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Fターム[4M118CA05]の内容

固体撮像素子 (108,909) | 受光部構造 (13,175) | 素子形態 (8,858) | ダイオード (7,206) | pin接合 (524)

Fターム[4M118CA05]に分類される特許

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【課題】、放射線画像の品質を維持したまま放射線の照射に関する検出を行うこができる、放射線検出器、放射線画像撮影装置、及び放射線画像撮影システムを提供する。
【解決手段】照射された放射線が変換された光に応じて電荷を発生するセンサ部103、センサ部103から読み出した電荷を信号配線3に出力するTFTスイッチ4、及び信号配線3と非接続の放射線検知用TFTスイッチ34を備えた画素20Aと、センサ部103、TFTスイッチ4、及び信号配線3と接続され、センサ部103から読み出した電荷を信号配線3に出力する放射線検知用TFTスイッチ34を備えた放射線検知用画素20Bと、を備える。放射線検知用TFTスイッチ34の制御端子は、放射線検知用走査配線109に接続されており、放射線検知用制御回路108から出力されたスキャン信号により、オン、オフが制御される。 (もっと読む)


【課題】センサ部での光の利用効率の低下を防止することができる電磁波検出素子を提供する。
【解決手段】互いに交差して配設された複数の走査配線及び複数の信号配線の各交差部と、2次元状に配列された複数のセンサ部であって、各々が、検出対象とする画像を示す電磁波が照射されることにより電荷が発生する半導体層、半導体層の電磁波が照射される照射面側に電磁波に対して透過性を有する導電性部材により形成され、半導体層に対してバイアス電圧を印加する第1電極、及び半導体層の電磁波に対する非照射面側に形成され、半導体層に発生した電荷を収集する第2電極を備えた複数のセンサ部と、センサ部よりも電磁波の下流側に形成され、各々コンタクトホールを介して第1電極に接続されてバイアス電圧を供給する共通電極配線と、走査配線と、信号配線及び共通電極配線との間に形成されている第1の絶縁膜と、を備え、信号配線及び共通電極配線は同層に形成。 (もっと読む)


【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを歩留まりよく提供する。該トランジスタを含む半導体装置においても、高性能化、高信頼性化、及び高生産化を達成する。
【解決手段】酸化物半導体膜、ゲート絶縁膜、及び側面に側壁絶縁層が設けられたゲート電極層が順に積層されたトランジスタを有する半導体装置において、ソース電極層及びドレイン電極層は、酸化物半導体膜及び側壁絶縁層に接して設けられる。該半導体装置の作製工程において、酸化物半導体膜、側壁絶縁層、及びゲート電極層上を覆うように導電膜及び層間絶縁膜を積層し、化学的機械研磨法によりゲート電極層上の層間絶縁膜及び導電膜を除去してソース電極層及びドレイン電極層を形成する。 (もっと読む)


【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを歩留まりよく提供する。該トランジスタを含む半導体装置においても、高性能化、高信頼性化、及び高生産化を達成する。
【解決手段】酸化物半導体層と電気的に接続するソース電極層及びドレイン電極層を、酸化物半導体層上のゲート絶縁層及び絶縁層の開口を埋め込むように設ける。ソース電極層を設けるための開口とドレイン電極層を設けるための開口は、それぞれ別のマスクを用いた別のエッチング処理によって形成される。これにより、ソース電極層(またはドレイン電極層)と酸化物半導体層が接する領域と、ゲート電極層との距離を十分に縮小することができる。また、ソース電極層またはドレイン電極層は、開口を埋め込むように絶縁層上に導電膜を形成し、絶縁層上の導電膜を化学的機械研磨処理によって除去することで形成される。 (もっと読む)


【課題】信号書き込み時間が長くなることを防ぎながら、信号振幅値が大きく、かつ、入出力関係が線形で動作する範囲を大きくすることが出来る半導体装置およびその駆動方法を提供する。
【解決手段】増幅用トランジスタ及びバイアス用トランジスタを有する半導体装置において、放電用トランジスタを設けて、プリ放電を行う。または、増幅用トランジスタ及びバイアス用トランジスタを有する半導体装置において、バイアス用トランジスタに接続されたバイアス側電源線の電位を、増幅用トランジスタに接続された増幅側電源線の電位に近づけることにより、プリ放電を行う。 (もっと読む)


【課題】撮像画像の高画質化を実現することが可能な撮像装置、およびそのような撮像装置を備えた撮像表示システムを提供する。
【解決手段】撮像装置は、各々が光電変換素子と電界効果型のトランジスタとを含む複数の画素を有する撮像部と、トランジスタのオン動作およびオフ動作を切り替えて画素内に蓄積された信号電荷の読み出し駆動およびリセット駆動を行う駆動部とを備える。トランジスタは半導体層を間にして第1および第2のゲート電極を有し、駆動部は、トランジスタの第1のゲート電極に第1の電圧、第2のゲート電極に第2の電圧をそれぞれ印加し、かつリセット駆動の際には、第1および第2の電圧のそれぞれにおいて、オン電圧およびオフ電圧間の切り替え時期およびオン電圧値のうちの一方または両方が互いに異なるようにする。リセット駆動時に生じるチャージインジェクションを低減することができる。 (もっと読む)


