【課題】本発明は低加速電圧領域で空間分解能の高い走査像を得ることの出来る走査形電子顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】対物レンズ８の電子ビーム通路に加速円筒９を配置し、一次電子ビームの後段加速電圧１０を印加する。また、試料１２に重畳電圧１３を印加して加速円筒９と試料１２の間に一次電子ビームに対する減速電界を形成する。試料１２から発生された二次電子や反射電子等の二次信号２３は、試料直前の電界（減速電界）で加速円筒９内に吸引され、加速円筒９より上方に配置された二次電子検出器により検出される。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭの対物レンズ下で、半導体素子の微小領域に対してもＥＢＩＣ法による測定およびＳＥＭ観察を確実にできる半導体素子の微小領域の電気物性測定方法の提供。
【解決手段】半導体素子のｐｎ接合近傍表面に測定用微小金属電極膜を形成し、該電極膜にリード線を接続させ、顕微鏡下で前記半導体素子の前記電極膜とリード線を含む微小領域に光照射してキャリアを発生させ、該発生キャリアにより生じる電気信号を前記リード線により出力し、画像に変換して微小領域の電気物性を測定する半導体素子の微小領域の電気物性測定方法とする。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの裏面におけるマクロ検査結果の正常あるいは異常判定は異物数を閾値としていたために、異物やチッピングそしてチャック痕を識別することが困難であった。
【解決手段】ウェーハ裏面を任意のエリアに分割して、チャック痕の対象となるエリア数Ｓ１の設定、Ｓ１における単位面積あたりの異物数ＰＳ１の規格値を設定することにより、ウェーハ裏面の異物とチャック痕の識別を迅速に行うことが可能である。
また、チッピング判定エリアおよびチッピング判定エリア内における単位面積あたりの欠陥数の閾値を設定することで、迅速に異物とチッピングを識別することが可能でるため、半導体装置の製造ロスを未然に防ぐことが可能である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は観察対象である試料を照明する照明手段と、この試料上のパターンの特定の空間周波数成分を除去する空間フィルタとを簡単な構成で実現する顕微鏡装置及びその照明方法を提供する。
【解決手段】 顕微鏡装置の光源４０を、対物レンズ３の瞳面８又はこの瞳面と共役な平面２３上に設け、これらの面上にこの光源４０を支持するための支持手段４０を空間フィルタとして使用する。 （もっと読む）

【課題】この発明の目的は、容易且つ迅速にウエハの検査を行う事ができるウエハ検査装置を提供することである。
【解決手段】複数のウエハを載置し、ウエハ出し入れ用の開口を一方に有するウエハ保持体１１と、ウエハ保持体１１から所望のウエハを取り出し、所望の検査終了後にウエハを所望の位置に返却するウエハ取り出し／返却腕３４と、取り出されたウエハのマクロ検査をするためにウエハを載置するマクロテーブル３６と、ウエハの裏面をマクロ検査するためのウエハ裏返し手段とを備えており、上記ウエハ保持体１１のウエハ取り出し方向とウエハ取り出し／返却腕３４とを長手方向に配置したものである。 （もっと読む）

【課題】 液浸系の対物レンズを用いた場合に、供給された液体を効率よく回収できる顕微鏡観察装置を提供する。
【解決手段】 液浸系の対物レンズ４０と、液体３０が基板４０Ａの観察点に供給された状態で、その観察点を対物レンズの焦点面１０ｃのうち対物レンズの光軸１０ａ付近に位置決めする位置決め手段と、位置決め手段により位置決めされた状態(ａ)から、基板を対物レンズに近づけて（状態(ｂ)）、観察点から液体を回収する回収手段３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】 液体による装置のトラブルを回避して液浸法による基板の観察を効率よく行える顕微鏡観察装置を提供する。
【解決手段】 観察対象の基板１０Ａを固定的に支持する試料台１１と、液浸系の対物レンズ１４と、対物レンズの先端と基板との間に液体２０を供給する供給手段１６,１７と、供給手段により供給された液体のうち基板から落下する液体２１を受ける液体受け手段２２〜２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】
デバイスの歩留まり向上に寄与することができる半導体ウェーハ、特にシリコンウェーハの良否を判別する半導体ウェーハの検査方法、及びその検査工程を有する半導体ウェーハの製造方法、並びに欠陥、特に凹状のピットが点線状になった欠陥がないウェーハを選別する半導体ウェーハの管理方法を提供する。
【解決手段】
検査対象である半導体ウェーハの表面をコンフォーカル光学系によるレーザー顕微鏡で観察し、該観察によって該ウェーハ表面上に検出される凹状のピットが点線状になった欠陥の有無を判別するようにした。 （もっと読む）

