【課題】試料全体にわたりチャージアップのない状態で試料表面の観察及び評価を可能にした荷電粒子線装置及び該装置を使用した半導体デバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】 荷電粒子線装置は、一次荷電粒子線を試料１９に向けて照射する手段１、２、３と、一次荷電粒子線の試料１９へ向けた照射によって試料１９の表面の情報を得た二次荷電粒子線を検出器Ｄへ導く手段と、検出器Ｄに導かれた二次荷電粒子線を画像として合成する手段と１４を備える。この荷電粒子線装置は、試料１９の表面の帯電電荷量を計測する計測手段２４と、計測手段２４によって計測された帯電電荷量に基づいて、試料１９の表面における帯電電荷量を低減又は消滅させる帯電解消手段６、１７とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
高い倍率で安定して再現性の良い鮮明な走査透過型電子顕微鏡像の観察を可能にする。
【解決手段】
試料５にその表面に沿った成分を有する任意の方向の電場６を印加する電場印加機構部として電極１３〜１６を設置し、この電場印加機構部を用いて電場を印加することにより、収束電子線によって試料５表面上に局所的に帯電する電荷を速やかに移動させる。更に、この電場による電子線８スポット中心が検出器１０中心から移動するのを補正するため、電子線振り戻し機構部１７〜２０を設ける。 （もっと読む）

【課題】搬送ミスが少なくイオンビームによるエッチング処理時に被加工物の冷却を充分に行うことができるミリング装置の提供。
【解決手段】真空チャンバ２０の外部にはロードロック扉４１が設けられており、ロードロック扉４１の開口部を、真空チャンバ２０を画成する壁部２０Ａに密着当接させて密閉することで、当該壁部２０Ａの部分とロードロック扉４１とでロードロック室４０を画成する。当該壁部２０Ａの部分には開口２０ａが形成されている。開口２０ａは真空チャンバ２０とロードロック室４０とを連通するように壁部２０Ａを貫通して形成されている。開口２０ａに基板保持端部６０Ａを挿入し、鍔部６５が開口２０ａを画成する壁部２０Ａの部分に密着当接することにより、真空チャンバ２０内とロードロック室４０内との連通が遮断される。 （もっと読む）

【課題】既存の電子顕微鏡を用いて、試料の高分解能観察と同時に、紫外・可視・近赤外吸収スペクトル測定をも容易かつ確実に行うことのできる試料ホルダーを提供する。
【解決手段】ＴＥＭ１内において電子線Ｅを照射することにより試料Ｓの構造観察を行う試料ホルダー１０であって、試料ホルダー１０の軸方向Ｘに沿って配され、電子顕微鏡外の光源６０から紫外・可視・近赤外領域の光を伝送する入射側光ファイバー３８と、入射側光ファイバー３８により伝送された入射光Ｌ₁を集光する入射側集光レンズ４２と、試料Ｓを介して入射側集光レンズ４２の対向側に配され、試料Ｓを透過した光Ｌ₂を集光する透過側集光レンズ４３と、試料ホルダー１０の軸方向に沿って配され、透過側集光レンズ４３により集光した透過光Ｌ₂を電子顕微鏡外へ伝送する透過側光ファイバー３９とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料作製方法及びシステムに関し、集束イオンビーム装置と走査電子顕微鏡を利用することによる、ＦＩＢ装置の時間効率を改善することを目的としている。
【解決手段】集束イオンビーム装置１０内にイオンビーム照射により薄膜試料を作製する加工手段を設け、走査電子顕微鏡２０内には前記試料を前記集束イオンビーム装置１０から試料ホルダ１２ごと移し替えたものに、ガスを噴射させるガス供給手段２２と、プローブ２４を有するマニピュレータ２３とを設け、前記プローブ２４を試料に接触させた状態で前記ガス供給手段２２よりガスを噴射させつつ、試料に電子ビームを照射することにより、前記プローブ２４に試料を接着させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】 ２軸傾斜可能で、部品同士のカジリ等による動作不良が無く、試料位置再現性の高い隔膜型ガス雰囲気試料ホルダを提供する。
【解決手段】 隔膜型ガス雰囲気試料室１２０を有するシーリングブロック１０９は、Ｙ軸上に同軸に構成された一対のＹ回転軸３６と軸受け４４により支えられている。ガスの流路となるガス供給側管１８、 ガス排出側管１９、軸受け収納孔３９および隔膜型ガス雰囲気試料室１２０内部は、ゴムＯリング４０によって真空との気密を保持される。従って、シーリングブロック１０９は、Ｙ軸を中心にして真空との気密を保ったまま傾斜動作することができる。 （もっと読む）