【課題】撮像画像の高画質化を実現することが可能な撮像装置、およびそのような撮像装置を備えた撮像表示システムを提供する。
【解決手段】撮像装置は、各々が光電変換素子と電界効果型のトランジスタとを含む複数の画素を有する撮像部と、トランジスタのオン動作およびオフ動作を切り替えることにより、画素内に蓄積された信号電荷の読み出し駆動およびリセット駆動を行う駆動部とを備える。リセット駆動を1フレーム期間内で間欠的に複数回行い、トランジスタのゲートに対し、1フレーム期間の1回目のリセット駆動時には第1の電圧、他の回のリセット駆動時には、第1の電圧よりも低い第2の電圧を印加してトランジスタのオン動作を行う。各画素において光電変換がなされ、信号電荷の読み出し駆動およびリセット駆動がなされ、入射光に基づく撮像画像が得られる。リセット駆動時に生じるチャージインジェクションを低減する。 (もっと読む)


【課題】 画素の容量値を調節することが可能で高いS/N比が得られる検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板100の上に配置されたトランジスタ130と、トランジスタ130の上に配置され、トランジスタ130と接続された変換素子110と、変換素子110と接続されたオーミックコンタクト部151と、オーミックコンタクト部151と接続された半導体部152と、絶縁層101を介して半導体部152及びオーミックコンタクト部151と対向して配置された導電体部154と、を基板100と変換素子110との間に有して、トランジスタ130に対して変換素子110と並列に接続された容量素子150と、半導体部152にキャリアを蓄積させる第1電位と、半導体部152を空乏化させる第2電位と、を導電体部154に供給する電位供給手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】撮像画像の高画質化を実現することが可能な撮像装置、およびそのような撮像装置を備えた撮像表示システムを提供する。
【解決手段】撮像装置は、各々が光電変換素子を含む複数の画素を有する撮像部と、画素内に蓄積された信号電荷の読み出し駆動およびリセット駆動を行う駆動部とを備える。駆動部は、読み出された信号電荷を電圧に変換するチャージアンプ回路を有し、リセット駆動を1フレーム期間内で間欠的に複数回行い、かつ1フレーム期間内の各リセット駆動を、チャージアンプ回路におけるチャージアンプの帰還または仮想短絡現象を利用して行う。各画素において光電変換がなされ、信号電荷の読み出し駆動およびリセット駆動がなされ、入射光に基づく撮像画像が得られる。読み出し後の信号電荷の残留に起因するノイズを低減することができる。 (もっと読む)


【課題】撮像画像の高画質化を実現することが可能な撮像装置、およびそのような撮像装置を備えた撮像表示システムを提供する。
【解決手段】撮像装置は、各々が光電変換素子を含む複数の画素を有する撮像部と、画素内に蓄積された信号電荷の読み出し駆動を行うと共に、画素内に蓄積された信号電荷のリセット駆動を行う駆動部(システム制御部,列走査部,行走査部)と、撮像部から出力される画像において残像が低減されるように、リセット駆動を行うタイミングを補正する補正部(リセットタイミング補正部)とを備える。撮像部の各画素において入射光に基づく光電変換がなされ、信号電荷の読み出し動作およびリセット動作がなされ、入射光に基づく撮像画像が得られる。補正部によりリセットタイミングが補正され、この補正されたリセットタイミングを用いてリセット駆動が行われることにより、残留電荷に起因する残像の発生が抑制される。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いたボトムゲート型のトランジスタにおいて、高いゲート電圧がゲート電極層に印加される場合、ドレイン電極層の端部近傍(及びソース電極層の端部近傍)に生じる恐れのある電界集中を緩和し、スイッチング特性の劣化を抑え、信頼性が向上された構造を提供する。
【解決手段】チャネル形成領域上に重なる絶縁層の断面形状を、テーパ形状とし、チャネル形成領域上に重なる絶縁層の膜厚は、0.3μm以下、好ましくは5nm以上0.1μm以下とする。チャネル形成領域上に重なる絶縁層の断面形状の下端部のテーパ角θを60°以下、好ましくは45°以下、さらに好ましくは30°以下とする。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。半導体装置を歩留まりよく作製し、高生産化を達成する。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、インジウムを含む酸化物半導体膜、ゲート電極層と重畳する酸化物半導体膜上に接する絶縁層が順に積層され、酸化物半導体膜及び絶縁層に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、絶縁層表面における塩素濃度を1×1019/cm以下とし、かつインジウム濃度を2×1019/cm以下とする。 (もっと読む)


