【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、Ｔｉ化合物層の下部層と、密着α型Ａｌ₂Ｏ₃層の層間密着層と、改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の上部層からなる硬質被覆層を形成してなる被覆サーメット工具の前記上部層および層間密着層が、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して、傾斜角度数分布グラフを作成した場合、それぞれ３０〜４５度および７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記傾斜角区分内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上である傾斜角度数分布グラフを示し、かつ前記改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】下部層が３〜２０μｍのＴｉ化合物層、上部層が１．５〜５．９μｍの改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆サーメット工具の前記下部層と上部層の間に、補強層として、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して、傾斜角度数分布グラフを作成した場合、７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記７５〜９０度の範囲内に存在する度数の合計が度数全体の５０％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示し、かつ０．１〜１．９μｍの補強α型Ａｌ₂Ｏ₃層を介在させ、かつ前記改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

本発明は、排気された環境の中でプレート状の基板（１０）の脱ガスをする装置に関するものであり、長さ方向の大きさ（ｌ）よりも短い間隔（ｄ）を有する実質的に平坦で平行な２つの本体（１１，１２）が中間スペース（２８）を形成しており、前記基板（１０）は前記本体（１１，１２）の間に配置されるとともに縁部領域で該本体から少なくとも突出しており、前記本体（１１，１２）のうち少なくとも一方に、前記中間スペース（２８）で前記本体（１１，１２）および前記基板（１０）に沿って半径方向に前記本体（１１，１２）の周辺部に向かう層状のガス流を生成するためのガス供給部（１３）が配置されており、該周辺部には前記ガス流を排気するための排気開口部（１４）が設けられている。
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【課題】硬質被覆層が高速切削ですぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】下部層がＴｉ化合物層、上部層が上下２層構造のＡｌ₂Ｏ₃層、からなる硬質被覆層において、上位層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、前記測定傾斜角のうち、４５〜９０度の範囲内にある測定傾斜角を０．２５度のピッチ毎に区分すると共に、各区分内に存在する度数を集計してなる傾斜角度数分布グラフにおいて、７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記７５〜９０度の範囲内に存在する度数の合計が５０％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層で構成する。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆超硬工具を提供する。
【解決手段】被覆超硬工具の硬質被覆層の上部層を、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、この測定結果から作成した傾斜角度数分布グラフにおいて、少なくとも７〜１５度の範囲内の傾斜角区分および０〜７度の範囲内の傾斜角区分にピークが存在すると共に、前記７〜１５度の範囲内に存在する度数の合計が全体の３５〜５０％、前記０〜７度の範囲内に存在する度数の合計が全体の２５〜４０％、である傾斜角度数分布グラフを示す改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層で構成し、前記改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とする。 （もっと読む）

本発明は、工具又は工具部品、特にブレードのような切削要素を被覆するための方法に関し、当該方法においては、基体が与えられ、１つ又は複数の層が当該基体に塗布され、少なくとも１つの層は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオビウム、タンタル及び／又はクロムの金属のうちの１つ又は複数の金属炭窒化物から形成され、メタン、窒素及び１つ又は複数の金属化合物を含むガスを用いて堆積される。強い接着力によってさらなる層を上に堆積することができると共に高い耐磨耗性を有する金属炭窒化物層を得るために、本発明によれば、金属炭窒化物から成る層の堆積は、８５０℃〜９５０℃の基体の温度で開始し、その後、基体の温度は少なくとも４０℃だけ上昇し、堆積は、少なくとも一時的にその上昇温度において続くことが提案される。さらに本発明は、物体に塗布される金属炭窒化物層と、１つ又は複数の層が塗布される基体を備える、工具又は工具部品、特にブレードのような切削要素であって、少なくとも１つの層は、ナノコンポジット構造を有する金属炭窒化物層である、工具又は工具部品、特にブレードのような切削要素とを対象とする。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に、膜質及び膜厚が均質な膜を生成する。
【解決手段】 チャンバー１０内の陽極１１ａに対向する陰極１４を、陽極１１ａの中央部に対向する中央電極１４ａと、陽極１１ａの周辺部に対向するリング状の周辺電極１４ｂとで構成している。また、陽極１１ａの外周を囲むように、絶縁体１２を配置している。成膜の開始時には、アークの発生を予防するために、中央電極１４ａと陽極１１ａとの間の電圧を周辺電極１４ｂと陽極１１ａとの間の電圧よりも高くし、陽柱光が発生した後、中央電極１４ａと陽極１１ａとの間の電圧を周辺電極１４ｂと陽極１１ａとの間の電圧未満にする。これにより、プラズマの中央部の温度が周辺部に対して高くなることが防止される。絶縁体１２は、アークに起因する電流が基板１の側面に流れることを防止する。 （もっと読む）

