【課題】耐焼付性に優れた転動体、その製造方法及び耐焼付性に優れた転動体を備えた動力伝達装置を提供する。
【解決手段】転動体は、基材と、該基材の表面に形成される皮膜とを備える。この転動体における皮膜は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを少なくとも表面構成要素として含む。
転動体の製造方法は、上記転動体を製造する方法であって、基材の表面への皮膜の形成を、溶射材を用いた溶射法によって行う方法である。この転動体の製造方法における溶射材は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを含む。 （もっと読む）

【課題】酸化イットリウム溶射皮膜の表面に、外観色が白色で、緻密かつ平滑で耐プラズマ・エロージョン性にも優れた白色二次再結晶層を生成させる技術を提案する。
【解決手段】大気プラズマ溶射法によって形成された白色の酸化イットリウム溶射皮膜の表面を、活性酸素、オゾン、亜酸化窒素のうちから選ばれるいずれか１種以上の強酸化性ガス雰囲気中でレーザビーム処理することによって、外観色が白色の二次再結晶層を形成する方法、およびその白色二次再結晶層を表面にもつＹ_２Ｏ_３溶射皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】構成部材の摩耗や当接による消耗を有意に抑制することが可能なスクリューの製造方法。
【解決手段】（ｉ）重量比で、５〜９％のＢ（ホウ素）、９〜１１％のＣｒ（クロム）、４〜５％のＳｉ（ケイ素）、およびＮｉ（ニッケル）を含む第１の粉末を準備する工程と、（ｉｉ）金属元素Ｍを含む第２の粉末を準備する工程であって、第２の粉末は、Ｗ（タングステン）および／またはＭｏ（モリブデン）である、工程と、（ｉｉｉ）前記第１および第２の粉末を混合して、溶射粉末を得る工程であって、前記第２の粉末は、前記第１の粉末に対して、Ｍ：Ｂ（ホウ素）がモル比で、０．７５：１〜１：１となるように混合される、工程と、（ｉｖ）構成部材の表面に溶射膜を形成する工程と、（ｖ）前記溶射膜を熱処理して、ホウ化物Ｎｉ（Ｍ_ｘＢ_ｙ）を形成する工程と、を有することを特徴とするスクリューの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明では、良好な耐摩耗性を有するとともに、さらに良好なじん性を有する溶射合金を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｎｉ（ニッケル）−Ｂ（ホウ素）系合金と、金属元素Ｍとを有する溶射合金であって、前記Ｎｉ−Ｂ系合金は、重量比で、５〜７％のＢ（ホウ素）、９〜１１％のＣｒ（クロム）、および４〜５％のＳｉ（ケイ素）を含み、前記金属元素Ｍは、Ｍ：Ｂ（ホウ素）がモル比で、０．７５：１〜１：１となるように含まれ、前記金属元素Ｍは、Ｗ（タングステン）および／またはＭｏ（モリブデン）であることを特徴とする溶射合金。 （もっと読む）

【課題】
上記のような課題を解決するためになされたものであり、比較的コストを低く抑えて溶射することが可能であり、金属の酸化や金属酸化物の変質を抑え、基材との密着性に優れた、緻密な溶射皮膜を形成することができるＨＶＡＦ溶射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
金属、セラミックス又は樹脂が不活性ガス及び圧縮空気とともに粉末供給路に供給されると、ラバルノズルを通過する燃焼ガスの流路の略中心軸上に排出される。金属、セラミックス又は樹脂は比較的低温で、超音速でバレルを通過することにより、酸化や変質が抑えられ、緻密な溶射皮膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止することを可能にした真空成膜装置用部品の製造方法を提供する。
【解決手段】真空成膜装置用部品１の製造方法は、部品本体２の表面にＷおよびＭｏから選ばれる高融点金属からなる溶射膜３を形成する工程と、溶射膜３を還元雰囲気中にて１０７３〜１３７３Ｋの温度で加熱し、溶射膜３の表面に存在する酸化被膜を除去しつつ脱ガス処理する工程とを具備する。脱ガス処理後の溶射膜は、ガス残存量が１０Ｔｏｒｒ・ｃｃ／ｇ以下とされている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、耐摩耗金属基板の表面電気伝導性を高め、新しい構造を有する金属・セラミック複合粉を使用する方法をここで開示する。
【解決手段】
制御された気圧下、溶射方法を用いて金属基板の表面に構造パウダーを堆積させるステップを含む、高電気伝導性表面を有する金属部材を生産する方法であって、前記構造パウダーが、金属のコア部分を有し少なくとも部分的に電気伝導性セラミックにコーディングされている粒子を複数含むことと、当該粒子が金属基板の表面に結合されていることとを特徴とする、高電気伝導性表面を有する金属部材を生産する方法。 （もっと読む）

