【課題】工業炉における金属材料または金属ワークピースの熱処理に使用されるプロセスガスの調製方法であって、処理チャンバと調製チャンバ間に導かれたガスの分解反応が生じることなく、出力／入力モニターを介して、調製チャンバ内でこれらガスの最適調製を監視する方法および装置を提供する。
【解決手段】処理チャンバ１．１での熱処理後に、前記熱処理で消費された使用済みプロセスガスを調製チャンバ２．２へ供給するステップと、前記調製チャンバ2.2において、前記処理チャンバ１．１の温度とは独立した最大で約１２５０°Ｃまでの温度で、前記使用済みプロセスガスを再利用してプロセスガス３を調製するステップと、前記調製チャンバ２．２で調製された調製済みプロセスガスを、前記処理チャンバ１．１へ供給するステップと、前記処理チャンバ１．１で熱処理を行う前に、随意的に前記調製チャンバ２．２で反応ガスを生成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】金属溶湯中に含まれる水素または酸化物等の非金属介在物を効率的に除去できる金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去を提供する。
【解決手段】金属溶湯を収容する容体（１０）と、金属溶湯中に含まれる水素または非金属介在物を除去する作用ガスを金属溶湯中で噴出させる噴孔（４２）を有する導気管（４０）と、導気管に該作用ガスを供給するガス供給源と、導気管の噴孔から噴出した作用ガスを金属溶湯中で微細分散させる撹拌手段（５０）と、を備える金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去装置であって、金属溶湯の湯面上にできる湯上空間から容体外へ流出する出向気流を許容すると共に容体の外界にある外気が湯上空間へ流入する入向気流を規制する外気規制手段を有する。 （もっと読む）

【課題】高価な触媒を用いない簡便かつ安価な構成や方法によって、酸化性ガスをほとんど含まず還元性ガスを少量含んだ無酸化性、還元性の雰囲気ガスを作製し、熱処理炉に供給する熱処理雰囲気ガスの供給装置および供給方法を提供する。
【解決手段】窒素発生装置１と、窒素供給量制御手段と、炭化水素供給装置２と、第１炭化水素供給量制御手段と、低温反応槽３と、を備え、１次処理として、窒素の供給量，炭化水素ガスの供給量および低温反応槽における反応温度が制御されるとともに、第２炭化水素供給量制御手段を備え、２次処理として、炭化水素ガスの供給量が制御される。 （もっと読む）

【課題】一対の蓄熱式バーナにおける燃焼動作と蓄熱動作とを交互に切り替えるにあたり、各蓄熱式バーナにおける燃料ガス供給管や空気供給管から供給される燃料ガスや燃焼用空気の量を一定化させ、適切な燃焼が安定して行える蓄熱燃焼式熱処理炉の燃焼制御方法を提供する。
【解決手段】一対の蓄熱式バーナにおける燃焼動作と蓄熱動作とを切り替えるにあたり、燃焼動作中の蓄熱式バーナ２０ａにおいて、燃料ガス供給管及び空気供給管を通して供給する燃料ガス及び燃焼用空気の供給量を定常燃焼状態から減少させる一方、蓄熱動作中の蓄熱式バーナ２０ｂにおいて、燃料ガス供給管及び空気供給管を通して供給する燃料ガス及び燃焼用空気の供給量を停止状態から増加させ、前記一対の蓄熱式バーナにおいて、燃料ガス供給管及び空気供給管を通して供給される燃料ガス及び燃焼用空気の供給量を一定化させる。 （もっと読む）