【課題】高速搬送においても放電が安定で、機能性堆積膜を数ｎｍ／ｓｅｃ以上の高速で形成する場合でも、電気的、光学的特性に優れ、量産時の素子の歩留りが向上する堆積膜形成装置を提供する。
【解決手段】堆積膜を形成する基板４の裏面に、表面に凹凸を有する天板２を接触させ、該天板２の表面凹凸に基板４を沿わせて凹凸形状とする堆積膜形成装置であって、該凹部又は凸部のピッチ、凹部と凸部の高低差と、基板４と平板電極３との最短距離とが特定の関係を満たすように設定する。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆サーメット製切削工具の硬質被覆層の表面層を、Ｃｒの一部がＺｒで置換含有され、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用いて、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面および（１０-１０）面の法線がなす傾斜角を測定し、この結果得られた測定傾斜角に基づいて作成された構成原子共有格子点分布グラフにおいて、いずれもΣ３に最高ピークが存在し、かつ前記Σ３のΣＮ＋１全体に占める分布割合が６０％以上である構成原子共有格子点分布グラフを示す改質（Ｃｒ，Ｚｒ）_２Ｏ_３層で構成する。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆サーメット製切削工具の硬質被覆層の表面層を、Ｃｒの一部がＴｉで置換含有され、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用いて、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、前記測定傾斜角の測定結果に基づいて作成された傾斜角度数分布グラフにおいて、８０〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記８０〜９０度の範囲内に存在する度数の合計が、傾斜角度数分布グラフにおける度数全体の４５％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す改質（Ｃｒ，Ｔｉ）_２Ｏ_３層で構成する。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆サーメット製切削工具の硬質被覆層の表面層として、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定し、前記測定傾斜角のうち、４５〜９０度の範囲内にある測定傾斜角を０．２５度のピッチ毎に区分すると共に、各区分内に存在する度数を集計してなる傾斜角度数分布グラフにおいて、８０〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記８０〜９０度の範囲内に存在する度数の合計が、度数全体の４５％以上の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示す改質Ｃｒ_２Ｏ_３層を蒸着形成する。 （もっと読む）

【課題】 ガス経路毎の噴出口から噴出されるガス噴出量を均一にし、反応膜の堆積を低減する加熱装置を提供する。
【解決手段】加熱装置１００は、ガス噴出口１２ｈが形成された基板加熱面１０ａと、ガスが供給されるガス供給口１８とを有し、抵抗発熱体１１が埋設されたセラミックスを含む材料によって構成される基体１０と、ガス供給口１８からガス噴出口１２ｈまで連通し、基体１０内に形成されたガス経路１２と、ガス経路１２の断面積を可変とする調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】厚膜化α型Ａｌ₂Ｏ₃層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆サーメット製切削工が、ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、（ａ）いずれも化学蒸着形成された、ＴｉＣ層、ＴｉＮ層、およびＴｉＣＮ層のうちの１層または２層以上からなり、かつ０．１〜２μｍの合計平均層厚を有する密着性Ｔｉ化合物層、（ｂ）１〜１０μｍの平均層厚で化学蒸着形成され、かつ、特定な傾斜角度数分布グラフを示す改質ＴｉＣＮ層、以上（ａ）および（ｂ）の密着性Ｔｉ化合物層および改質ＴｉＣＮ層を介して、（ｃ）１６〜３０μｍの平均層厚を有する厚膜化α型Ａｌ₂Ｏ₃層、を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】厚膜化α型Ａｌ₂Ｏ₃層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、（ａ）いずれも化学蒸着形成された１層または２層以上からなり、かつ０．１〜２μｍの合計平均層厚を有する密着性Ｔｉ化合物層、（ｂ）１〜１０μｍの平均層厚で化学蒸着形成され、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する立方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である｛１１２｝面の法線がなす傾斜角が特定の傾斜角度数分布グラフを示す改質ＴｉＣＮ層、以上（ａ）および（ｂ）の密着性Ｔｉ化合物層および改質ＴｉＣＮ層を介して、（ｃ）１６〜３０μｍの平均層厚を有する厚膜化α型Ａｌ₂Ｏ₃層、を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】厚膜化α型Ａｌ₂Ｏ₃層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆サーメット製切削工が、ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、（ａ）いずれも化学蒸着形成された、ＴｉＣ層、ＴｉＮ層、およびＴｉＣＮ層のうちの１層または２層以上からなり、かつ０．１〜２μｍの合計平均層厚を有する密着性Ｔｉ化合物層、（ｂ）１〜１０μｍの平均層厚で化学蒸着形成され、かつ、特定な傾斜角度数分布グラフを示す改質ＴｉＣＮ層、以上（ａ）および（ｂ）の密着性Ｔｉ化合物層および改質ＴｉＣＮ層を介して、（ｃ）１６〜３０μｍの平均層厚を有する厚膜化α型Ａｌ₂Ｏ₃層、を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】触媒強化化学気相蒸着装置のシャワーヘッドにフィラメントを效率的に配列することによって蒸着ソースの分解を均一に発生させてガス使用効率を極大化させて、これを通じて均一な薄膜を得ることができる触媒強化ＣＶＤ装置及びフィラメント配列構造により形成された薄膜を採用する有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】２個以上の電極と、電極に各端が接続されたフィラメント、及びフィラメント側に噴射口が向くように配列された複数個のガスノズルで構成されるシャワーヘッドを含む触媒強化化学気相蒸着装置であって、フィラメントは、シャワーヘッドの中心軸に対して左右対称に装着される。フィラメントを效率的に配列することによって蒸着ソースガスの分解を均一に発生させてガス使用効率を８０％以上まで極大化させて、これを通じて均一な薄膜を得る。 （もっと読む）

