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Fターム[4M118CB13]の内容

固体撮像素子 (108,909) | 受光部材料 (4,098) | 絶縁物 (227)

Fターム[4M118CB13]に分類される特許

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【課題】受光素子面内の感度が均一に得られる固体撮像素子を提供すること。
【解決手段】撮像用照射光10を受ける側の半導体基板1の表面近傍に設けた光電変換素子からなる複数の受光素子2上の撮像用照射光側に、平面視で受光素子を囲むように配線層3を有し、受光素子と配線層とを被覆する絶縁層41が凹部を構成し、前記凹部を被覆および充填して平坦面を形成した平坦化層51を有する固体撮像素子において、絶縁層と平坦化層との屈折率を近似させたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】屈折率が低く、更には、露光後における表面状態が良好であり、現像欠陥が少なく、かつ、基板に対する密着性に優れたパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】(A)中空又は多孔質粒子、(B)光重合開始剤、及び(C)アルカリ可溶性を有する重合性化合物を含有する感光性組成物。 (もっと読む)


【課題】 複数の配線層を有する固体撮像装置における、配線上に形成されたパッシベー
ション膜と層間絶縁膜の界面による反射光と、受光面上での反射光とのリップルを低減さ
せて、色ムラを低減させることを目的とする。
【解決手段】 本発明は、基板に受光部102が配置され、前記基板上に複数の配線層(
104〜108)を有し、該配線層の少なくとも一つは略平坦な第1の絶縁膜(107)
上に配置されている固体撮像装置であって、前記第1の絶縁膜上に配置された配線層(1
08)上に、前記第1の絶縁膜と接する部分を有し、且つ該第1の絶縁膜と屈折率の異な
る第2の絶縁膜(109)を有し、前記受光部上の少なくとも一部に、膜厚方向に2種類
以上の異なる屈折率(112,113)を有する部分を含む第3の絶縁膜を有することを
特徴とする固体撮像装置。 (もっと読む)


【課題】画素セルの微細化に伴う感度低下を抑制することができる固体撮像装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】第1導電型の半導体層1と、半導体層1に設けられた、第2導電型の不純物領域からなる電荷蓄積領域7とを備える。電荷蓄積領域7に蓄積された信号電荷が転送される、第2導電型の不純物領域からなる検出部8が、電荷蓄積領域7に対応して、電荷蓄積領域7と間隔をおいて半導体層1に設けられている。さらに、半導体層1の表面には、電荷蓄積領域7と重なる状態で絶縁膜4を介して設けられ、当該重なり部分の少なくとも一部が、可視光に対して透過性を有する透明導電体からなる転送ゲート電極5を備える。 (もっと読む)


【課題】広い波長帯域の光に対して反射防止機能を有する反射防止膜を備える固体撮像装置を提供する。
【解決手段】半導体基板11と、半導体基板に形成された第1のフォトダイオード12Rと第2のフォトダイオード12Gと第3のフォトダイオード12Bと、第1〜第3のフォトダイオードの上方に形成された、第1の絶縁膜13R、第2の絶縁膜13G及び第3の絶縁膜13Bと、第1〜第3のフォトダイオードの上方に形成され、主に第1の波長の光を透過する第1のカラーフィルタ14R、主に第2の波長の光を透過する第2のカラーフィルタ14G及び主に第3の波長の光を透過する第3のカラーフィルタ14Bとを備える。第2の波長は、第1の波長よりも短くかつ第3の波長よりも長く、第2の絶縁膜13Gの体積は、第1の絶縁膜13Rの体積よりも小さくかつ第3の絶縁膜13Bの体積よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】従来よりも回折光による画質の劣化を抑制することができる固体撮像装置を提供する。
【解決手段】フォトダイオード2および垂直転送チャネル3が設けられたシリコン基板1と、シリコン基板1の上面1cを覆いかつフォトダイオード2に相当する領域に開口部5aが設けられた遮光膜5と、開口部5a内に設けられた屈折率の異なるクラッド部6aおよびコア部7aからなり、上方から入射された光を下方に導き、光出射面20aから出射させる光導波路部20とを備えている。シリコン基板1の上面1cの垂直転送チャネル3に相当する領域を基準面Sとして、上面1cのフォトダイオード2に相当する領域に、基準面Sよりも低い段差を形成する凹部21を設け、光導波路部20の光出射面20aをシリコン基板1の凹部21内に配置することにより、光出射面20aをシリコン基板1の基準面Sよりも低くした。 (もっと読む)


