【課題】 ポリアミド系樹脂フィルムと有機含有酸化珪素層との密接着性に優れていると共に酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れ、特に、レトルト・ボイル等の加熱殺菌処理等の熱処理加工に対しても、ガスバリア性の劣化が少なく、更に、透明性に優れたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供する。
【解決手段】 二軸延伸ポリアミド系樹脂フィルム１の一方の面に、有機含有酸化珪素層２を設け、更に、該有機含有酸化珪素層の上に、一般式Ｒ¹ _n Ｍ（ＯＲ² ）_m（ただし、式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｍ、ｎ、ｍの意味については略す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜３を設けることを特徴とするバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】チップ基体の表面に、下部層としてＴｉ化合物層、上部層としてα型Ａｌ₂Ｏ₃層、の硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆切削チップにおいて、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の全面に、いずれも０．１〜２．５μｍの平均層厚を有するＴｉＮ層とＴｉＣＮ層の２層以上の交互積層で構成され、かつ、０．４〜５μｍの全体平均層厚を有する研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材としてＡｌ₂Ｏ₃微粒を配合した研磨液を噴射し、工具取り付け孔周辺部の前記研磨材層を残して、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】複数の容器を連続して成膜する際に、プラズマ放電の着火のタイミングを合わせ、良好な成膜が可能となるバリヤ膜形成装置を提供する。
【解決手段】容器を取り囲む大きさの空洞を有する外部電極と、容器内部を排気管を介して減圧する排気手段と、容器内に、排気管側から挿入されバリヤ膜生成用の媒質ガスを吹き出すためのガス吹出し孔と、外部電極と接地電極である内部電極間に電界を付与するための高周波電源と整合器とからなる電界付与手段とを具備してなるバリヤ膜形成装置であって、高周波電源からの電力を複数の外部電極へ供給する同軸線路６２の電力分岐部６１と、複数の外部電極への各電力接続部６３との線路長Ｌは、全て同じ長さであると共に、電気長（Ｌ／λｇ）は、略（Ｎ／４）の関係（ここで、λｇは線路内伝搬波長であり、Ｎ＝２ｎ又はＮ＝２ｎ＋１、ｎは整数である。）を有する。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】チップ基体の表面に、下部層としてＴｉ化合物層、上部層としてα型Ａｌ₂Ｏ₃層、の硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆切削チップにおいて、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の全面に、いずれも０．５〜５μｍの平均層厚を有する、ＣｒＮ層、ＨｆＮ層、ＺｒＮ層、およびＶＮ層のうちのいずれか１層からなる金属窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材としてＡｌ₂Ｏ₃微粒を配合した研磨液を噴射し、工具取り付け孔周辺部の前記研磨材層を残して、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】屋外使用時に、クラックなどが発生し難い太陽電池用裏面保護シート及び太陽電池モジュールを提供する事にある。
【解決手段】フィルム基材層の片面に酸化アルミニウムの蒸着薄膜層を積層し、その上にＳｉ（ＯＲ¹）₄で表されるケイ素化合物あるいはその加水分解物と、水酸基を有する水溶性高分子と、Ｒ²Ｓｉ（ＯＲ³）₃で表されるケイ素化合物あるいはその加水分解物との複合物からなるガスバリア性被膜層を積層してなるガスバリアフィルムの片面に一般グレードポリエステルフィルム層を積層し、他方の面に耐加水分解グレードポリエステルフィルム層を積層した積層体からなり、一般グレードポリエステルフィルム層及び耐加水分解グレードポリエステルフィルム層の少なくとも一つの層が白色フィルムからなり、その太陽電池用裏面保護シートを用いた太陽電池モジュール。 （もっと読む）

【課題】大面積の薄膜太陽電池パネルの生産効率、品質を保持したまま向上させる真空処理装置と製膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置は、（１）プラズマ電極と基板グランドと同一なグランドを有する防着板との間に、少なくとも１つのインダクタあるいはコンデンサ、（２）プラズマ電極の両端部それぞれと高周波電源回路とを接続する伝送線路の任意位置を接続する短絡線と、当該短絡線の両端部それぞれに接続されるインダクタあるいはコンデンサを備えているループ回路、（３）プラズマ電極の両端部それぞれと高周波電源回路とを接続する伝送線路上の各々に並列に接続されるインダクタンス成分としてのインダクタあるいはキャパシタンス成分としてのコンデンサ、任意のインピーダンスを形成することができるインダクタとコンデンサと同軸ケーブルの組み合わせ等が適用されるスタブのうち少なくとも１つを備える。 （もっと読む）

【課題】基材と透明導電膜の間の界面での可視光の反射率が低下し、透明性及び導電性に優れたより実用的な透明導電性基材を提供すること。
【解決手段】基材、反射防止膜及び透明導電膜が、この順で積層されてなる透明導電性基材であって、前記反射防止膜がアルミドープ酸化亜鉛からなり、かつ原子間力顕微鏡による前記反射防止膜の平均面粗さ（Ｒａ）が１．０ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電性基材。 （もっと読む）

