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Fターム[4M106DB13]の内容

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Fターム[4M106DB13]に分類される特許

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【課題】基板上のパターンに損傷を与えることなく欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の欠陥検査装置は、半導体基板を測定光学系によって表面観察し、観察結果に基づいて前記半導体基板の欠陥検査を行う基板検査部を備えている。また、前記欠陥検査装置は、前記測定光学系のうち前記表面観察を行う際に前記半導体基板の表面に近接する底部近傍を撮像し、撮像した画像である第1の撮像画像を用いて前記底部近傍の状態検査を行う測定光学系検査部を備えている。前記測定光学系検査部は、前記基板検査部が前記半導体基板の欠陥検査を行っていない間に、前記底部近傍の状態検査を行う。また、前記測定光学系検査部は、前記状態検査の基準となる基準画像と、前記第1の撮像画像と、を比較し、比較結果に基づいて、前記底部近傍の状態検査を行う。 (もっと読む)


【課題】欠陥の種類、材料、形状によらずコントラストを高くする。
【解決手段】実施の形態のパターン検査装置は、光源と、光透過率を変更可能な透過率制御素子と、ビームスプリッタと、偏光制御部と、位相制御部と、波面分布制御部と、検出部とを含む。前記ビームスプリッタは、前記光源から出射された光を分割し、検査対象のパターンが形成された基体と前記透過率制御素子とに照射し、前記基体からの反射光である信号光と、前記透過率制御素子からの反射光である参照光と、を重ね合わせて干渉光を生成する。前記偏光制御部は、前記参照光の偏光角および偏光位相を制御する。前記位相制御部は、前記参照光の位相を制御する。前記波面分布制御部は、前記透過率制御素子における前記参照光の波面分布を制御する。さらに、前記検出部は、前記干渉光を検出する。 (もっと読む)


【課題】ウエーハ等の表面欠陥検査装置において、前方散乱光を高感度で検出し、正反射光をも同時に高感度検出可能とすることで、欠陥捕捉率の高い高効率の欠陥検査を実現。
【解決手段】前方散乱光検出手段20は、ベアウエーハ1の前方散乱光を受光する光学系であり、照明手段10よりベアウエーハ1に照射された検査光3による欠陥2からの散乱光を受光する検出レンズ21と全反射ミラー22とで構成され、その中央部(検査光入射平面と直行した方向)で分割した特徴を持つ。この全反射ミラー22で側方に分離された前方散乱光は光電変換素子23で検出され、中央の分割領域を直通する正反射光7は正反射光検出手段30で検出されるので、前方散乱光と正反射光とで互の影響を抑制しつつ同時に検出することできる。 (もっと読む)


【課題】表面検査ツールおよび方法を提供する。
【解決手段】検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。この実施形態は、前記ワークピースから散乱された光を受け取り、前記ワークピースの欠陥から散乱された前記光を、この光を電気信号に変換する前記フォトセンサに選択的に導くプログラム可能な光選択アレイを含む。処理回路は、前記光検出要素からの電気信号を受け取り、ワークピースの欠陥の特徴付けを含みえる前記ワークピースの表面分析を行う。プログラム可能な光選択アレイは、以下に限定されないが、反射器アレイおよびフィルタアレイを含みえる。本発明はまた関連付けられた表面検査方法も含む。 (もっと読む)


【課題】検査対象物の外形の検出精度を悪化させることなく、載置台から検査対象物にかかる応力を軽減できる外形検出装置および外形検出方法を提供する。
【解決手段】太陽電池セル7を載置面3aの外周17よりも内側に載置するステージ2aと、載置面3a上に設置された金属箔テープ6と、太陽電池セル7および金属箔テープ6に照明光8を照射する同軸落射照明装置11と、照明光8の反射光9を受光するCCDカメラ12と、CCDカメラ12の出力信号から、太陽電池セルの外形を検出する画像処理装置13と、を備え、載置面3a上に設置された金属箔テープ6が、太陽電池セル7の照明光8が照射される面23と金属箔テープ6の照明光8が照射される面26とが、照明光8が出射する側から見て光学的に連続するように設置する。 (もっと読む)


【課題】表面に透明薄膜が形成された基板等の試料において、透明薄膜の上面の微小な異物、キズ等の欠陥を高感度且つ高速に検査することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の欠陥検査装置によると、照明光学系は、試料の表面の法線に対して所定の入射角を有する検査用照明光を試料表面に照射し、試料表面にスリット状のビームスポットを生成する。試料の表面に対して所定の傾斜角にて傾斜した光軸を有する斜方検出系と試料の表面の法線に沿った光軸を有する上方検出系によって、ビームスポットからの光を検出する。斜方検出系と上方検出系の出力によって、試料の表面の透明薄膜上の欠陥を検出する。検査用照明光の入射角は、試料の表面の透明薄膜下面にて反射した反射光が透明薄膜上面にて全反射するときの入射角より僅かに小さい角度である。 (もっと読む)