【課題】真空浸炭炉内に供給される浸炭ガスの量の変動を抑制し、ワークにおける浸炭むらや、スーティングの発生を抑制する真空浸炭装置を提供する。
【解決手段】真空浸炭装置１は、液体炭化水素を計量搬送する液体炭化水素流路部１０と、所定量の液体炭化水素を気化して浸炭ガスを生成するとともに、生成した浸炭ガスを搬送する浸炭ガス流路部２０と、浸炭ガスを含む浸炭ガス雰囲気中でワークに浸炭処理を施す真空浸炭炉３０とを備えており、浸炭ガス流路部２０が、液体炭化水素を気化する気化室２１と、気化室２１内の圧力および温度の少なくとも一方をモニタリングすることにより浸炭ガスの生成を検知して浸炭ガスの搬送を制御するセンサ部２２とを有している。 （もっと読む）

【課題】ガラスハーメチックを行うハーメチックシール用連続式熱処理炉のマッフル内に水分が侵入することを阻止するようにしたハーメチックシール用連続式熱処理炉を提供する。
【解決手段】一体形状のマッフル２を外部から加熱する加熱部３と冷却する冷却部４及びマッフル２内を通って加熱部３から冷却部４へと所定速度で移動して被焼成体１０を搬送する搬送手段５を有し、被焼成体１０のガラスハーメチックシールを行うハーメチックシール用連続式熱処理炉１において、マッフル２の少なくとも入口側２ａにマッフル２内への水分の侵入を阻止する手段７を設けた。 （もっと読む）

【課題】
ファンによらない廃過熱蒸気の循環方法で、連続処理庫内の温度コントロールが容易で、庫内に溜まる凝縮ドレンの蒸発線熱および排気に伴う熱損失がなく、ワークへの伝熱が効果的な、廃過熱蒸気の回収および再生利用方法とその装置を提供する。
【解決手段】
連続処理庫内の吸込ヘッダに吸引用配管を接続する。吸引用配管をデフューザの低圧部に接続し、デフューザの上流側の過熱蒸気発生器を接続し、過熱蒸気発生器の上流側の過熱蒸気ヘッダに接続する。過熱蒸気ヘッダのノズルから放出された過熱蒸気はコンベア上のワークを処理し廃過熱蒸気として吸込ヘッダに回収される。処理庫内の廃過熱蒸気は吸込ヘッダにより効果的に回収されデフューザに吸引され飽和蒸気供給管から飽和蒸気と混合され過熱蒸気発生器で過熱蒸気として再生利用される。 （もっと読む）

【課題】被加工体の脱炭量を軽減することができる加熱炉及びその制御方法を提供する。
【解決手段】炉床３と、炉床３によって塞がれる開口部２ｂが下方に形成され、該開口部２ｂに連通する中空部２ａが形成された炉体２と前記炉床を昇降させる昇降手段を有する加熱炉において、前記中空部２ａを９００℃以上に加熱し、前記中空部２ａの縦横比ｘが、０．５≦ｘ≦３．０を満たし、前記炉床３による前記開口部２ｂの開閉速度ｖ（ｍｍ／ｓ）が、５≦ｖ≦５０を満たすように昇降手段を制御する制御手段を有する。 （もっと読む）