【課題】複数の画素でトランジスタ等を共有しても、画素自体の特性を落とすことなく、画素毎のばらつきを抑制することができる固体撮像素子を提供する。
【解決手段】各画素に設けられた光電変換領域17と、各画素の光電変換領域17に対して設けられた転送トランジスタ11と、複数の画素の光電変換領域に対して共通に形成されたトランジスタ(リセットトランジスタ12、増幅トランジスタ13、選択トランジスタ14)と、光電変換領域17の、転送トランジスタ11の転送ゲートTGとは反対側の部分上に形成された、絶縁材から成るダミー21を含む、固体撮像素子を構成する。 (もっと読む)


【課題】非常に簡便かつ低コストな方法で、電荷検出部の変換率を低下させることなく、メタル層の腐食を防いで高い信頼性を実現する。
【解決手段】電荷検出部8およびその近傍部分上方のメタル層13〜15のパターンニングまでを形成行った後に、メタル層13〜14(TiN/AlCu/TiN)のうちの中間層のAlCuのみをエッチング除去する薬液(例えば酢酸が主成分のアルミエッチャント)を使用して中間層のアルミニュウム・銅層の部分のみをウェットエッチングすることにより、中間層のアルミニュウム・銅層のサイドシフトが入った形状とし、この形状の上から保護絶縁膜16の形成を行うことにより、メタル層14の中間層側壁と保護絶縁膜16との間に中空の空間層14aを形成する。 (もっと読む)


【課題】スミア特性の低下を抑制しつつ、高感度を実現した固体撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る固体撮像装置100は、半導体基板101と、半導体基板101に行列状に形成され、入射光を信号電荷に変換する複数の受光部103とを備え、半導体基板101は、表面から突出し滑らかな曲面で構成される複数の凸部102を備え、複数の凸部102のそれぞれは、複数の受光部103のそれぞれに対応して配置され、半導体基板101と一体形成されている。 (もっと読む)


【課題】配線やコンタクトホールの寸法の微細化に際しても、コンタクト抵抗の低減を図ることが可能であり、且つ、暗電流の発生が少ない固体撮像素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】固体撮像素子1では、配線24と転送電極膜102とが、2層のコンタクトホールにより接続されている。下側のコンタクトホールAは、その底部にチタンシリサイド膜105が形成されている。そして、上側のコンタクトホールBは、チタンシリサイドを構成中に含まず、下側のコンタクトホールとの間が中間配線層としてのタングステン膜107により接続されている。ここで、上下の両コンタクトホールA,Bには、純粋なチタンは残っていない。また、撮像画素領域におけるフォトダイオード121の上方の層内レンズ膜127は、下方のコンタクトホールAに対して積層上方に選択的に形成されている。 (もっと読む)


【課題】低屈折率であって暗電流を消滅させる層を比較的低温で形成が可能な固体撮像装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】固体撮像装置1は、入射光を光電変換する受光部20が形成された半導体基板2と、受光部20の入射光が入射する面上に200℃以下で形成された有機化合物として、例えばフッ化ビニリデン系化合物からなる強誘電体層6と、強誘電体層6上に形成された透明電極7とを備え、透明電極7側に負、半導体基板2側に正となる電圧を印加することにより、強誘電体層6が強誘電体を発現する。 (もっと読む)


【課題】複雑化することなく、暗電流を抑制することを可能にする。
【解決手段】第1導電型の半導体基板10に設けられた第2導電型の半導体層24を有し、半導体基板の第1面側に入射した入射光を信号電荷に変換して蓄積する光電変換部24と、光電変換部によって蓄積された信号電荷を読み出す読み出し回路と、半導体基板の第1面側に光電変換部の半導体層24を覆うように設けられ、固定電荷を保持する固定電荷膜を含み、入射光の反射を防止する反射防止構造28と、光電変換部と、反射防止構造との間に設けられ、正孔を蓄積する正孔蓄積領域25と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】寄生容量を低減し、高性能化を図った固体撮像装置等の半導体装置とその製造方法、前記固体撮像装置を備えたカメラ等の電子機器を提供するものである。
【解決手段】本発明の半導体装置は、2つ以上の半導体チプ部22,26が貼り合わされた積層半導体チップ27を有する。積層半導体チップ27では、少なくとも第1の半導体チップ部22に画素アレイ23と多層配線層41が形成され、第2の半導体チップ部26にロジック回路25と多層配線層55が形成される。第1の半導体チップ部22には、一部の半導体部分が全て除去された半導体除去領域52が形成され、半導体除去領域52内に第1の半導体チップ部22と第2の半導体チップ部26との間を接続する複数の接続配線67が形成される。この半導体装置は、裏面照射型の固体撮像装置として構成される。 (もっと読む)