本発明は、耐火金属、抵抗性酸化物及び揮発性酸化物から選択される少なくとも１つの化合物を含むターゲットを、溶射、特にはプラズマ溶射によって製造するための方法に関する。当該方法は、粉末組成物の形態の前記化合物の少なくとも一部が、制御された雰囲気中で溶射によって前記ターゲットの表面の少なくとも一部に噴射され、及びその構築の際に前記ターゲットに向けられる強力な極低温の冷却ジェットが使用されることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】耐腐食性や耐エロージョン性、耐高温酸化性の高いコーティング層を作業性よく低コストで形成することができ、耐久性の向上を図ることが可能な耐食性を有する部材の製造方法およびその耐食性を有する部材を用いた発電機器を提供する。
【解決手段】還元剤粒子４と、酸化剤粒子３と、耐食性添加剤粒子５とを含有するテルミット剤１を調製する。圧縮ガスを使用する溶射装置１０を用い、前記テルミット剤１を引火させ、引火により前記テルミット剤１から導かれた溶射材料を対象物１５基材の表面に向けて噴射させ、前記対象物１５基材の表面に前記溶射材料からなる耐食性コーティング層１６を形成する。 （もっと読む）

【課題】浸炭や炭化物化による製品品質の低下を防止でき、年数の経過とともに溶射被膜に亀裂剥離が生じることを防止できるカーボン製容器を提供する。
【解決手段】被焼結材料、ろう付け部品または拡散接合部品を載置する表面に溶射被膜（２、３、４）が形成されたカーボン製容器（１）であって、上記溶射被膜として、ニオブ金属、タンタル金属、Ｎｂ−Ｗ系合金を含むニオブ合金またはタンタル合金からなるアンダーコート（２）と、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ・Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｇｄ₂Ｏ₃、Ｙｂ₂Ｏ₃またはＺｒＯ₂−Ｙ₂Ｏ₃系の酸化物セラミックス（３、４）からなるトップコートとを順に形成した。 （もっと読む）

【課題】内燃機関に用いられるカムの軽量化を図るとともに、カムの摺動面において、端部を含む全体における強度の向上を図る。
【解決手段】内燃機関において機関弁を駆動する吸気カム７０を軽量金属により構成し、この吸気カム７０の周面７１に、吸気カム７０の母材によって縁取られる凹部を設け、この凹部に高硬度材料からなる溶射層７１Ｂを形成し、周面７１において凹部を縁取る縁部７１Ａを面取りした。 （もっと読む）

【課題】白色のＹ_２Ｏ_３溶射粉末材料を用いて、黒色の酸化イットリウム溶射皮膜を形成するための技術を提案する。
【解決手段】白色の溶射用Ｙ_２Ｏ_３粉末材料を用い、プラズマ・ジェット発生用作動ガスとして、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガス中に水素ガスを添加した混合ガスによるプラズマ溶射法によって、プラズマ熱源中に含まれる原子状の水素が有する強い還元作用で、Ｙ_２Ｏ_３粉末の酸素の一部が消失したＹ_２Ｏ_３−ｘの黒色粒子に変化させて、基材表面に、黒色酸化イットリウム溶射皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】金属電気メッキ及び電解銅箔設備におけるコンダクターロールにおいて、電蝕マークやアークスポット及びロール表面へのメッキ析出の発生を抑制すると共に耐摩耗性に優れた、電解処理用コンダクターロールを提供する。
【解決手段】コンダクターロール１のロール胴部３の表面に、電気抵抗の低い銅を溶射又はメッキして下地層４を形成し、該下地層の表面に表面硬度の高いＷＣ／ＮｉＣｒ複合材合金層５を溶射し、表面硬度をＨＶ９００〜１２００の高硬度に担持させる。 （もっと読む）

