【課題】より小さい磁場で磁性層の磁化方向を所定の方向に設定する。
【解決手段】磁気メモリ２１の磁場印加装置３０は、磁気メモリ２１の磁性層に磁場を印加し、磁性層の磁化方向を初期化する磁石３２Ａ及び３２Ｂと、磁性層に磁場が印加されている間に、磁気メモリ２１の温度を上昇させる温度上昇機構３３と、制御回路３４とを含む。磁石３２Ａ及び３２Ｂはそれぞれ、設定する磁化方向に応じて、磁場を発生し、磁気メモリ２１の上から下へ向かう磁場、又は下から上へ向かう磁場が印加される。 （もっと読む）

【課題】より小さい磁場で磁性層の磁化方向を所定の方向に設定する。
【解決手段】磁気メモリ１０の磁場印加装置（製造装置）３０は、磁気メモリ１０の磁性層１５に磁場を印加し、磁性層１５の磁化方向を初期化する磁石３２Ａ及び３２Ｂと、磁性層１５に磁場（反転磁場）が印加されている間に、磁性層１５に高周波磁場（マイクロ波磁場）を印加する磁場発生器３３と、制御回路３４とを含む。磁性層１５に磁場を印加すると同時に、高周波磁場を印加することで、小さい反転磁場で磁性層１５の磁化方向を所定の方向に設定することができる。 （もっと読む）

【課題】出力値を変化させる不揮発性抵抗変化素子の状態を、出力動作を止めることなく変化させることができる集積回路を提供する。
【解決手段】不揮発性抵抗変化素子（１０）の抵抗を変化させるための書き込み端子（１１）と、該抵抗を読み出すための読み出し端子（１２）とを別々に有し、電気的にカップリングしていない該書き込み端子と読み出し端子とを用いて書き込み動作と読み出し動作を同時にできる不揮発性抵抗変化素子を有する回路を含む集積回路（５０）である。該回路には該不揮発性抵抗変化素子の抵抗値に応じた出力値を出力する出力端子（２２）と、該抵抗値を変化させる入力端子（１１）を少なくとも有する。該出力端子からの出力の一部を、該入力端子に帰還させることができる。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗効果の大きい新たな可変抵抗素子を提供する。
【解決手段】本発明による可変抵抗素子は、次の３つの特徴を備えた結晶性化合物を含む。第１の特徴は、トポロジカル誘電体特性を示すことにより、伝導帯と価電子帯がディラックコーンを形成する点である。第２の特徴は、ディラックコーンを構成する伝導帯の谷と価電子帯の山との間に、バンドギャップが形成される点である。第３の特徴は、異なるスピンが入る二つのバンドがΓポイントを中心に時間反転対称を持つことである。これら３つの特徴を全て備えることにより、著しい磁気抵抗効果が発現する。 （もっと読む）

【課題】高い信頼性で書き込み・消去・読み出しが可能な低コストの半導体不揮発性記憶装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態の半導体不揮発性記憶装置は、基体Ｓと、第１の電極２と、機能膜１０と、第２の電極５０と、を持つ。前記第１の電極２は、前記基体Ｓ上に設けられる。前記機能膜１０は、前記第１の電極２上に成膜されて記憶媒体をなす。前記第２の電極５０は、上面に凸の曲面を有するように、前記機能膜１０上または前記機能膜１０内に設けられる。 （もっと読む）

【課題】磁気層を用いて選択することができるマルチビットメモリのための装置および関連する方法を提供する。
【解決手段】高保磁力を有する第１および第２の記憶層の間に配置される低保磁力を有する第１の選択層を配置し、第１の選択層の磁気飽和に応答して、第２の記憶層への論理状態のプログラミングが許可され、各ビットが選択的にプログラムされることにより、マルチビットメモリが達成され、データ記憶容量を増加することができる。 （もっと読む）

