【目的】本発明は、試料の画像を生成する超小型ＳＥＭに関し、中学生などの生徒さんが光学顕微鏡を使用して拡大画像を観察する場合と同様の手軽さで、試料の電子線ビームによる高倍率かつ高分解能の画像を観察することを目的とする。
【構成】筒状のカップの中に配置した電子光学系と、電子光学系によって生成して細く絞った電子線ビームを、筒状のカップの一方の部分に配置した試料上に照射しつつ平面走査し、そのときに放出あるいは反射された荷電粒子あるいは光を検出する検出器と、筒状のカップ内を真空排気する排気口とを備える。 （もっと読む）

【課題】ステージを高速移動しても低振動であり、ステージ停止時のドリフトが小さく、高精度の位置決めを行える電子顕微鏡装置およびブレーキ機構に関する。
【解決手段】ステージ１１０をブレーキングするブレーキ機構は、電子顕微鏡装置１に具備される。ブレーキレール１０２は、ステージ１１０が移動可能な方向に沿って敷設されている。２つのピエゾ素子１０４，１０４は、ブレーキレール１０２の両側に位置するようにステージ１１０に備えられている。ステージ駆動装置５０は、これらのピエゾ素子１０４，１０４への印加電圧を変化させ、ステージ１１０の停止時、これらのピエゾ素子１０４，１０４が伸長し、ブレーキレール１０２を押圧するようにする。 （もっと読む）

【課題】従来技術の問題に対する解決をもたらす。
【解決手段】本発明は粒子−光学装置のための熱スイッチに関する。例えば、低温ＴＥＭ（透視型電子顕微鏡）において、試料ホルダ７の末端２０に配置される試料３４が、例えば、液体窒素の温度に維持され得る。例えば、顕微鏡を低温から室温に全体的に加熱することなしに、簡単な方法において室温で試料を検査し得る必要がある。熱スイッチ４０を使用することによって、これは可能になる。このために、熱スイッチは、装置内の冷源２２と試料ホルダ７の末端２０との間の熱経路変更し、それによって、１つの位置、位置４６ａにおいて、末端２０から冷源２２への接続が行われ、他の位置、位置４６ｂにおいて、室温に維持される装置の一部４４に接続が行われる。 （もっと読む）

【課題】観察試料上に蒸気を効率良く均一導入することのできる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子銃室と対物レンズを含む電子光学系鏡体部を高真空に維持し、試料室を指定の真空圧力の低真空雰囲気にする低真空雰囲気型走査電子顕微鏡であって、蒸気を導入する蒸気導入ノズルを備え、前記蒸気導入ノズルは、下向きのノズル口と、前記ノズル口が照射電子ビームの経路上にある使用位置にあるときに照射電子ビームが通過する電子ビーム通過部とを有する。 （もっと読む）

【課題】単一の高分子材料を転写材として、厚さ制御性に優れたナノインプリント法及びこれを用いた電子顕微鏡調整用試料を提供することにある。
【解決手段】転写後の転写材の厚さに設計された壁とスタンパ保持面を有し、単一の高分子材料である転写材及びスタンパをとり囲む形状を持つスペーサをナノインプリント時に同時に挟み込む構造とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、走査顕微鏡内で反応容器の接触物質を用いて被観察試料と接触させ、その接触場所を走査電子顕微鏡で良好に観察することを課題とする。
【解決手段】走査電子顕微鏡内で試料と化学物質を接触させて試料表面を観察するための走査電子顕微鏡用観察装置であり、試料４の上部に配置されて使用される，試料４と接触させる反応容器３と、この反応容器３に任意の接触物質を導入、排出させる導入・排出機構５と、試料の上部に反応容器を移動又は撤去させるマニュピュレータ２とを具備することを特徴とする走査電子顕微鏡用観察装置。 （もっと読む）

【目的】より基板に付着するパーティクル量を低減させるアース機構およびかかる機構を搭載した装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の基板のアース機構２１０は、パターンが描画される基板１０１と基板１０１の描画領域外で接触し、かかる基板１０１と導通するブレード２１４と、基板１０１の端面と平行して延び、かかる基板１０１が上昇することでブレード２１４を基板１０１の端面と平行する方向に移動可能に支持する板ばね２１６と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、基板１０１に付着するパーティクル量を低減させることができる。 （もっと読む）

【目的】より基板に付着するパーティクル量を低減させるアース機構およびかかる機構を搭載した装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の基板のアース機構２１０は、基板１０１に向かって基板面と平行に延びる板ばね２１６と、板ばね２１６の先端部に接続され、基板１０１と接触して導通させるブレード２１４とを備え、板ばね２１６が弾性変形していない状態でブレード２１４が基板１０１に接触する接触位置と板ばね２１６の配置位置とが基板面に直交する方向に略同一位置になるように配置されたことを特徴とする。本発明によれば、基板１０１に付着するパーティクル量を低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】ビームをワーク・ピースに向けずに、荷電粒子ビーム・システムにおいてコーティングをワーク・ピースに加えること。
【解決手段】コーティングは、荷電粒子ビーム真空室内において、または荷電粒子ビーム真空室外において、スパッタリングによって加えられる。一実施形態では、スパッタリングは、気体流入システムから針などのスパッタ材料源に荷電粒子ビームを向けることによって実施される。材料は、ビームをワーク・ピースに向けることを必要とせずに、たとえば、保護コーティングまたは導電コーティングを形成するために、スパッタ材料源からワーク・ピースの上にスパッタリングされ、それによりワーク・ピースに対する損傷を低減または排除する。 （もっと読む）