【課題】試料と電極との相互の位置調整を容易に行う。
【解決手段】保持した試料に電極を介して電界をかけて加工または分析する装置に用いられ、かつ、装置本体から取り外し可能とされた試料ホルダ電極ホルダ一体化ユニットを用いる。この試料ホルダ電極ホルダ一体化ユニットは、試料を固定する試料ホルダ２１と、電極５を固定する電極ホルダ２２と、試料ホルダにより固定される試料と電極ホルダにより固定される電極との間の相対的な位置決めを行う位置決め機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡観察用試料を容易に作製し且つ透過型電子顕微鏡ホルダに装着することができることを目的とする。
【解決手段】集束イオンビーム装置は、試料室、イオンビーム光学系、試料ステージ、サイドエントリ型ステージ及び透過型電子顕微鏡試料ホルダ、及び、マイクロサンプリングステージ及び試料ホルダ交換機構、を有し、試料ステージは、試料を移動させるｘテーブル、ｙテーブル、ｚテーブル、ローテーションテーブル及びチルトテーブルを有し、上記サイドエントリ型ステージは、ｘ微動部及びｙｚｔ微動部を有し、上記ｘ微動部とｙｚｔ微動部は、上記試料室にて対向するように配置され、上記ｘ微動部は、上記チルトテーブルに設けられたチルト軸に設けられた中空部に配置されている。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、荷電粒子線の照射によって誘起される試料の電位変化を抑制しつつ、荷電粒子線を用いた試料表面の電位測定、或いは試料帯電によって変化する装置条件を自動的に調整する装置の提供にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、荷電粒子線を試料に向けて照射している状態において、当該荷電粒子線が試料へ到達しない状態（以下ミラー状態と称することもある）となるように、試料に電圧を印加し、そのときに得られる信号を用いて、試料電位に関する情報を検出する方法、及び測定結果を基に自動的に装置条件を調整する装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】観察対象の試料にダメージを与えることなく、簡単な操作で、走査電子顕微鏡用の試料を作製する方法を提供することにある。
【解決手段】イオンミリングによって試料の表面を削り取り、走査電子顕微鏡による走査像を観察し、ケミカルエッチングによって試料の表面を除去し、再度、走査電子顕微鏡による走査像を観察することによって、走査顕微鏡用の試料を作製する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハやデバイスチップから所望の特定領域を含む試料片のみをサンプリング（摘出）して、分析／計測装置の試料ステ−ジに、経験や熟練や時間のかかる手作業の試料作り工程を経ることなく、マウント（搭載）する試料作製方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】FIB加工と、摘出試料の移送、さらには摘出試料の試料ホルダへの固定技術
を用いる。
【効果】分析や計測用の試料作製に経験や熟練技能工程を排除し、サンプリング箇所の決定から各種装置への装填までの時間が短縮でき、総合的に分析や計測の効率が向上する。 （もっと読む）

透過型電子顕微鏡を提供する。透過型電子顕微鏡は、顕微鏡の電子光軸上のターゲット本体位置と、顕微鏡の軸外の導電性本体とを有する。顕微鏡はまた、軸方向電子ビームを生成するための電子源を有する。使用中に、ビームは、ターゲット本体位置に位置するターゲット本体上に衝突する。顕微鏡は、更に、別の軸外電子ビームを同時に生成するためのシステムを有する。使用中に、軸外電子ビームは、導電性本体に衝突してそこから２次電子を放出させる。導電性本体は、放出２次電子がターゲット本体上に衝突し、ターゲット本体上に蓄積する可能性がある正電荷を中和するように配置される。 （もっと読む）

二次元で規則的に反復するタンパク質層（１）は、それぞれが、遺伝学的に融合して一緒になっている少なくとも２つの単量体（５）、（６）を含むタンパク質プロトマー（２）を含む。単量体（５）、（６）は、それぞれのオリゴマー集合体（３）、（４）の単量体であり、単量体が集合してオリゴマー集合体を構築して、タンパク質層の集合体を構築する。第１のオリゴマー集合体（３）は、Ｏが（３）、（４）又は（６）と等しい、位数Ｏの二面体点群に属し、１セットの位数（２）のＯ本の回転対称軸を有する。第２のオリゴマー集合体（４）は、位数（２）の回転対称軸を有する。オリゴマー集合体（３）、（４）の対称性により、第２のオリゴマー集合体（４）それぞれの回転対称軸は、第１のオリゴマー集合体（３）の前記１セットのＯ本の回転対称軸の１つと一線上に整列されており、（２）のプロトマーが、その周りに対称的に配置されている。したがって、オリゴマー集合体（３）と（４）との間で２方面の融合体が生成され、オリゴマー集合体（３）、（４）の回転対称軸の配置により、タンパク質層が規則的に反復する。タンパク質層は多くの用途を有し、例えばバイオセンシング、Ｘ線結晶解析又は電子顕微鏡観察用の分子的実体を支持する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハやデバイスチップから所望の特定領域を含む試料片のみをサンプリング（摘出）して、分析／計測装置の試料ステ−ジに、経験や熟練や時間のかかる手作業の試料作り工程を経ることなく、マウント（搭載）する試料作製方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】FIB加工と、摘出試料の移送、さらには摘出試料の試料ホルダへの固定技術
を用いる。
【効果】分析や計測用の試料作製に経験や熟練技能工程を排除し、サンプリング箇所の決定から各種装置への装填までの時間が短縮でき、総合的に分析や計測の効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】挟持する力（挟持力）を容易且つ高精度に検出することができると共に、小型化を図ること。
【解決手段】電子顕微鏡観察用の試料を挟持可能なピンセットであって、所定間隔離間して隣接配置され、それぞれ対向する側の先端に試料を挟持する挟持面７１ａ、７２ａを有する一対の棒状挟持部材７１、７２を備え、一対の棒状挟持部材が、挟持面の基端側に挟持面と電気的に独立した状態で互いに対向して配された導電部７３、７４と、これら導電部間の静電容量を測定する静電容量センサ７５とを備えていることを特徴とするピンセット７０を提供する。 （もっと読む）