【課題】従来にない新規な物性を発現し得る酸化チタン薄膜及びその製造方法と、それを用いた磁気メモリ、光情報記録媒体及び電荷蓄積型メモリを提供する。
【解決手段】ＴｉＯ_２粒子を混入させた原料溶液を基板２の表面に塗布して、ＴｉＯ_２粒子層を当該基板２の表面に形成し、水素雰囲気下において焼成処理することにより、基板２の表面に酸化チタン薄膜３を形成する。これにより、温度が約４６０Ｋ付近において非磁性半導体と常磁性金属とに相転移する従来におけるバルク体とは異なり、室温で相転移せずに、全ての温度領域において、Ｔｉ_３Ｏ_５粒子本体が常磁性金属の特性を常に維持することができるという従来にない新規な物性を発現し得る酸化チタン薄膜３を提供できる。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高いシフトレジスタ型記憶装置及びデータ記憶方法を提供する。
【解決手段】一態様によれば、一方向に沿って連なり、その特徴方向が前記一方向に延びる回転軸についてそれぞれ回転可能な複数の回転子を備えたシフトレジスタが提供される。前記複数の回転子には一軸異方性が付与され、前記複数の回転子は、隣り合う２つの前記回転子毎に複数の対に組分けされており、同一の前記対に属する２つの前記回転子には、前記特徴方向を反平行とするような第１の力が作用し、隣り合う前記対に属する隣り合う２つの前記回転子には、前記第１の力よりも弱く、前記特徴方向を反平行とするような第２の力が作用する。 （もっと読む）

【課題】磁気メモリ素子に記憶された情報を不正な手段で読み出すことを困難にして、磁気メモリ素子に記憶された情報が漏洩することを抑制できる半導体パッケージを提供すること。
【解決手段】磁気を加えることにより情報を記憶するメモリセル１１を有するダイ１０を内部に備える半導体パッケージ１であって、パッケージ本体２０の内部に配置され、メモリセル１１の磁気メモリ素子を磁化可能な磁界ＭＦ１を少なくともメモリセル１１が位置する空間に発生させる磁界源４１と、ダイ１０の基板面１０Ａを覆って配置され、メモリセル１１に加わる磁界ＭＦ１を減衰させる磁気シールド材４２と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面積抵抗（ＲＡ）を増加させることなく、所定値以上の磁気抵抗効果率（ＭＲ比）を確保しつつ、固定磁化層と自由磁化層との間の層間結合磁界（Ｈｉｎ）の低減が可能な磁気抵抗効果素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気抵抗効果素子１は、絶縁材料を用いて形成される絶縁層１５と、磁性材料を用いて形成される第２の磁化層との間に、非磁性材料を用いて形成される非磁性層２０を備え、非磁性層２０は、絶縁層１５上に形成される。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗変化を利用したメモリセルによって構成された不揮発性メモリを有する半導体記憶装置において、メモリセルのスケーリングが進んでも読み出しディスターブを回避し、かつ高速に読み出し動作を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】固定層、トンネル障壁膜および自由層が積層されてなるトンネル磁気抵抗素子とＭＩＳトランジスタとからなるメモリセルにおいて、メモリセルの情報の書き込み動作は、所望する第１電流値および第１時間によって行い、メモリセルの情報の読み出し動作は、メモリセルの温度を検知する温度センサを含むパルス発生回路によってメモリセルの動作温度に応じて設定される第２電流値および第２時間によって行う。 （もっと読む）

【課題】 ホイスラー合金が形成される下地層の選択自由度が高く、熱処理温度及び熱処理回数を低減し、ホイスラー合金の高いスピン偏極率を活用できる積層体を提供する。
【解決手段】 ＭｇＯ層３と接触するように、結晶質のホイスラー合金層１が配置されている。ホイスラー合金層１のＭｇＯ層３に対して反対の面側には、非晶質のホイスラー合金層４が配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＭＲＡＭのメモリ素子のスイッチング電流の製造時のバラツキを意図的に一方方向にシフトさせるができるＭＴＪ素子を有する半導体装置及びその製造方法を得る。
【解決手段】平面形状が横長の矩形状の下部電極ＥＢ１の右側寄りに平面形状が縦長の楕円形状のＭＴＪ素子ＭＤ１が形成される。ＭＴＪ素子ＭＤ１上を覆って平面形状が下部電極ＥＢ１と同一形状の横長矩形状のＭＴＪ上絶縁膜５１が形成される。そして、ＭＴＪ上絶縁膜５１として、ＭＴＪ素子ＭＤ１に圧縮ストレスを印加する圧縮ストレス絶縁膜や、ＭＴＪ素子ＭＤ１に引っ張りストレスを印加する引張ストレス絶縁膜が用いられる。 （もっと読む）

