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Fターム[5C001AA08]の内容

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Fターム[5C001AA08]に分類される特許

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【課題】キャリヤ及び間隔が隔てられた少なくとも三つのクランプ手段を含む移動プラットホームを提供する。
【解決手段】クランプ手段の各々は、キャリヤを、接触点のところで、及びキャリヤの少なくとも一つのグローブ状接触面のところでクランプし、少なくとも一つのクランプ手段には、キャリヤを少なくとも二つの仮想軸線を中心として回転できるように、接触点を、少なくとも夫々の接触面及び/又は少なくとも夫々のクランプ手段に対して変位するための少なくとも一つの変位エレメントが設けられており、クランプ手段によってキャリヤに加えられる法線力は、ほぼ平行な平面内にあり、これらの平行な平面は、夫々の接触点でのグローブ状表面の接線方向平面に対してほぼ垂直である。 (もっと読む)


【課題】
半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からTEM観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。
【解決手段】
同一検査装置内に、ウエハ検査用の走査型電子顕微鏡部(SEM部)1と試料作製加工用のイオンビーム部101とを併設し、SEM部1によるウエハ7の外観検査と、この検査結果に基づいての、ウエハ7上の欠陥(異物やパターン欠陥)の存在部位からのTEM観察や各種分析のための試料の摘出加工作業とを、同一ステージ8上で一貫して行なえるようにした。 (もっと読む)


【課題】 微細構造を持つデバイスの局所的な電気特性を測定し、不良を検出する。
【解決手段】 走査型電子顕微鏡で観察しながら、探針移動制御回路18による制御で、
探針移動機構14、15、16、17により、鋭利な先端を有する複数の探針1、2、3
、4を、それぞれ試料電極5、6、7、8に接触電流が飽和するまで接近させ、確実に接
触させる。測定に用いるすべての探針の接触が完了したら、電気特性測定回路19により
探針間の電流電圧特性を測定し、素子の局所的電気特性を得る。
【効果】 素子の局所的位置を直接探針であたることができるため、不良位置同定が容易
となる。 (もっと読む)


【課題】 走査電子顕微鏡で非導電性試料を観察する時、試料と対物レンズの間の散乱浮遊電子を除去し試料の帯電を防止する。
【解決手段】 試料と対物レンズの間に、電子線が通過する貫通穴を有する導電性板材23と導電性板材23と絶縁された電極21a、21bで構成される散乱浮遊電子排出機構を設ける。電極21aに負電圧、電極21bに正電圧を印加すると、電子線EBの光軸と垂直に生じた電界により、浮遊電子は排出電子軌道DEで示すように試料から離れた場所に排出され、試料表面の帯電が防止される。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子ビーム走査手段を備えた複数種類の真空チャンバ装置に対応した静電潜像形成装置、静電潜像測定装置を提供し、静電潜像のビームプロファイルの定量化および再現性を評価可能とする。
【解決手段】複数種類の真空チャンバ装置に対応する、一個の共通真空ステージ取り付け部54を設け、共通真空ステージ取り付け部54の一方面にステージ移動手段を設け、反対面に真空装置取り付け中間部材52を当接させ、複数種類の真空チャンバ装置に取り付け可能とした。複数種類の真空チャンバ装置に対応する真空チャンバ装置取り付け中間部材52の一方面は共通真空ステージ取り付け部54と当接し、他方の面には駆動手段64および構造体70が配置され、共通真空ステージ取り付け部54よりも外形が大きく、真空チャンバ装置取り付け基準面が略同一となるように、2重構造となっている。 (もっと読む)


【課題】 試料上での微少領域を荷電粒子ビームで走査する際に、荷電粒子ビームの走査幅の校正を正確に行うこと。
【解決手段】 試料室内に配置された試料15上に荷電粒子ビーム1を走査し、これにより試料表面のビーム走査像を取得するとともに、試料室内に設けられたプロービング機構23のプローブ7を試料15上で走査し、これにより試料表面のプローブ走査像を取得する顕微装置における荷電粒子ビームの走査幅校正方法において、プローブ7の走査移動量をビーム走査像に基づいて検出し、また当該プローブの走査移動量をプローブ走査像に基づいて検出し、検出された双方の走査移動量を比較し、その比較結果に基づいて荷電粒子ビームの走査幅の校正を行う。 (もっと読む)


【課題】ミラー電子を使った電子線式検査装置においては、ウェハ上で予備帯電された領域の境界が像となって現れてしまい、正しい検査ができなかった。また、予備帯電は検査と同時に行われるため、照射時間を長くする必要がある場合、ステージの移動速度を遅くせざるを得ず、検査速度が遅くなってしまっていた。
【解決手段】予備照射のビーム源とウェハとの間に、そのサイズが可変な開口を設け、その大きさの一辺をウェハのチップ列の幅と等しくなるように設定し、かつ、チップ列と垂直方向へのウェハの動きに合わせて、開口も移動するように制御する。また、ステージの移動速度を遅くすること無く、ウェハの検査時のステージ移動途中に十分なビーム照射ができるように、その開口をチップ列と平行な方向に大きくするよう設定できるようにした。 (もっと読む)