【課題】短時間で効果的に結露を防止し、作業効率を向上させて良好な被処理品を得ることができる単室型真空熱処理炉及び単室型真空熱処理炉における被処理品の酸化防止方法を提供する。
【解決手段】炉壁１１に水冷ジャケット１５が設けられ、該炉壁１１により内部に被処理品Ｗの処理空間Ｓが形成された炉本体１と、炉本体１内に設置された被処理品Ｗを加熱する加熱装置２と、処理空間Ｓ内に冷却ガスを供給する冷却ガス供給装置３と、処理空間Ｓ内に設置された熱交換器５２により前記冷却ガスを介して被処理品Ｗを冷却する第一の冷媒循環系と、前記処理空間内を減圧する減圧装置４と、冷却ジャケット１５に冷媒Ｃを供給する第二の冷媒循環系とを備えた単室型真空熱処理炉Ａにおいて、前記第二の冷媒循環系は、冷媒Ｃを加熱する冷媒加熱部６５を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エネルギー効率が高い基板焼成炉の給排気システムを提供する。
【解決手段】炉体１０にて加熱されるガラス基板Ｗからは多量の有機物が発生する。炉体１０の排気口１４からは有機物を含む熱排気が排出され、ファン２１によって循環経路２０に熱風の気流として送り出され、その気流がヒータ２２によって加熱された後に耐熱ＨＥＰＡフィルタ１３によって浄化されて吹き出し口１２から炉体１０の内部空間に再供給される。熱排気の一部は排気管３０に流れ込んで触媒ユニット３１を通過する。触媒ユニット３１では有機物の熱分解と酸化分解とが同時に生じ、排気気体中に含まれる有機物のほとんどが分解され、触媒ユニット３１の入口側温度よりも出口側温度が約２００℃上昇する。高温の排気気体が熱交換器５０に流入して給気気体との熱交換が行われることとなり、エネルギー効率を良好なものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】被処理物が昇温する際の、被処理物の表面温度のばらつきを、ある一定の温度差に納めることができ、一定時間内に大量に加熱することができる、加熱方法及び間欠送り式トンネル炉、バッチ炉を提供する。
【解決手段】進行方向に対して複数に区画された炉室１ｊと、被処理物２０を炉室１ｊ間で間欠的に搬送する搬送手段と、この炉室１ｊ内の炉内ガスを循環させて、この炉内ガスを炉室１ｊの両側方から炉室１ｊ内に送風する送風手段４と、前記炉内ガスを加熱して熱風を生成する加熱手段７と、炉室１ｊの両側方から送風される熱風の送風量を制御する送風量制御手段６を有し、隣接する炉室１ｊの両側方から送風される熱風の送風量の比率を交互に変えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】廃棄物の焼却炉やガス化炉の本体や付属機器に設けられた軸シール部からの炉内ガスの漏洩を防止する。
【解決手段】軸シール機構を、グランドボックス１４内に配置されたグランドパッキンと、このグランドパッキン軸方向中間部で軸に嵌めこまれたシール材リング２０を含んで構成し、軸シール機構周辺の気体を導管１７ｂにより引き込み前記気体中に含まれる炉内ガス成分を検知し、炉内ガス成分が検知されたとき漏洩した軸シール機構を特定して警報を発信する漏洩ガス検知手段１７ｃと、前記グランドボックス１４に設けられたシール材供給口２５から前記シール材リング２０にシール材を供給するシール材供給手段を備え、シール材供給手段を前記漏洩ガス検知手段１７ｃの出力信号を入力として該当する軸シール機構にシール材を供給するように構成する。 （もっと読む）

【課題】熱処理装置全体の消費電力を低減させることができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理部２１内の空気を循環させながら加熱することにより熱処理部２１に収容された被処理物Ｗを熱処理する熱処理手段３と、外気を加熱して熱処理部２１内に送り込むとともに熱処理部２１内の空気を排気することにより熱処理部２１内を換気する換気手段４とを備えた熱処理装置１Ａに対し、熱処理手段３が被処理物Ｗを熱処理しないときには、熱処理手段３が被処理物Ｗを熱処理するときよりも換気手段４が換気する換気量を低減させる換気量調整手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】高温に加熱されたワークを油冷によって危険領域を脱出させ、その後ホットガス装置によって完全等温保持し、その後最終焼入れを行って塩浴を用いない等温保持による低歪焼入れを行う。
【解決手段】加熱炉又は及び浸炭炉と、油槽と、オイルスプレー装置と、前記油槽上部に配置されたホットガス装置とを有して成り、高温に加熱された浸炭又は非浸炭のワークを油冷によって危険領域を脱出させ、その後マルテンサイト変態点温度直上の目標温度に調節されたホットガスと呼ばれるガスで等温保持し、その後常温以下の温度へ焼入れ処理できる複合マルクエンチ装置及びその制御方法。 （もっと読む）

