【課題】微細化と共に感度を向上でき、クロストーク及び暗電流の増大を防ぐことが可能な固体撮像装置を信頼性が高い製造方法により得られるようにする。
【解決手段】半導体基板１と、半導体基板１の上部に形成されたトランジスタ４と、半導体基板１の上に形成され、トランジスタ４と電気的に接続する配線１０を含む配線層と、配線層の上に、配線１０と電気的に接続するように形成され、行列状に配置された複数の下部電極１１、該複数の下部電極１１の上に形成された光電変換膜１２及び該光電変換膜１２の上に形成された上部電極１３を含む光電変換部１４とを備えている。光電変換膜１２は、単層膜又は積層膜であり、酸化銅（Ｉ）を含む。 （もっと読む）

【課題】光電変換層より深い位置に配線層が配置された固体撮像素子において、光電変換層を通過する光に対する感度を抑え、色再現性を向上させる。
【解決手段】光電変換素子が配設される光電変換層と、少なくとも１層の金属膜と、前記金属膜の周囲を埋める層間絶縁膜とからなる配線層と、を有し、前記配線層が前記光電変換層に対して光入射側と反対側の前記光電変換層より深い位置に配設された固体撮像素子において、前記配線層の金属膜のうち、少なくとも前記光電変換層に最も近い位置に配設された第１の金属膜を、前記光電変換層を通過した所定範囲の波長の光が照射されない領域に配置した。 （もっと読む）

【課題】従来よりもカラーフィルターが隔壁から剥がれにくい固体撮像装置を提供する。
【解決手段】フォトダイオード１２が内部に形成された半導体基板１０と、絶縁膜２０と配線２２，２４との積層構造を有し、半導体基板１０上に形成された配線層と、無機材料からなり、配線層上における隣接するフォトダイオード１２の間に相当する箇所に立設された隔壁３０と、有機材料からなり、配線層上であって隣接する隔壁３０の間に形成されたカラーフィルター５０，５２と、有機材料からなり、隔壁３０側面とカラーフィルター５０，５２との間に形成された密着層４０とを備え、密着層４０のカラーフィルター５０，５２に対する密着性は、隔壁３０のカラーフィルター５０，５２に対する密着性よりも高く、密着層４０の隔壁３０に対する密着性は、カラーフィルター５０，５２の隔壁３０に対する密着性よりも高い固体撮像装置。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの膜厚が不均一となるのを抑制することができる画像撮像装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板２１と、半導体基板２１上に形成され、画素領域３に相当する上面が周辺回路領域５に相当する上面より低い下地層（２５）と、下地層（２５）の画素領域３に相当する上面に二次元配置された複数のカラーフィルタ２７と、各カラーフィルタ２７間に配された隔壁２９とを備え、下地層（２５）における画素領域３に相当する上面に対して直交する断面において、周辺回路領域５に接する外側部分（９）に配されている隔壁２９の占有面積が、画素領域３の中央部分（１１）に配されている隔壁２９の占有面積よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】 ビア形成時のエッチングによる基板や配線への影響を抑制しつつ積層された半導体ウェハの回路どうしを接続する。
【解決手段】 半導体装置の製造方法は、第１基板と第１基板の一面と接するように形成された第１絶縁層を有する第１の半導体ウェハと、第２基板と第２基板の一面と接するように形成された第２絶縁層を有する第２の半導体ウェハを接合する工程と、第１基板の他面に第３絶縁層を形成する工程と、第３絶縁層、第１基板、及び第１絶縁層を貫通し第２絶縁層に形成された第２の配線上に第２絶縁層が残るようにエッチングを行い第１接続孔を形成する工程と、第１接続孔に絶縁膜を形成する工程と、第２の配線上の第２絶縁層及び絶縁膜のエッチングを行い第２接続孔を形成し第２の配線を露出させる工程と、第１及び第２接続孔の内部に形成され第２の配線と接続する第１のビアを形成する工程とを備え、第１基板の他面に形成された第１接続孔の径は第３絶縁層に形成された前記第１接続孔の径より大きい。 （もっと読む）

【課題】高昇華温度で、耐熱性が高い有機材料を高純度、高収率、短時間で昇華精製することができる、有機材料の精製方法を提供すること。
【解決手段】真空度１×１０^−２Ｐａ以下での熱重量測定における１０％重量減少温度が２５０℃以上の有機材料の精製方法であって、有機材料中の無機不純物の濃度を５０００ｐｐｍ以下とした後に、該有機材料を昇華精製する。 （もっと読む）