高精度、高信頼性及び高スループットで試料上のパターンの欠陥を検査することができる装置及び該装置を用いた半導体製造方法が提供される。電子ビーム装置は、一次電子ビームを試料に照射し、試料から放出された反射電子の画像を検出器に形成することにより、試料の表面を観察し又は評価するための写像投影型電子ビーム装置である。電子衝撃型CCD又は電子衝撃型TDIのような電子衝撃型検出器を、反射電子を検出するための検出器として用いる。反射電子は、試料から放出される二次電子と反射電子とのエネルギ差から選択的に検出される。一次電子ビームの照射によって試料表面に生じるチャージアップを除去するため、試料の表面は試料上に配置されたカバーで覆われ、カバーで覆われた試料上の空間にガスが供給される。ガスは試料表面と接触し、試料表面上のチャージアップを低減する。
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【課題】 観察装置及び加工装置の少なくともいずれかにおいて、簡素化された移動機構によって作業効率を低下させないことを目的とする。
【解決手段】 試料6を保持する試料ステージ7を備える複合装置において、試料ステージ7を、観察装置の観察位置又は加工装置の加工位置の近傍に移動する試料ステージ移動手段と、試料ステージ7上で、試料6を観察位置又は加工位置に移動する試料移動手段と、試料ステージ7が移動しているときでも、試料6と試料ステージ7の相対位置関係を保持する手段と、を備える。また、試料ステージ7が停止した際に位置を観察位置又は加工位置に調整する手段をさらに備える。 (もっと読む)


【課題】 同一寸法校正パターンへの位置決めを可能にする。
【解決手段】 不連続な格子状の寸法校正パターン26とその近傍に特定の位置決め用アライメントパターンを形成する。 (もっと読む)


荷電粒子により試料を調査及び/又は改変する装置、特には走査電子顕微鏡が提供される。この装置は、荷電粒子のビーム(1,2)と、該荷電粒子のビームが通過する開口(30)を持つ遮蔽エレメント(10)とを有し、該開口(30)は充分に小さく、上記遮蔽エレメント(10)は上記試料の表面(20)に対して十分に接近して配置されて、上記荷電粒子のビームに対する該表面における電荷蓄積効果の影響を減少させる。 (もっと読む)


イオンビーム中を通過してワークピースをスキャンするための往復駆動システム及び装置が提供される。第1軸回りに個々に回転可能なロータとステータを含むモータは、イオンビームに対してワークピースを往復移動するように作動可能である。ロータにより回転駆動されるシャフトは、第1軸に沿って伸び、スキャンアームは、このシャフトに連結され、そして、ワークピースを支持するように作動可能である。モータによるシャフトの周期的な逆回転によりスキャンアームを回転させて、第1スキャン経路に沿ってイオンビーム中を通過するワークピースをスキャンさせる。ステータは、ロータの回転に対して反動質量として作用する。コントローラは、さらに、ロータとステータ間の電磁気力を制御するように作動し、ロータとステータの回転位置を決定する。
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【課題】試料ホルダーをいったん鏡筒から取り外した後、再び鏡筒内に戻して観察画像に位置ずれが生じた場合でも、試料ホルダーを鏡筒から取り外す前に記憶させておいた試料の観察条件(座標、傾斜角、軌跡、観察画像など)をそのまま有効に活用することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】試料ステージの移動距離を相対的にカウントするカウンターと、該カウンターのカウント値を試料の位置ずれに応じて補正する補正手段とを備えた。 (もっと読む)


【課題】 ターゲットへ高電圧を印加する為の高電圧ケーブルの損傷及びターゲット移動精度の低下を防ぐ。
【解決手段】 長手方向に沿って凸部が形成されている一方のX軸レール24Aはステージベース21上に固定され、長手方向に沿って凹溝が形成されている他方のレール24BはX方向ステージ22に固定され、レール24Aの凸部がレール24Bの凹溝にはめ込まれ、X方向ステージ22の移動によりレール24Aがレール24Bに対して摺動可能に成してある。長手方向に沿って凸部が形成されている一方のYレール25AはX方向ステージ22上に固定され、長手方向に沿って凹溝が形成されている他方のレール25BはY方向ステージ23に固定され、レール25Aの凸部がレール25Bの凹溝にはめ込まれ、Y方向ステージ23の移動によりレール25Aがレール25Bに対して摺動可能に成してある。 (もっと読む)


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