【課題】 照明用電子のエネルギーを切り換えた場合でも、光軸がずれたり照明条件が変わったりすることのない荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 偏向器１６を作動させることにより、照明ビームの光束中心の位置を４に示す位置から１８に示す位置に変更することができる。補助レンズ１７は、その中心軸が照明ビーム１８の光束中心と一致するように配置されており、照明用荷電粒子線のエネルギーが変更された場合に、電磁プリズム３への入射位置を補正するために用いられる。電磁プリズム３に入射する照射ビームは、そのエネルギーの違いに応じて、２つの位置から入射するが、その位置は、何れの場合にも、電磁プリズム３を出るときの照明ビームの光束中心が光軸１９に一致するような位置に選ばれている。よって、照明ビームのエネルギーを変えた場合でも、試料６を軸ずれの影響が少ない条件で照明することが可能となる。 （もっと読む）

固浸レンズ３を支持する固浸レンズホルダ５が連結された第一腕部材７１と、この第一腕部材７１を、観察対象物に対して略平行を成すＸ−Ｙ平面内で回動させる第一腕部材回動源７２と、この第一腕部材回動源７２を保持する第二腕部材７３と、第一腕部材回動源７２の回動軸と非同軸の位置を回動軸として、第二腕部材７３をＸ−Ｙ平面内で回動させる第二腕部材回動源７４と、を具備する構成とする。そして、二個の腕部材７１，７３を回動することで、固浸レンズ３をＸ−Ｙ平面内の所望の位置に移動可能とし、直交するＸ方向、Ｙ方向に構成部品を長尺とする必要を無くし、占有領域を小とすると共に簡易な構成とする。これにより、低コスト化を図りつつ、装置の小型化を図ることが可能な固浸レンズ移動装置、及びこれを備えた顕微鏡が実現される。 （もっと読む）

検査対象の試料となる半導体デバイス上に両親媒性分子を含有する光学密着液を滴下し（Ｓ１０４）、その上に固浸レンズを設置する（Ｓ１０５）。続いて、固浸レンズの挿入位置を調整し（Ｓ１０６）、それから、光学密着液を乾燥させて（Ｓ１０８）、固浸レンズと半導体デバイスとを光学的に密着させる。これにより、試料の所望の位置への位置合わせが容易であり、試料に固浸レンズを光学的に確実に密着させることができる試料観察方法及び顕微鏡等が実現される。 （もっと読む）

固浸レンズ３の底面を開口９ｂを通して下方に突出させた状態で当該固浸レンズ３を自重方向に支えるホルダ９を具備する構成とする。これにより、固浸レンズ３が観察対象物に載置されると、当該観察対象物により固浸レンズ３は持ち上げられた状態とされ、ホルダ９に対して自由な状態とされる。また、このとき、観察対象物に過度の圧力が加わることが無くされ、且つ、固浸レンズ３が観察対象物に馴染み密着すると共に、ホルダ９側又は観察対象物側の温度ドリフトが相手側に対して遮断され温度ドリフトによる影響が無くされる。これにより、観察対象物に損傷を与えることを無くすと共に高精度の観察を可能とする固浸レンズホルダが得られる。 （もっと読む）

異なるパラメータを使用して試験片の検査を行うための方法とシステムを提供する。コンピュータによって実施される方法は、選択された欠陥に基づいて検査のための最適パラメータを決定することを含む。またこの方法は、検査に先行して、検査システムのパラメータを最適パラメータに設定することを含む。試験片を検査するための別の方法は、約３５０ｎｍより下の波長を有する光と、約３５０ｎｍより上の波長を有する光を用いて試験片を照明することを含む。またこの方法は、試験片から収集された光を表す信号を処理し、試験片上の欠陥または工程の変動を検出ことも含む。試験片を検査するように構成された１つのシステムは、広帯域光源に結合された第１の光学サブシステムと、レーザに結合された第２の光学サブシステムを含む。またこのシステムは第１と第２の光学サブシステムから、光を試験片上に集束させる対物鏡に光を結合するように構成された第３の光学サブシステムも含む。 （もっと読む）

半導体ウェハ上に形成された構造を、測定装置を用いて測定された第１の回折信号を取得することにより検査する。第２の回折信号は、機械学習システムを用いて生成される。機械学習システムは、第２の回折信号を生成するために、構造のプロファイルを特徴付ける１以上のパラメータを入力として受け取る。第１の回折信号と第２の回折信号は比較される。第１の回折信号と第２の回折信号が一致基準の範囲内で一致する場合、構造の形状は、第２の回折信号を生成するために機械学習システムで使用されたプロファイル又は１以上のパラメータに基づいて求められる。
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