【課題】
単一の統合条件においては複数の欠陥種を同時に検出することは困難であり、また、多次元の特徴量として扱って複数の欠陥を検出すると、信号処理にかかる計算コストが検出器の増加とともに増大するという問題が発生する。
【解決手段】
被検査対象物に照明光を照射する照明光学部と、前記照明光学部により照射され該被検査対象物から該被検査対象物の表面に対してそれぞれ異なる方位角方向および仰角方向に散乱する散乱光をそれぞれ検出する複数の検出器を備えた検出光学部と、前記複数の検出器により検出した該被検査対象物からの散乱光に基づく複数の信号のそれぞれについて、ゲイン調整および閾値判別に基づく欠陥判別を並列に行い、前記ゲイン調整および欠陥判別された結果に基づき欠陥を抽出する信号処理部と、を有する欠陥検査装置である。 (もっと読む)


【課題】薄膜の端部を精度よく検出することが可能な基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置1は、表面に薄膜が設けられたウェハ10を支持するウェハ支持部20と、ウェハ支持部20に支持されたウェハ10の端部または端部近傍に対して微分干渉観察を行うための観察ユニット30と、観察ユニット30で得られたウェハ10の微分干渉像を撮像する撮像素子50と、撮像素子50に撮像された微分干渉像の画像から薄膜の端部を検出する画像処理部51とを備え、微分干渉観察におけるシアー方向がウェハ10の半径方向に設定される。 (もっと読む)


【課題】従来技術では、偏光状態の違いにより正しく欠陥と、異物との弁別を行うことができない場合も考えられる。
【解決手段】上記課題を達成するために、本発明の第1の特徴は、試料を載置する搬送系と、前記試料の第1の領域に第1の光を照射し、前記試料の第2の領域に第2の光を照射する照射光学系と、前記試料からの光を受光する受光系と、前記照射光学系での時間遅れを記憶する記憶部と、前記受光結果と、前記時間遅れとを用いて、試料に由来する欠陥と異物とを弁別する処理部とを有することにある。本発明の第2の特徴は、前記第1の光の状態と、前記第2の光の状態とを観察する光学条件観察部と、前記光学条件観察部での観察結果をフィードバックする観察結果フィードバック部と、前記フィードバックを用いて前記第1の光と、前記第2の光との光学条件を同じにする光学条件制御部とを有することにある。 (もっと読む)


【課題】不感領域の影響を小さくして検査精度を向上させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】被検物を支持するステージ10と、ステージ10に支持されたウェハWの表面に照明光を照射する照明部20と、照明光が照射されて被検物の表面から反射されて出射される光を所定の撮像面上に結像させるとともに光軸をずらす撮像光学系30と、撮像光学系30により撮像面上に結像された像を受光する画素及び画素の周囲に設けられて像を受光しない不感部を備え像を撮像する撮像部材と、撮像部材により撮像された像に基づいて被検物の表面の画像を生成する画像処理部45とを備え、撮像光学系30が撮像部材60の撮像面上に結像される像の位置が所定長さだけずれるようにウェハWの表面からの光軸をずらしながら撮像部材60が複数回撮像し、画像処理部45が撮像された複数の像における各画素を合成して合成画像を生成する。 (もっと読む)


【課題】感度の高い表面検査が可能な表面検査装置及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたウェハ20の表面に直線偏光L1を照射する照明部10と、ウェハ20から出射される楕円偏光を受光し、直線偏光L1と振動方向が異なる第2の直線偏光成分のみを通過させる検光子3と、ウェハ20の像の信号強度を検出し、信号強度に基づいて被検基板の表面におけるパターンが形成されている位置を検出する位置検出部8bと、パターンが形成されている位置の信号強度が最小となるように、楕円偏光及び検光子3のいずれか一方を他方に対して相対回転させ、上記位置の信号強度が最小となる楕円偏光に対する検光子3の相対位置を決定し、上記相対位置に相対回転させる回転駆動装置30と、検光子3を通過した第2の直線偏光成分を検出し、パターンを検査する表面検査部とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】紫外光を含む波長域において高解像な画像を取得可能な表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置の撮像部35が、ステージに支持されたウェハを撮像するための可視光用撮像素子38と、ステージに支持されたウェハの表面からの紫外光を受光し、紫外光によるウェハの像を中間像として結像させる対物レンズ36と、対物レンズ36により結像した中間像を可視光による中間像に変換する蛍光板43と、可視光による中間像を可視光用撮像素子38の撮像面上に結像させる結像レンズ44とを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】
パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパター
ンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な
欠陥を顕在化でき,広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する
【解決手段】
同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の
不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、切替え可能な複数の異なる検出系と異な
る検出系の像を同時に取得可能な複数台のセンサとそれに応じた画像比較部とを備えて構
成した。
また,画像の特徴量から統計的なはずれ値を欠陥候補として検出する手段を備えて構成
し,ウェハ内の膜厚の違いに起因して画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている
場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 (もっと読む)