本発明は、冶金炉内で、酸素を含む加圧ガスまたは固体材料の吹き込みノズル（９）のダイナミック制御装置である。前記装置は、ノズル（９）の一端部（８’）と前記端部（８’）の正面に配置された固体金属スクラップ（５）から構成されたターゲットとの間の距離（Ｄ）を推定するために、炉の外部に配置された無接点測定手段を含んでおり、前記手段が、前記ターゲット（５）に向かって入射ビーム（１６）を発する光源（１４）と、ターゲット（５）により反射されるビーム（１７）をキャッチする検知器（１５）とを含んでおり、入射ビーム（１６）および反射ビーム（１７）が双方とも、前記ノズル（９）の軸線上に配置された羽口の内部断面を通るようにされている。 （もっと読む）

【課題】 昇温時間差を最短とした被処理材の加熱方法を提供する。
【解決手段】 被処理材２を収納する炉室１と、該炉室１内の雰囲気ガスを加熱する加熱手段３と、加熱手段３により加熱された雰囲気ガスを炉室１内で循環させる正逆運転可能な循環手段４とを有した熱処理炉を用い、循環手段４の正逆運転により被処理材２の両側から交互に熱風を供給して、被処理材２を目標温度まで加熱する方法において、前記熱風の流れに沿った方向での被処理材２の各部の温度が目標温度に到達する時間差を最短とするように循環手段４の正逆運転を制御する。 （もっと読む）

【課題】
連続式加熱雰囲気炉の利点を生かしつつ、加熱雰囲気ガスの使用量を低減することができる連続式加熱雰囲気炉内のガスコントロール方法を提供する。
【解決手段】
上記課題を解決するための連続式加熱雰囲気炉内のガスコントロール方法は、炉内への被加熱物の投入の有無を判定し、炉内に被加熱物の投入が無い場合、排気される炉内のガスの割合を、炉内に被加熱物が投入されている場合に比べて低下させ、炉内の加熱雰囲気ガス濃度が予め定められた値以上に維持される範囲で、炉内に供給する加熱雰囲気ガスの割合を、炉内に被加熱物が投入されている場合に比べて低下させた状態で運転することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】アーク長やスラグ温度の計測が困難な場合でも、電気式灰溶融炉の安定した連続運転が可能となる電気式灰溶融炉の運転方法及び電気式灰溶融炉を提供する。
【解決手段】焼却灰３１の投入量を計測する灰投入量積算器１０１と、主電極４と炉底電極７との電極間における全抵抗値を求める電極間全抵抗演算器１０２と、灰溶融炉１に応じた時間当りの灰投入量における電力設定値及び前記全抵抗値から電圧設定値を求める電圧設定値演算器１０３と、焼却灰３１の投入量の増加に応じて電圧を計測する電圧計測器１０４と、焼却灰３１の投入により変動した電圧から主電極４の電極位置を調整する電極位置制御装置１０５とを具備し、主電極の電極位置を制御することができ、プラズマアーク長を略一定の間隔で常に維持することができる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一つの導波管（5）を通して流動層炉（1、1a）にマイクロ波を放射する、流動層炉（1、1a）に位置した流動層（3、3a）における粒状固体の熱処理方法および対応するプラントに関する。マイクロ波の放射効率を向上させるために、マイクロ波の放射角を流動層炉（1、1a）の主軸（11）に対して10度から50度、とくに10度から20度の角度に傾ける。
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本発明は、流動層反応炉内の微粒固体の運搬方法と、これに相当する設備とに関するものである。第１のガスまたは混合ガスは、中央管（３）を通して下方から反応炉（１）の混合チャンバ（７）に注入され、この中央管（３）は、流動化用ガスが供給されることで流動化する固定環状流動層（10）によって、少なくとも部分的に包囲されている。第１のガスまたは混合ガスのガス速度と、環状流動層（10）の流動化用ガス速度とが調整されることによって、粒子フルード数は中央管（３）では１〜100になり、環状流動層（10）では0.02〜２になり、混合チャンバ（７）では0.3〜30になる。
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