【課題】 被駆動部の動作方向を適正に決定することのできる駆動制御方法及び駆動制御システム並びに当該駆動制御システムを具備する電子光学機器を提供する。
【解決手段】 方向入力装置であるトラックボール１５を介して入力される信号に応じた入力情報に基づいて、被駆動部（モータ）３１ａ，３２ａの動作を制御する際に、ＣＰＵ１１は、入力情報の履歴（入力情報履歴）と被駆動部３１ａ，３２ａの動作情報の履歴（動作情報履歴）とをメモリ１４に記録し、所定の入力情報履歴及び動作情報履歴と、直前に入力された信号による入力情報（直前入力情報）とに基づいて被駆動部３１ａ，３２ａの動作方向を決定する。 （もっと読む）

【課題】
荷電粒子線装置において、試料上の所定領域の画像を得るため、複数フレームの積算を行なう際、一次荷電粒子ビーム照射による試料表面の帯電の影響を防止する。
【解決手段】
試料ウェハ７８上の所定領域に対して、電子銃７０からの一次電子ビームを走査し、発生した二次電子を検出器６３で検出しながら、複数のフレームを生成して積算し、所定領域の画像を得る。この複数のフレームを生成する際、検出器６３の検出信号により所定領域の帯電量が規定値になったと判断される場合、次のフレームを生成するに先立ち、ブースティング電極７７に除電用電圧を印加することにより除電、帯電緩和を行なう。これにより、フレーム各々を生成する際に、帯電の影響を緩和することができ、複数のフレームを積算して得られる画像のＳ／Ｎ向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム装置における倍率校正を精度良く行うために校正位置の特定が容易な校正用標準部材及びそれを用いた電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】装置校正用標準部材の超格子パターン近傍に、校正位置を特定するためのマークもしくは標識を形成することで、校正位置の特定が可能な高精度測長校正が実現できる。異なる材料４、５が交互に積層された積層構造の超格子パターンの断面を有する基板１に、電子ビーム装置から放出される一次電子ビーム１１を照射して検出される二次荷電粒子の信号をもとに前記電子ビーム装置の倍率校正を行う校正用標準部材において、前記基板は、前記積層に並行した基板面上にあって前記超格子パターン断面に対して交差する方向に一定の間隔で配列された線状パターン３を有し、該線状パターン３の断面は前記超格子断面と略同一の平面内にあるよう構成して、前記線状パターンにより前記超格子パターンの位置を特定する。 （もっと読む）

【課題】 絶縁体試料の帯電処理を効率化する。かつ当該絶縁体試料の接触抵抗値にあわせて、電子光学系の調整を行う。
【解決手段】 帯電処理の前に試料の絶縁破壊を行い、帯電処理を実施する。また、絶縁破壊確認のための試料の抵抗値の結果を用いて、電子光学系の制御パラメータを選択する。 （もっと読む）

【課題】スピン偏極走査電子顕微鏡において、２次電子収集効率やスピン偏極度を維持しながら、試料に１ｋＯｅレベル以上の高磁場を印加しながら測定できる装置を提供する。
【解決手段】電子銃から出射される１次電子線を磁性体試料２０２に照射する照射光学系と、試料を載置する試料載置手段と、１次電子線の照射により試料から放出される２次電子を搬送する搬送光学系と、搬送された２次電子のスピン偏極度を信号として検出するスピン検出器とを有し、スピン偏極度にかかる信号をもとに試料の磁区像を観察するスピン偏極走査電子顕微鏡において、試料載置手段は、試料に磁界を印加する磁場印加機構２０３、２０６、２０７を有し、該磁場印加機構は、１次電子線および２次電子２１０が通過する開口部を備えた磁気シールド部材２０３を有し、該磁気シールド部材を試料の電子銃側表面に配置して、試料面上の浮遊磁界を封じるようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）