半導体装置（100）の表面に多層の不動態皮膜（120）を形成する方法（500）は、化学気相蒸着反応装置（202）内に半導体装置（100）を配置し（500）、反応装置（202）内に窒素源（206）を導入し（504）、反応装置（202）内に炭素源（208）を導入し（508）、半導体装置（100）の表面に炭素窒素の層（402）を堆積し（512）、炭素源（208）の後に反応装置（202）内にシリコン源（210）を導入し（514）、炭素窒素の層（402）上にシリコン炭素窒素の層（404）を堆積する（516）ことからなる。多層の不動態皮膜（120）を組み込む半導体装置（100）もまた開示する。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルかつ十分なバリア性能および耐熱性を有するガスバリアフィルム、耐久性と軽量化とを両立させた画像表示素子および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】プラスチック基板上に、少なくとも一層の無機物からなるバリア層と少なくとも一層の有機層とを交互に有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層の少なくとも一層が原子層デポジッション法（Atomic Layer Deposition：ＡＬＤ法）によって形成されたことを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】炭素を主たる構成元素とする透明導電膜を提供する。
【解決手段】少なくとも炭素を構成元素とする原料物質と水素ガスと窒素ガスとを含む雰囲気のプラズマにより、透明性且つ導電性を有する膜を形成する透明導電膜の製造方法。カーボンナノウォールやカーボンナノチューブなどのカーボンナノ構造体をプラズマＣＶＤで製造する方法と同じであるが、窒素ガスのプラズマや窒素ラジカルのプラズマ中への注入により、炭素を構成元素とする透明導電膜を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、物理的・化学的に極めて安定で、過酷な環境下で使用することが可能な耐久性に優れた多孔質性複合基板を提供することを目的とする。また電極としても使用が可能である。
【解決手段】 基板および該基板に被覆した導電性ダイヤモンド層からなり、該基板が多孔質で開気孔を有し、該導電性ダイヤモンド層を構成する導電性ダイヤモンドが連続している部分が１０００μｍ^２以下であることを特徴とするダイヤモンド被覆基板である。また、前記多孔質基板の開気孔径が０．１μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面平坦性と水蒸気バリア性が向上した粘土薄膜基板、および、その粘土薄膜基板を用いた表示素子を提供する。
【解決手段】粘土薄膜基板は、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜１１の少なくとも片面に、ガスバリア無機質層１２が積層されている。また、他の粘土薄膜基板においては、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜の少なくとも片面に、平坦化無機質層が積層され、該平坦化無機質層の上に、ガスバリア無機質層が積層されている。ガスバリア無機質層は、窒素を含む酸化珪素膜よりなり、平坦化無機質層は、炭素を含む酸化珪素膜よりなる。これらの粘土薄膜基板は、エレクトロルミネッセンス表示素子および液晶表示素子の基板に好適に使用できる。 （もっと読む）

【課題】大きな圧電性を有する圧電体、その製造方法及び圧電素子並びにそれを用いた均一で高い吐出性能を示し、微細なパターニングを行うことが可能な液体吐出ヘッド及び液体吐出装置を提供する。
【解決手段】単結晶または１軸配向結晶の圧電体であり、該圧電体の単位格子の３つの格子長さａ、ｂ、ｃが、それぞれ同温度かつ同組成のバルク状単結晶体の単位格子の格子長さａ₀、ｂ₀、ｃ₀より小さく、かつ前記圧電体の単位格子の体積が、同温度かつ同組成のバルク単結晶体の単位格子の体積より小さいことを特徴とする圧電体。 （もっと読む）

