数割合が５０％以上を占める傾斜角度数分布グラフを示すα型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる補強層、（ｃ）改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、工具すくい面領域にのみ、さらに、酸化チタン層（下側層）と窒酸化チタン層（上側層）からなる最外層を設ける。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工等で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）Ｔｉ化合物層からなる下部層、（ｂ）結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して傾斜角度数分布グラフを作成した場合、０〜１５度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在し、その度数割合が５０％以上を占める傾斜角度数分布グラフを示す改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、工具すくい面領域にのみ、さらに、酸化チタン層（下側層）と窒酸化チタン層（上側層）からなる最外層を設ける。 （もっと読む）

【課題】少なくとも固体原料を用いて超臨界成膜法により膜を形成するにあたり、その固体原料を一定速度で成膜チャンバ内に導入可能な成膜装置、並びにその原料の導入方法及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜チャンバと、前記固体原料を超臨界二酸化炭素に溶解させた固体原料溶液を調製する調合器と、前記調合器内に超臨界二酸化炭素を供給する第一の超臨界二酸化炭素供給ラインと、前記固体原料溶液における固体原料の濃度をモニタリングする検出器と、前記検出器で得られた固体原料の濃度をフィードバックして、前記成膜チャンバ内に導入される固体原料の導入速度が一定になるように、前記調合器から排出される固体原料溶液の流速を制御する流速調整手段と、前記調合器から排出される固体原料溶液を前記成膜チャンバ内に導入する固体原料導入ラインと、を有する成膜装置を使用する。 （もっと読む）

【課題】金属含有膜を作製するために使用される多座β−ケトイミナートの金属含有錯体を提供する。
【解決手段】例えば、ビス（２，２−ジメチルー５−（ジメチルアミノエチルーイミノ）ー３ーヘキサノナートーＮ，Ｏ，Ｎ’）ストロンチウムやトリス（２，２−ジメチルー５−（ジメチルアミノエチルーイミノ）ー３ーヘキサノナート）イットリウムなどの化合物が挙げられる。 （もっと読む）

本発明は一般的に、材料の堆積のための方法を提供し、さらに詳細には、本発明の実施形態は、障壁層、シード層、導電材料および誘電材料を堆積するために、光励起技術を利用する化学気相堆積処理および原子層堆積処理に関する。本発明の実施形態は一般的に、支援型処理の方法および装置を提供し、支援型処理は、均一に堆積される材料を提供するために行われてもよい。 （もっと読む）

【課題】一対の電極間のギャップにガスを導入し、ガスを活性化して排出する方式のプラズマ処理装置において、電極駆動機構なしに電極ギャップを安定して一定に保持できるようにすると共に、固体誘電体層の電極からの剥離やパーティクルの発生を抑制することである。
【解決手段】プラズマ処理装置１０は、第一の電極層２Ａ、第一の電極層２Ａを埋設する第一のセラミック層１Ａ、第二の電極層２Ｂ、および第二の電極層を埋設する第二のセラミック層１Ｂを備える。第一のセラミック層の第一の表面１ａと第二のセラミック層の第二の表面１ｃとの間にギャップ７が形成されている。第一の電極層と第二の電極層とに対する電圧の印加による放電を用いて、ギャップ７内に導入された処理ガス８を活性化し、活性化した処理ガス９を排出する。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】硬質被覆層の１層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、この測定結果に基づいて作成した傾斜角度数分布グラフにおいて、０〜１０度の傾斜角区分内に最高ピークが存在し、かつ前記０〜１０度の範囲内に存在する度数の合計が、度数全体の４５％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す改質（Ａｌ、Ｃｒ）_２Ｏ_３層で構成し、かつ、同改質（Ａｌ、Ｃｒ）_２Ｏ_３層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とすると共に、前記研磨面に硬質被覆層残留応力低減模様を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】低出力あるいは低周波の電源を用いても、プラズマを安定して発生させることができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明のプラズマ処理装置１Ａは、互いに間隔を隔てて対向する１対の電極１２、１３を有し、１対の電極１２、１３間のプラズマ生成空間１９に所定の処理ガスＧ１を流通させつつ、１対の電極１２、１３間に電圧を印加することにより電界を生じさせて、処理ガスＧ１を活性化してプラズマを生成し、プラズマをワークＷに向けて放出して、該ワークを処理するものであって、プラズマ生成空間１９に供給される処理ガスＧ１を加熱するヒーター４０を有する。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】被覆切削チップの硬質被覆層の下部層の１層および上部層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用いて、それぞれ結晶粒の結晶面である（００１）面および（０１１）面（下部層）、並びに（０００１）面および（１０-１０）面（上部層）の法線がなす傾斜角を測定し、この結果得られた測定傾斜角に基づいて作製した構成原子共有格子点分布グラフにおいて、Σ３に最高ピークが存在し、かつ前記Σ３のΣＮ＋１全体に占める分布割合が６０％以上である構成原子共有格子点分布グラフを示す改質ＴｉＣＮ層（下部層）および改質Ａｌ_２Ｏ_３層（上部層）で構成し、前記上部層の表面を研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下の表面粗さとし、かつ前記研磨面に硬質被覆層残留応力低減模様をレーザービーム照射形成してなる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成空間を形成する１対の板状部材の長さに関わらず、ワークに対する処理を均一かつ安定的に行うことができるプラズマ装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ装置１は、プラズマを放出するプラズマ放出部２を備え、このプラズマ放出部２は、誘電体材料で構成され、ワーク１００のプラズマ放出部２に対する移動方向と直交しかつ被処理面１０１の法線方向と直交する方向に沿って互いに平行に配置され、それらの間にプラズマ生成空間２１を形成する１対の板状部材２３、２４と、板状部材２３、２４に固定され、プラズマ生成空間２１の少なくとも一部を板状部材２３、２４の長手方向に沿って複数の小空間に区画する区画部材２７と、１対の板状部材２３、２４間に電圧を印加する通電手段と、プラズマ生成空間２１に所定のガスを供給するガス供給手段２９とを備えている。区画部材２７は、スペーサとしての機能や整流効果を有する。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】硬質被覆層のＴｉ化合物のうちの１層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（００１）面および（０１１）面の法線がなす傾斜角を測定し、この結果得られた測定傾斜角に基づいて作成された構成原子共有格子点分布グラフにおいて、Σ３に最高ピークが存在し、かつ前記Σ３の全体に占める分布割合が６０％以上である構成原子共有格子点分布グラフを示す改質（Ｔｉ，Ｃｒ）ＣＮ層で構成し、かつ、同Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とすると共に、前記研磨面に硬質被覆層残留応力低減模様をレーザービーム照射形成してなる。 （もっと読む）