【課題】磁気媒体の作成において、良質の磁気媒体を作製できるようにする。
【解決手段】基板８の外側周囲を回転する磁界発生手段７を備えたマグネトロンスパッタリングのためのチャンバー１内に、基板８と第１及び第２ターゲット２１，２１とを、前記基板８の中心軸と前記第１及び第２ターゲット２１，２１の中心軸とが交差するように配置し、前記チャンバー１内を排気し、前記チャンバー１内にガスを導入し、前記排気及びガス導入された雰囲気下で、前記基板８を回転させ、前記磁界発生手段７を前記基板８の外周の周りにおいて当該基板８の回転と一体に回転させながら、グネトロンスパッタリング法により前記基板８の上に磁性膜及び異種材料膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 耐久性に優れたスピンメモリの実現。
【解決手段】 強磁性ワード線と、強磁性ワード線と交差する非磁性ビット線と、強磁性ワード線と対向する配線と、強磁性ワード線及び非磁性ビット線の交差部分と配線との間に設けられた磁気抵抗効果素子２０１とを備える。書き込み動作時には、強磁性ワード線と前記非磁性ビット線との間に電流を流し、強磁性ワード線から非磁性ビット線にスピンを蓄積させることで磁気抵抗効果素子の自由層の磁化方向を反転させる。読み出し動作時には、非磁性ビット線と配線との間に電流を流し、磁気抵抗効果素子の膜厚方向に電流を流す。 （もっと読む）

【課題】 磁気メモリ及び磁気メモリの書込み方法に関し、隣接する素子の書込み磁界の影響による誤書込みを防止するとともに、書込み電流を低減する。
【解決手段】 基板上に縦型磁気抵抗効果素子１〜４を２次元マトリクス状に配置するとともに、各縦型磁気抵抗効果素子１〜４に近接する場所にそれぞれが互いに空間を介して交差するビット線５とワード線６を設け、フリー層の磁化反転を発生させたい縦型磁気抵抗効果素子１〜４に近接するビット線５とワード線６のみに電流を流し、電流によって発生する合成磁界８によって当該縦型磁気抵抗効果素子１〜４のみのフリー層の磁化を反転させる磁気メモリにおける隣接する縦型磁気抵抗効果素子１〜４を構成するフリー層の磁気共鳴周波数を互いに有意に異ならせる。 （もっと読む）

【課題】製造が容易でありマルチレベルの記録状態を実現できる磁気ランダムアクセスメモリを提供する。
【解決手段】磁気ランダムアクセスメモリ２は、セル１０の磁気抵抗素子領域２０の同一平面内に、磁気抵抗素子３０ａ，３０ｂを備え、磁気抵抗素子３０ａ，３０ｂは、形状磁気異方性が異なるために、外部磁界によって磁化が反転するときに外部磁界の大きさがそれぞれ異なり、磁気抵抗素子３０ａ，３０ｂの一方の磁化が反転することによって、セル１０中において生成される磁化状態に対して、セルの高抵抗状態と低抵抗状態の中間状態を割り当てたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】メモリアレイのレイアウト面積を縮小可能な不揮発性記憶装置を提供する。
【解決手段】行列状に集積配置された複数のトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲが設けられる。Ｘ方向に沿って、トンネル磁気抵抗素子ＴＭＲの行に対応してワード線ＷＬとソース線ＳＬが設けられる。また、Ｙ方向に沿ってトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲの列に対応してビット線ＢＬが設けられる。ソース線ＳＬは、２つのトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲの行ずつに対応して設けられる。ワード線ＷＬは、Ｘ方向に沿って配置されたトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲの行と隣接するトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲの行との間に配置される。各列において、互いに隣接する２つのトンネル磁気抵抗素子にそれぞれ対応してアクセストランジスタが設けられる。各アクセストランジスタは、対応するワード線をゲート電極として、互いに隣接する２つのトンネル磁気抵抗素子とそれぞれ接続される。 （もっと読む）

【課題】強磁性から常磁性への転移が必要とされる、強磁性体を用いたデバイスを小型化することが可能な磁性制御方法を提供する。
【解決手段】強磁性半導体１１０の強磁性を常磁性に転移させる方法であって、光照射又は電界印加により強磁性半導体１１０に強磁性半導体１１０のバンドギャップエネルギー以上のエネルギーを与えて強磁性半導体１１０内に伝導電子を発生させ、該伝導電子により強磁性半導体１１０における強磁性を担うイオンの価数を変化させて強磁性半導体１１０の強磁性を常磁性に転移させる。 （もっと読む）