【課題】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。
【解決手段】光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 (もっと読む)


【課題】大量のスループットを可能にする高速プロセスを有する光学検査システムを提供する。
【解決手段】レーザ光源101からの光ビーム151は、活性領域を有し、複数の移動レンズを活性領域に選択的に生成するようにRF入力信号に対して応答する移動レンズ音響光学デバイス104に適用される。該音響光学デバイスは、生成された移動レンズの各々の焦点のそれぞれで、光ビームを受け、複数のフライングスポットビームを生成するように動作する。該ポットビームは半導体ウェハ108を走査する。使用可能な走査データを生成するために、複数の検出器セクションを有する光検出器ユニット110が使用され、各検出器セクションは、複数の光検出器と、複数の光検出器からの入力を並列に受けるように動作する少なくとも1つのマルチステージ格納デバイスとを有する。格納デバイスの各々に格納された情報は、複数のステージから同時に連続して読み出される。 (もっと読む)


【課題】
微細な欠陥から散乱した光の取込範囲を拡大し信号強度を高める欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】
被検査基板1を搭載して光学系に対し相対移動可能なステージ部300と、被検査基板1上の検査領域4を照明する照明光学系100と、被検査基板1の検査領域4からの光を検出する検出光学系200と、検出光学系200によって結像された像を信号に変換するイメージセンサ205と、イメージセンサ205の信号を処理し欠陥を検出する信号処理部402と、検出光学系200と被検査基板1の間に配置され、被検査基板1上からの光を検出光学系200に伝達する平面反射鏡501とを備える。 (もっと読む)


【課題】スループットが著しく高められる半導体ウェハ欠陥検出システム。
【解決手段】UVレーザ光源101からの光ビーム151は、複数の移動レンズを活性領域に選択的に生成するようにRF入力信号に対して応答する移動レンズ音響光学デバイス104に適用される。前記移動レンズ音響光学デバイスは、生成された移動レンズの各々の焦点のそれぞれで、前記光ビームを受け、複数のフライングスポットビーム156をウェハ108へ向かい、反射ビーム157を生成するように動作する。使用可能な走査データを生成するために、複数の検出器セクションを有する光検出器ユニット110が使用され、各検出器セクションは、複数の光検出器と、複数の光検出器からの入力を並列に受けるように動作する少なくとも1つのマルチステージ格納デバイスとを有する。格納デバイスの各々に格納された情報は、複数のステージから同時に連続して読み出される。 (もっと読む)


【課題】複数のカラー光源を利用して、鏡面状の検査面を有する検査対象物の欠陥を確実に検出できるようにする。
【解決手段】 検査面2の法線方向に光軸を一致させてカラーラインTVカメラ3を配置し、検査面2を横切るカラーラインTVカメラ3のライン状視野に対して平行でかつカラーラインTVカメラ3の光軸から離れた位置に赤緑青3色の棒状のライン光源4,5,6を配置し、検査面2とカラーラインTVカメラ3との間にハーフミラー7を配置し、緑色ライン光源5をその光がハーフミラー7を介してカラーラインTVカメラ3の光軸と同軸に検査面2に照射されるように配置し、緑色ライン光源5を挟んで赤色ライン光源4および青色ライン光源6を平行に並べて配置し、ハーフミラー7を介して赤色ライン光源4および青色ライン光源6の光が緑色ライン光源5の光路を挟んで検査面2に対し斜め方向から照射されるようにした。 (もっと読む)


【課題】、基板を照射する照明光の光量を高い精度で検出して、基板表面の検査精度を向上させることができる、表面検査装置および照明光の光量制御方法を提供する。
【解決手段】 ウェハ10を載置保持するホルダ20と、ホルダ20により載置保持されたウェハ10の表面に照明光を照射する照明光学系30と、照明光が照射されたウェハ10の表面からの光を検出する撮像光学系40と、撮像光学系40で検出された光に基づいて、ウェハ10の表面における欠陥の有無を検査する画像処理装置50とを有する表面検査装置1において、ホルダ20の照明光を受ける位置に設けられた反射部61と、照明光が照射された反射部61からの正反射光の光量を検出する光量検出部62と、光量検出部62により検出された光量に基づいて照明光の光量制御を行う制御装置55とを有する。 (もっと読む)


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