【課題】ノイズによる影響を抑制する。
【解決手段】光検出回路と、差分データ生成回路と、データ入力選択回路と、を具備する。光検出回路は、光データ信号を生成する機能を有する。また、差分データ生成回路は、第1のデータ信号及び第2のデータ信号が入力され、第1のデータ信号のデータと第2の信号のデータとの差分データを生成する機能を有する。また、データ入力選択回路は、光データ信号のデータを、第1のデータ信号のデータみなすか第2のデータ信号のデータとみなすかを決定する機能を有する。 (もっと読む)


【課題】水分による下部電極の腐食を抑制することができる、半導体素子、放射線検出器、及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜23及びTFT保護層30を一括してエッチングされたコンタクトホールを埋めつつ、ゲートパッド40及びデータパッド50が形成されるため、下部電極11を介さずに、データパッド50と第2信号配線層52が接続されると共に、ゲートパッド40と第1信号配線層42とが接続される。従って、保護層34の開口部には下部電極11が設けられておらず、水分が侵入した場合でも腐食が発生する恐れが少なく、下部電極11の腐食を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】簡易な構造で、放射線の照射に関する検出を行うことができる、放射線検出器、放射線画像撮影装置、及び放射線画像撮影システムを提供する。
【解決手段】画素20が、TFTスイッチ4と、センサ部103と、ソースフォロア回路40であるTFTスイッチ42と、を備えている。TFTスイッチ42は、ゲート端子がセンサ部103に接続されており、一端が専用配線44に接続されており、他端が放射線検出配線122に接続されている。放射線検出モードでは、センサ部103で発生した電荷により、TFTスイッチ42がスイッチングされ、センサ部103で発生した電荷に応じた電荷が放射線検出配線122に出力される。すなわち、照射された放射線の線量に応じた電荷がTFTスイッチ42により放射線検出配線122に出力される。 (もっと読む)


【課題】光が暗基準領域に衝突することを防止しつつ、終結していない結合の不動態化を可能にして、画像における暗レベルの向上した較正を可能にするCCD画像センサを提供すること。
【解決手段】画像センサであって、該画像センサは、撮像アレイと、暗基準領域と、第1の実質的に不透明な光シールドと、第2の実質的に不透明な光シールドとを備え、該暗基準領域内において、該第1の光シールドにおける該開口部は、感光性エリアまたはVCCD領域の上に配置され、両方の上には配置されず、該第1の光シールドにおける該開口部が、感光性エリアの上に配置される場合、該暗基準領域における各感光性エリアは、該感光性エリアの上に2つ以上の開口部を有しておらず、該第1の光シールドにおける該開口部が、VCCD領域の上に配置される場合、該暗基準領域における各VCCD領域は、該VCCD領域の上に2つ以上の開口部を有していない、画像センサ。 (もっと読む)


【課題】画素の微細化を達成しつつ、2次元撮像及び3次元撮像の同時撮像を可能にした半導体装置の駆動方法を提供する。また、高精度な移動体の位置検出を可能にした半導体装置の駆動方法を提供する。
【解決手段】同一の照射時間の第1の照射及び第2の照射を行い、第1の照射及び第2の照射に対応させて、第1の撮像及び第2の撮像を行い、第1の撮像及び第2の撮像において、光の到着時間の時間差に依存した第1の検出信号及び第2の検出信号を取得することで、光源から被検出物までの距離を測定する。また、可視光を吸収し、赤外光を透過する第1のフォトセンサ、及び赤外光を吸収する第2のフォトセンサを重畳することで2次元撮像及び3次元撮像の同時撮像を可能にする。また、隣接するフォトセンサで被検出物のほぼ同一点からの反射光を検出する事で、高速で移動する被検出物においても位置検出精度の低下を防げる。 (もっと読む)


【課題】 複数の撮影モードに対応可能な検出装置において、駆動配線と信号配線の容量を低減して、更なる高速動作性と更なる高S/N比とを両立する。
【解決手段】 変換素子120と、第1チャネル領域と第2チャネル領域とを含む半導体層131と、第1ゲート電極134と、第2ゲート電極135と、を含むトランジスタ130と、第1ゲート電極134と接続された第1駆動配線141と、第2ゲート電極135と接続された第2駆動配線141と、第1導通電圧を第1駆動配線141に供給する第1導通電圧供給部171と、第2導通電圧を第2駆動配線142に供給するための第2導通電圧供給部172と、第2駆動配線142と第1導通電圧供給部171との間の第1の接続と、第2駆動配線142と第2導通電圧供給部172との間の第2の接続と、のいずれかを選択する選択部174と、を含む検出装置。 (もっと読む)


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