【課題】光学フィルターの色毎に感度が異なることに起因する色ノイズが効果的に抑圧する。
【解決手段】固体撮像素子は、２次元マトリックス状に配列された複数の画素１ａと、列毎に奇数行の画素が接続される第１の列出力線８および偶数行の画素が接続される第２の列出力線９とを有し、複数の色フィルターを備える光学フィルターの色フィルターが画素の各々に対応づけられて第１および第２の列出力線から、画素に入力された光学像に応じて同色の出力信号を画像信号として出力する。列回路１２，１３は列毎に第１および第２の列出力線に対応して設けられ、前記出力信号を増幅する。列回路の増幅率は画素に対応づけられた色フィルターに応じて異なる。 （もっと読む）

【課題】分光感度のバラツキや色滲みのなく高感度・高解像性であるとともに、隣接する画素部への光の混入を防ぐことができる構成の固体撮像装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１０１の内部には、複数のフォトダイオード１０２が内部に形成されている。配線層１０３は、絶縁膜１０５と配線１０４との積層構造を有し、半導体基板１０１の上に形成されている。複数のカラーフィルタ１０６は、配線層１０３の上方において、複数のフォトダイオード１０２の各々に対応して形成されている。カラーフィルタ１０６の上には、平坦化膜１０７とマイクロレンズ１０８が順に積層されている。固体撮像装置１では、カラーフィルタ１０６の各々において、平坦化膜１０７よりも屈折率が高いとともに、Ｚ軸方向の上面が凹形状である。 （もっと読む）

【課題】光導波路における開口寸法を配線レイアウトを変更することなく大きくすることにより、光導波路内に高屈折率膜を確実に埋め込むことができ、感度等が優れた光学特性を得られるようにする。
【解決手段】固体撮像装置の画素部Ａは、半導体基板１０１に形成されたフォトダイオードＰＤと、該フォトダイオードＰＤの上側部分に凹部１１７を有する第１の絶縁膜１５０と、該第１の絶縁膜１５０の上に、凹部１１７を埋め込むように形成された第２の絶縁膜１６０とを有している。固体撮像装置の周辺回路部Ｂは、第１の絶縁膜１５０に形成された内部配線１１５と、該内部配線１１５の上に形成され、該内部配線１１５と電気的に接続されるパッド電極１２１とを有している。パッド電極１２１は、第２の絶縁膜１６０の上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの作製に有用であり、色純度が高く、薄層で高い吸光係数が得られ、堅牢性、及び電圧保持率に優れた着色膜を形成しうる着色組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物及びその互変異性体から選択された少なくとも１種を含有する着色組成物。
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【課題】光電変換層に汚染物質を混入させず、分光感度特性がよく、かつ出力電流にばら
つきのない光電変換装置を得ることを課題とする。光電変換装置を有する半導体装置にお
いて、信頼性の高い半導体装置を得ることを課題とする。
【解決手段】絶縁表面上に、第１の電極と第２の電極と、前記第１の電極と第２の電極と
の間にカラーフィルタと、前記カラーフィルタを覆ってオーバーコート層と、前記オーバ
ーコート層上に、ｐ型半導体膜、ｉ型半導体膜及びｎ型半導体膜を有する光電変換層と、
前記光電変換層の端部の一方は、前記第１の電極と接しており、前記カラーフィルタの端
部は、前記光電変換層の端部の他方より内側にある半導体装置に関する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造後も終点検出部が残存することがなく、また、半導体基板と異なる材料の半導体素子部への拡散等の問題もなく、精度よく半導体基板の薄膜化を実現することができる半導体装置の製造方法及びそれに用いられる半導体基板を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板１の表面１ａに複数の凹部３を有するトレンチ構造５を形成する工程と、前記トレンチ構造５を形成した半導体基板１を不活性ガス雰囲気又は還元性ガス雰囲気にて熱処理を行うことで、前記複数の凹部３の表面部分を閉塞して前記表面部分に半導体層３ａを形成すると共に、内部に空隙３ｂを形成する工程と、を少なくとも備える。 （もっと読む）

【課題】電気的な構造を複雑化することなく撮像用画素と焦点検出用画素とをレイアウトする。
【解決手段】マイクロレンズと複数の光電変換部とを有する単位画素が２次元に配列された画素群を備え、当該画素群が撮像用画素と焦点検出用画素を含む固体撮像素子であって、前記画素群の一部に前記焦点検出用画素として、前記複数の光電変換部のそれぞれを部分的に遮光する遮光部を設けた。 （もっと読む）

【課題】透明電極が形成された固体撮像素子において、感度低下の防止が図られた固体撮像素子を提供する。また、その固体撮像素子を用いた撮像装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１に形成され、入射した光の光量に応じて信号電荷を生成する光電変換部ＰＤと、基板１１上部に形成された透明電極１４を備える固体撮像素子１において、透明電極１４を、複数の開口を有するナノカーボン材料で構成する。 （もっと読む）