【課題】 水晶結晶薄膜、特にＡＴカット面に優先的に配向した水晶結晶薄膜を均一な厚みで製造するために有利に用いることができる水晶薄膜の製造装置を提供すること。
【解決手段】 排気口を備えた反応容器、反応容器内に装着された基板ホルダ、反応容器内に酸素含有気体を供給する、基板ホルダに支持される基板の表面もしくは基板表面を含む平面上の基板の周囲の領域に間隔を介して先端開口部が向けられて配置されている気体供給管、反応容器内に珪素アルコキシドを含有する気体を供給する供給口、反応容器内に反応促進剤を含む気体を供給する供給口、および各気体供給口側の反応容器の端部と上記基板の設置位置との間に設けられ、基板表面に向いた開口部を有する、珪素アルコキシド含有気体と反応促進剤含有気体との混合室を含む水晶薄膜製造装置。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有し、かつ膜強度を保持し得る多孔質光触媒膜を提供する。
【解決手段】本発明の多孔質光触媒膜は、アナターゼ型二酸化チタンを７０〜１００重量％含む多孔質光触媒膜の改良であり、その特徴ある構成は、アナターゼ型二酸化チタンが二酸化チタンに３〜７重量％の炭素を含有した炭素ドープ二酸化チタンであり、０．１〜１０μｍの範囲内の膜厚に形成され、かつ気孔率が５０〜８０％であるところにある。本発明の多孔質光触媒膜は、大気開放型化学気相析出法によって成膜することが好ましく、比表面積は１００〜１０００ｍ²／ｇの範囲内に規定することが好ましい。また、膜表層に連通する開気孔のうち、孔径１〜１０００ｎｍの細孔における細孔表面積が全細孔表面積の５０％以上を占めることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 金属ゲート電極層に望まれる特性は、微細加工を施された半導体立体構造体上に段差被覆率良く被覆されていることである。またもう一つの特性は、堆積された電極層の表面が１ナノメートルのスケールで平坦であり、電極層の堆積後に特別な平坦化処理を施すことなく電気的な絶縁を目的とした誘電体層を被服することが可能なことである。また、金属ゲート電極層に望まれる更なる特性の一つは、通常の半導体プロセスと同様のエッチング加工性を有していることである。また、金属ゲート電極層に望まれるもうひとつの特性は、結晶粒界がなく均一であり、不純物拡散が抑制された構造であることである。
【解決手段】 上記特性を満たす最良の金属ゲート電極としてアモルファス構造の金属電極が優れていることを見出し、本発明に至った。 （もっと読む）

【課題】 生産性に優れ、基材の表面温度が３００℃以下で形成でき、低キャリア密度、高キャリア移動度及び低抵抗率の透明導電膜及びその形成方法を提供することである。
【解決手段】 大気圧または大気圧近傍の圧力下で、反応性ガスを放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上にキャリア密度が１×１０¹⁴〜１×１０¹⁹／ｃｍ³、キャリア移動度が１〜１００ｃｍ²／Ｖ・ｓｅｃである透明導電膜を形成する透明導電膜の形成方法において、前記反応性ガスが少なくとも酸化性ガス及び還元性ガスを含有し、その比（酸化性ガス／還元性ガス）が０．１〜５０体積％であり、かつ放電空間外に導入するガス中の酸素濃度が０．００１〜３体積％であることを特徴とする透明導電膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】ナノカーボン材料を効率よく連続的に製造することができ、製造効率の向上が可能なナノカーボン材料の製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】ナノカーボン材料の製造装置１は、ＣＶＤ反応を行う反応チャンバ２と、反応チャンバ２内を加熱するヒータ２１と、基板６を冷却する冷却チャンバ４と、反応チャンバ２内に原料ガスを供給するガス供給手段と、反応チャンバ２内のガスを排気する排気手段と、基板６を支持すると共にＣＶＤ反応を行う反応位置２０２へ移送可能な基板支持部２２と、基板６を反応チャンバ２から冷却チャンバ４へ移送する移送手段とを有している。反応チャンバ２と冷却チャンバ４との間には、両者の間を連通させる排出用気密連通路５２が設けられており、排出用ゲート５２１の開閉により両者の間の連通状態と遮断状態とを切り替えることができるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ピンホール等の欠陥が少なく信頼性が高いとともに、高いプロトン導電性も有する酸化物プロトン導電性膜、その酸化物プロトン導電性膜を用いて形成された水素透過構造体、及びその水素透過構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式Ａ_ａＬ_{ｂ(１−ｘ)}Ｍ_ｂｘＯ_３（Ａは、Ｂａ、Ｍｇ、Ｃａ及びＳｒから選ばれる元素を表わし、Ｌは、Ｃｅ、Ｚｒ、Ｔｉ及びＨｆから選ばれる元素を表わし、Ｍは、３族及び１３族の元素から選ばれる元素を表わし、かつ０．５＜ａ＜２．０及び０．５＜ａ／ｂ＜２．０である。）で表されるペロブスカイト構造酸化物からなり、厚みが２０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であり、大気中の電気抵抗が１００ＫΩ以上であることを特徴とする酸化物プロトン導電性膜、及びこの酸化物プロトン導電性膜を水素透過性基材上に形成した水素透過構造体。 （もっと読む）

【課題】透明で、かつ非常に高いバリア性を有するシートを製造するために、プラスチック等の基板上に酸化膜を形成するのに適し、かつコストが低くメンテナンス性が高い装置よび方法を提供すること。
【解決手段】真空容器内で物理気相成長法および／または化学気相成長法で基板上に膜を形成する工程において、前記真空容器内に酸化性ガスを供給して、前記膜の材料を基板に到達する際に酸化させることによって、前記基板上に前記材料の酸化物膜を形成する酸化物膜つき基板の製造方法において、前記真空容器内に供給された酸化性ガス中の酸素原子存在比を５質量％以上にする。 （もっと読む）