【課題】 抵抗発熱体を有するセラミックスヒータの被処理物保持面の均熱性を高めた半導体あるいは液晶製造装置用保持体およびそれを搭載した半導体製造装置を提供する。
【解決手段】 抵抗発熱体を有するセラミックスヒータの被処理物保持面の反対側に、金属板を配することにより、セラミックヒータに保持された半導体ウェハあるいは液晶用ガラスの表面の温度を均一にすることができる。セラミックスヒータの上に金属板をのせただけでも効果はあるが、接合、ネジ、嵌合、あるいは真空吸着により、固定した方がより効果が高まる。 （もっと読む）

均一な間隔を置いて配置されたスロットを有するスロット付き静電シールドを使用して処理表面に非対称プラズマ密度パターンを生み出す誘導結合プラズマ源を使用して処理物体を処理するためのより均一なプラズマプロセスが実現される。このスロット付き静電シールドは、非対称プラズマ密度パターンを補償する方法で変更されて、変更されたプラズマ密度パターンを処理表面に提供する。処理表面を横切る変更された半径方向変動特性を生み出すような方法で所与の静電シールドに取って代わるように静電シールド配置が構成されたより均一な半径方向プラズマプロセスが示される。誘導結合プラズマ源は対称軸を構成し、静電シールド配置は、この対称軸についてある半径の範囲にわたって広がる形状を含むように構成される。 （もっと読む）

【課題】
大面積基板に均一な膜厚及び膜質分布で成膜できるプラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】
電極の離間した複数の位置に複数のパルス変調された高周波電力を供給する高周波電力供給手段が設けられ、複数のパルス変調された高周波電力をそれぞれ電極表面上に全体的に伝播するように構成される。 （もっと読む）

【課題】 半導体の設計ルールは、数年後には、０．１０μｍ以下になると言われており、さらに均一な温度分布が要求されている。しかしながら従来技術の抵抗分布調整や分割制御だけでは、数年後の設計ルールを満足するだけの均一な温度分布が達成できない。
【解決手段】 セラミックスからなる均熱板の一方の主面をウエハの載置面とし、内部に複数のブロックに分割された発熱抵抗体を有し、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を前記他方の主面に具備し、前記均熱板を保持するケーシングを備えてなるウエハ加熱装置において、前記複数に分割された発熱抵抗体ブロックは、前記発熱抵抗体を形成した面の中心に配置された円形の発熱抵抗体ブロックと、その外側に同心円状に配置された２つの環状の発熱抵抗体ブロックとからなり、最外周の前記環状の発熱抵抗体ブロックが径方向に分割された複数の発熱抵抗体ブロックとする。 （もっと読む）