【課題】短波長領域（例えば４００ｎｍ未満）での透光性を保持しながら、赤外領域及び可視域（例えば４００〜７００ｎｍ）で高い遮光性を有し、剥がれの発生が抑制された遮光膜用着色組成物を提供する。
【解決手段】チタン原子を有する黒色チタン顔料から選ばれる少なくとも一種と、赤色有機顔料、黄色有機顔料、紫色有機顔料、及び橙色有機顔料の中から選ばれる有機顔料の少なくとも１種と、オキシム系光重合開始剤の少なくとも一種とを含み、波長６５０ｎｍの光の透過率が０．２％となるように成膜したときに、波長４００〜７００ｎｍの光の透過率の最大値が１．５％以下であり、その最大透過率を示す波長を４００〜５５０ｎｍに有しており、波長４００ｎｍにおける光の透過率が０．１％以上である。 （もっと読む）

【課題】偏光画像データを出力する従来のカメラでは、偏光画像データと共に同一被写体を捉える通常のカラー画像データを出力することができなかった。
【解決手段】上記課題を解決すべく、撮像素子は、入射光を電気信号に光電変換する、二次元的に配列された光電変換素子と、少なくとも一部の前記光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられたカラーフィルタと、少なくとも一部の前記光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられたフォトニック結晶偏光子とを備える。 （もっと読む）

【課題】位相差検出画素の遮光膜開口を小さくすることなく良好な位相差情報を取得する。
【解決手段】基板上に二次元アレイ状に配列形成され各々が入射光量に応じた信号電荷を発生させる複数の光電変換素子５と、該複数の光電変換素子５の各々の上に積層される同形状のマイクロレンズと、光電変換素子５の受光面と対応する前記マイクロレンズとの間に介挿され該光電変換素子５の受光面上に開口６が設けられた遮光膜とを備え、光電変換素子５のうち被写体からの入射光の位相差情報を検出する隣接する２つの光電変換素子５Ｇ，５ｇに設けられる前記開口が該２つの光電変換素子で共通に１つの開口７として設けられる （もっと読む）

【課題】 分割画素を有する撮像素子を用いた撮像装置において、欠陥画素の検出精度を上げること。
【解決手段】 マイクロレンズ（４４２）と、該マイクロレンズを共有する複数の光電変換部（４０１ａ〜４０１ｄ）とを各々が有する複数の画素を備えた撮像素子と、前記光電変換部のうち、欠陥のある光電変換部を検出する画像補正回路（１１４）とを有する撮像装置において、前記画像補正回路は、前記複数の光電変換部それぞれを順次検出対象とし、前記検出対象の光電変換部から出力される出力信号と、前記検出対象の光電変換部を有する画素の周辺の画素に含まれる、前記検出対象の光電変換部と前記マイクロレンズに対する位置関係が対応する光電変換部からの出力信号とを比較することによって、前記検出対象の光電変換部に欠陥があるかどうかを判定する第１の欠陥画素検出方法を用いて判定を行う。 （もっと読む）

【課題】 構成要素の位置の製造上のばらつきによる焦点検出用画素の瞳強度分布のばらつきを抑制した撮像素子を提供する。
【解決手段】 複数の画素の各々の受光側に設けられたマイクロレンズと、マイクロレンズが集光した光を受光する光電変換部とを有する撮像素子である。例えば、焦点検出用画素が、マイクロレンズと光電変換部との間に、瞳分割を行うための遮光層を有する構造を有しているとする。この場合、マイクロレンズの焦点位置が、遮光層よりもマイクロレンズ側に位置し、マイクロレンズの焦点位置から遮光層までの距離が、０より大きくｎＦΔより小さくなるように構成する。ただし、ｎはマイクロレンズの焦点位置での屈折率、Ｆはマイクロレンズの絞り値、Δはマイクロレンズの回折限界である。 （もっと読む）

【課題】色再現性の低下を抑制可能とする固体撮像装置及びカメラモジュールを提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、固体撮像装置であるイメージセンサ１２は、画素アレイと、赤外光除去部であるＩＲカットフィルタ２６と、を有する。画素アレイは、複数の画素セル２１がアレイ状に配置されている。画素セル２１は、光電変換素子２３を備える。画素アレイは、色配列に従って、各色光の信号レベルを画素セル２１ごとに分担して検出する。ＩＲカットフィルタ２６は、光電変換素子２３へ進行する光から赤外光を除去する。ＩＲカットフィルタ２６は、画素セル２１ごとに対応させて設けられている。ＩＲカットフィルタ２６は、画素セル２１が検出対象とする色光に応じて選択波長が設定されている。 （もっと読む）