【課題】画素化された撮像装置を提供する。
【解決手段】数個の画素を含む撮像装置であって、各々の画素は少なくとも、
−第1の電極(122)及び第2電極(102)の間に配置され、及び光子及び/または高エネルギー粒子放射の電気信号への変換を達成することができるダイアモンド層(104)の一部と、
−前記電気信号を増幅及び/または読出すための電子回路(110)であって、少なくとも前記第1の電極に電気接続され、及び前記ダイアモンド層及び該ダイアモンド層と前記電子回路との間に位置された誘電層(106)を含むSOD型基板の表面層を形成し、おおよそ1μmに等しいかそれより薄い厚さを有している半導体材料層(108)の一部で作られた電子回路と、
を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】 ハイブリッド型撮像装置などの検出装置等において、その電極/接合バンプの接触抵抗を低くし、接合強度を高くすることができ、かつ受光素子アレイ等の本体にダメージが生じにくい、検出装置等を提供する。
【解決手段】近赤外域の受光素子アレイ50と、読み出し回路を構成するCMOS70とを備え、1つまたは2つの接合バンプ79,9を挟んで、受光素子アレイの電極11と読み出し回路の電極71とが接合され、読み出し回路において、電極の対応部に開口部78をあけられて、該電極が設けられた側の面74を覆う樹脂層75を備え、樹脂層の開口部の壁面等被覆するカップ状金属Kと、電解めっきで形成された接合バンプ79とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】副画素(受光素子部)の大きさが縮小されても感度低下や混色発生を確実に防止し得る固体撮像素子を提供する。
【解決手段】固体撮像素子は、受光素子部21、層間絶縁層32、カラーフィルター33、マイクロ・レンズ34、及び、マイクロ・レンズ34に入射し、カラーフィルター33及び層間絶縁層32を通過した光のエネルギーを受光素子部21へと集めるアンテナ構造体41を備えており、アンテナ構造体41を構成する材料の屈折率は、層間絶縁層32を構成する材料の屈折率よりも高く、アンテナ構造体41は、受光素子部21が設けられた半導体層11の部分と、その上方に位置する層間絶縁層32の部分との間に設けられており、且つ、層間絶縁層32によって囲まれている。 (もっと読む)


【課題】 光電変換装置において、保護絶縁膜の構造を変えることなく、入射光の波長に対しての出力の波(リップル)を低減する。
【解決手段】 本発明は上記課題に鑑み、複数の光電変換領域と、前記複数の光電変換領域上に配された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜に接して配された、該層間絶縁膜とは異なる屈折率を有する保護絶縁膜と、を有する光電変換装置において、各光電変換領域の受光面に配された凹部と、該凹部を埋め込む埋込領域とを有し、前記凹部の深さdは各第一半導体領域への入射光の波長をλとし、前記埋込領域の屈折率をnとしたとき、d≧λ/4nであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】イメージセンサー及びその動作方法を提供する。
【解決手段】複数のピクセルを含むピクセルアレイを備え、複数のピクセルのそれぞれは、入射光のエネルギーによって電圧−電流特性が変化し、入射光のエネルギーにより決定される感知電流を生成する光感知部、複数のピクセルのうち少なくとも一つのピクセルをリセットするリセット信号によって活性化して基準電流を生成するリセット部、及び感知電流及び基準電流を電圧に変換して感知電圧及び基準電圧を生成する変換部を備えるイメージセンサー。 (もっと読む)


【課題】受光部の受光面に、画素間のばらつきなく均一にホール蓄積層を形成して、界面準位に起因した暗電流を抑制することが可能な裏面照射型の固体撮像装置を提供する。
【解決手段】半導体基板201の第1面201a側に形成された配線層203と、第1面201a側とは反対側の第2面201b側から入射される光を光電変換する受光部202とを有する裏面照射型の固体撮像装置であって、受光部202の受光面上に、自発分極を有する材料からなる自発分極膜204が形成されている。 (もっと読む)


【課題】積層される半導体ウェハにより、量産性向上、コスト低減を図った、固体撮像装置等の半導体装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】半製品状態の回路を備えた半導体ウェハ31,45を複数積層して貼り合わせ、複数の半導体ウェハ31,45からなる積層体を形成し、積層体のうち、上層の半導体ウェハ31の半導体層を薄肉化する。また、上層の半導体ウェハ31側から最下層の半導体ウェハ45に形成された配線に達する貫通開口部77を形成し、最下層の半導体ウェハ45に形成された配線を露出させることにより電極パッド部78を形成する。これにより、貫通開口部77は、半導体ウェハ31,45の脆弱な接合面を貫通して形成され、電極パッド部78は、脆弱な接合面よりも下層の半導体ウェハ45の配線において形成される。これにより、電極パッド部78における外部配線との配線時に、脆弱な接合面に係る応力を低減することができる。 (もっと読む)


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