【課題】従来のＹ_２Ｏ₃溶射皮膜はその全てが白色に限定されていることに鑑み、この現実を打破して、基材表面に、酸化イットリウムの黒色溶射皮膜を形成すること。
【解決手段】基材の表面が、化合物の形態でＹ_２Ｏ_3-xである酸化イットリウムからなる黒色溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする熱放射性および耐損傷性に優れる酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】強い腐食性環境下で、プラズマエッチング加工が行われる半導体加工用装置などの容器内配設部材の耐久性の向上を図ること。
【解決手段】金属製または非金属製基材の表面に、直接またはアンダーコート層を介して、周期律表ＩＩＩａ族の酸化物を溶射することによって多孔質層からなる層を形成し、そしてその上に、電子ビームやレーザービームなどの高エネルギーを照射処理を施すことによって、二次再結晶層を形成することにより、半導体加工装置用セラミック被覆部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】優れた耐硫酸腐食性を良好に維持しながら、耐塩酸腐食性をより高めた安価な耐酸腐食性鋼材を提供する。
【解決手段】塩酸腐食後の鋼材表面に、Ｃ：５．０〜４０．０ｍａｓｓ％、Ｓｉ：０．１〜３．０ｍａｓｓ％、Ｍｎ：０．１〜１．０ｍａｓｓ％、Ｃｕ：５．０〜２５．０ｍａｓｓ％、Ｗ：１．０〜２０．０ｍａｓｓ％、Ｓｂ：１．０〜２５．０ｍａｓｓ％、Ｎｉ：２０．０ｍａｓｓ％以下、Ｓｎ：２．０ｍａｓｓ％以下を含有する成分組成からなる非晶質酸化物層を有する耐酸腐食性に優れる鋼材。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性に優れ、かつ、体積抵抗率を容易に制御可能であり、半導体・液晶製造装置等、特に、静電チャック等のプラズマ処理装置用の部材として好適に使用することができる耐プラズマ性溶射部材を提供する。
【解決手段】金属または金属電極を備えたセラミックスからなる基材上の最表面に、イットリアに対して５重量％以上６０重量％未満のタングステンまたはモリブデンが分散し、気孔率が５％以下であるイットリア系プラズマ溶射膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性に優れており、半導体・液晶製造装置等、特に、プラズマ処理装置用の部材として好適に使用することができる耐プラズマ性溶射部材を提供する。
【解決手段】セラミックスまたは金属からなる基材表面に、イットリア系プラズマ溶射膜が形成された溶射部材において、前記溶射膜は、タングステンがイットリアに対して５重量％以上６０重量％未満分散し、気孔率が５％以下であり、該溶射部材の２０〜４００℃での表面抵抗率を１０⁶Ω・ｃｍ以上１０¹³Ω・ｃｍ未満とする。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエロージョン性に優れるプラズマ処理容器内用高純度溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】基材の表面に直接、または金属溶射皮膜からなるアンダーコートを介し、Ａｒガスの気圧が５０〜２００ｈＰａの減圧下での溶射によって、純度：９５ａｍｓｓ％以上のＹ_２Ｏ_３からなる減圧プラズマ溶射皮膜を被覆形成してなるプラズマ処理容器内用高純度溶射皮膜被覆部材と、この部材の製造方法。 （もっと読む）

電着法は、心材上でのイリジウム薄膜（２１２）の製造に用いられる。雰囲気制御プラズマ溶射法（ＣＡＰＳ）は、電着イリジウム層（２１２）上への、レニウム、レニウム含有合金、または耐火合金の層（２１０）の構築に用いられる。レニウム、レニウム含有合金、または耐火合金の析出後、この方法は第２のＣＡＰＳ法を用い、ニオブのような過渡耐火材料（２１４、２１６）をロケットエンジンチャンバーの両端へつける。電着イリジウム層（２１２）は高純度、高延性で、均質のイリジウム層（２１２）を与える。 （もっと読む）