【課題】多くの電子電流を引き出すことが可能であると共に、長寿命化を図ることが可能なニュートラライザを提供する。
【解決手段】一方の端部から電子電流を引き出し可能な放電管４と、放電管４内にガスを導入するガス導入管３と、この放電管４の内部でプラズマを発生させる高周波誘導コイル５と、放電管４の内部に配設されたカソード電極６と、放電管４の開口４ａ側に配設された第一のキーパ電極７と、カソード電極６よりも正電位となるように第一のキーパ電極７に電圧を印加する引出し電源１３と、第一のキーパ電極７と離間して配設された第二のキーパ電極８と、この第二のキーパ電極８にカソード電極６よりも正電位となる自己バイアス電圧を印加するコンデンサ１６と、を備える。第二のキーパ電極８の自己バイアス電圧により多くの電子電流が引き出すことができると共に、第二のキーパ電極８はスパッタされにくくなるため、長寿命化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】試料を機械研磨装置で研磨した後にイオンビームエッチング装置でエッチングする際の作業効率を向上する。
【解決手段】試料１５をイオンビームエッチング装置用の専用試料台１６に接着部材により固着した状態で専用試料台１６を研磨用試料台１１に機械的に着脱自在に固定し、研磨用試料台１１を機械研磨装置の試料取付台１８に機械的に着脱自在に固定して試料１５を機械研磨装置により機械研磨し、機械研磨の後に専用試料台１６を研磨用試料台１１から取り外してイオンビームエッチング装置内に入れ、専用試料台１６に固着されている試料のイオンビームエッチングを行う。 （もっと読む）

【目的】放射電子顕微鏡技術の分野において、試料台に設置した絶縁物試料を観察した際
に生じる試料表面の帯電を抑制し、エネルギーフィルターを用いること無く鮮明な電子像
を得るための手法と、それを応用した放射電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料台に設置した絶縁物試料に励起光を照射し、試料表面から放出された光
電子又は二次電子を投影型電子光学系により結像させて試料表面を観察する方法において
、試料面上に強電場又は強磁場が印加された状態で、励起光と同時に、帯電抑制機能を果
たした後に試料表面で反射又は弾性散乱した中和電子が角度制限絞り（コントラスト絞り
）で除去できるように、帯電中和電子ビームをビーム偏向器又はビームセパレータの電子
光学条件を調整することにより結像光軸に対して斜め方向から試料表面に照射することを
特徴とする絶縁物試料表面を観察する方法。 （もっと読む）

【課題】 導通端子を、基板の横方向及び回転方向の動きに追従させて動かす。
【解決手段】 上面にレジストが塗布され、レジスト面に荷電粒子ビームが照射される基板１５が固定される凹部２、凹部２における基板１５を下方から押し上げる押し上げ手段、基板１５を上方から規制する上面規制板４，５，６、及び、基板１５を押し上げ手段と上面規制手段とで固定した時に基板１５の上面に接することにより上面に帯電する電荷を基板ホルダー外に逃がす導通端子２０ａを取り付けた支持体１９ａを備えている。導電端子２０ａは押し上げ方向及び規制方向に平行な面に沿って撓む板バネ１９ａに取り付けられており、板バネ１９ａは押し上げ方向に対し垂直な面に沿って動くことが出来るようにベアリング２５を介して支持体２１に取り付けられている。板バネ１９ａの後端部を、基板押し上げ方向に垂直な面に沿って撓む第２の弾性体で両サイドから挟む様にしている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料上に不純物を付着させることなく、試料を取り扱うことが可能な荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】以上のような目的を達成するために、真空室内にて移動する移動部材の摺動部分に潤滑剤を塗布した走査型電子顕微鏡において、当該潤滑剤として、低分子成分が除去されたものを採用する。これによって、試料汚染を抑制することが可能となり、試料測定後のプロセスにおける不良発生の抑制が可能となる。 （もっと読む）

【課題】コンタクトプラグ／ビアプラグ形成過程のエッチング不足による非導通等によるビアチェーン導通不良等を精度良く短時間で効率的に検出する。
【解決手段】ビアチェーン欠陥試験構造とウエハ回転無しに検査方向を変更して連続で検査できる電子線式欠陥装置により電位コントラスト法の性質を活かして高速に欠陥検出し、致命的な電気的欠陥の捕捉効率および欠陥箇所の探索効率を向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭを観察手段として用いるプロービング装置において、電子線照射により生じる測定試料への電荷の蓄積を抑制することのできる技術を提供する。
【解決手段】操作画面に映し出されるＳＥＭ像を観察しながら複数本のプローブ１０を操作して、その先端を試料８の各パターンに接触させた後、チャンバ５外に設置された光源部３および光学系４から試料８に紫外線を照射することにより、ＳＥＭ像を観察する際の電子線照射により発生した電荷を中和して、試料８への電荷の蓄積を抑制する。 （もっと読む）

【課題】本発明は荷電粒子線装置に関し、従来技術で問題になっていた破壊検査を非破壊検査とし、チャージアップによる異常コントラストを抑え正常な画像を取得することができる荷電粒子線装置を提供することを目的としている。
【解決手段】荷電粒子を試料に照射する第１の照射手段１９と、試料７から発生した電子を捕獲し、画像化する画像化手段と、試料７に電圧を印加する印加手段９とを備えた荷電粒子線装置において、前記第１の照射手段１９と異なるソースから上記と同じ試料に照射できるようにした第２の照射手段２０を供えて構成される。 （もっと読む）