【課題】
本発明は、静電チャックのクリーニングを容易にし、また静電チャック汚染による不稼働時間を低減可能な走査電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために、電子ビームによる測定，観察を行うために予備排気室を経由して、試料を導入する電子顕微鏡において、前記予備排気室とは異なる静電チャックの交換室と、当該交換室を真空排気するための真空ポンプを備えた電子顕微鏡を提案する。このような構成によれば、静電チャックのために試料室を大気に戻す必要がなく、且つ静電チャックの清浄化を効果的に行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】サイドエントリー方式の試料ステージを有する荷電粒子線装置において、試料ステージの光軸方向の可動範囲以外のフォーカス位置にて、寸法校正ができる手段を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子線装置のサイドエントリー方式の試料ステージの試料ホルダーには、寸法校正用試料用の試料台が装着される。寸法校正用試料用の試料台は、試料ホルダーの凹部に係合するホルダー装着部と、寸法校正用試を保持する試料貼付部と、ホルダー装着部に対して寸法校正用試料の位置を光軸方向に沿って相対的に移動させるための位置調整機構と、を有する。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡において、試料と対物レンズや検出器とのの接触を防止する。
【解決手段】試料３のダミー９と対物レンズ１１のダミー８を設け、試料３が対物レンズ１１に接触する前に、試料のダミーと対物レンズのダミーが先に接触するようにし、試料の移動を制限する。 （もっと読む）

【課題】
半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からＴＥＭ観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。
【解決手段】
同一検査装置内に、ウエハ検査用の走査型電子顕微鏡部（ＳＥＭ部）１と試料作製加工用のイオンビーム部１０１とを併設し、ＳＥＭ部１によるウエハ７の外観検査と、この検査結果に基づいての、ウエハ７上の欠陥（異物やパターン欠陥）の存在部位からのＴＥＭ観察や各種分析のための試料の摘出加工作業とを、同一ステージ８上で一貫して行なえるようにした。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハやデバイスチップから所望の特定領域を含む試料片のみをサンプリング（摘出）して、分析／計測装置の試料ステ−ジに、経験や熟練や時間のかかる手作業の試料作り工程を経ることなく、マウント（搭載）する試料作製方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】FIB加工と、摘出試料の移送、さらには摘出試料の試料ホルダへの固定技術を用いる。
【効果】分析や計測用の試料作製に経験や熟練技能工程を排除し、サンプリング箇所の決定から各種装置への装填までの時間が短縮でき、総合的に分析や計測の効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハから取り出された試料を薄くするプロセスを自動化する。
【解決手段】試料キャリアは、外側境界(6)を有する隆線形状部(5)及び外側境界を超えて延びる支持膜(4)を有する。その隆線形状部(5)はCuで作製され、その支持膜(4)は炭素で作製される。試料を支持膜上に設け、位置合わせをして、その試料は、IBIDを用いて剛性構造体に取り付けられる。試料を剛性構造体に取り付けた後、イオンビームを用いてその試料を薄くする。試料を薄くする間、支持膜も同様に局所的に除去される。本発明は、試料と試料キャリアとの良好な位置合わせを実現する。また本発明は、たとえば帯電したガラス針(2)による、ウエハから試料キャリアへの試料の移動に係る自由度を増大させる。その自由度の増大により、試料を試料キャリアへ移動させるのに通常必要となる取り付け/切断工程が不要となる。 （もっと読む）

本発明は、高圧荷電粒子ビーム・システム内でサンプルを処理する、すなわちサンプルを改変し、画像化する方法および装置を含む。本発明の実施形態は、高圧荷電粒子ビーム処理の間、サンプルがその中に配置される小室を含む。この小室は、処理に必要なガスの量を減らし、それにより迅速な導入、排気、ガス間の切替えおよび処理モードと画像化モードとの間の切替えを可能にする。小室内に処理ガスを保持することは、サンプルチャンバおよびカラムがガスと接触することを防ぐ。いくつかの実施形態では、小室壁およびサンプルの温度を制御することができる。
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【課題】湿潤サンプルの電子顕微鏡検査を可能にすることになる、走査型電子顕微鏡と共に使用するように適合されたチャンバを提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡と共に使用するのに適したチャンバ（３４）。チャンバは、膜（３６）で密封された少なくとも１つのアパーチャを含む。膜（３６）は真空に耐えるように適合され、電子に対する透過性をもち、チャンバ（３４）の内部は、前記真空から隔離されている。チャンバは、生きた細胞を内含する湿潤サンプル（３２）を電子顕微鏡の下で検分できるようにするために有用である。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを照射する走査電子顕微鏡を用いて試料を検査する試料検査装置を提供する。
【解決手段】走査電子顕微鏡から照射される電子ビームによって試料に発生する電荷を捕集する電荷捕集部を備えることによって、試料検査へのコストを低減し、かつ、高品質の映像を提供する。 （もっと読む）

【課題】チャンバの内部空間で装置を保持するベースの変形量を抑制する。
【解決手段】真空チャンバ１１の内部空間１０Ａ,１０Ｂを真空引きすることによって、ベース１５を変形させるような力が作用する場合に、内部空間１０Ｂと外部空間との圧力の差分を補正機構５０を介してベース１５の変形を打ち消すように作用させる。これにより、ベース１５の中央部近傍の変形を抑制し、ベース１５の平面度を良好に維持することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】反応性ガスによる汚れを効率良く除去することができる荷電ビーム装置、及びそのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】試料４が載置され適宜移動可能な試料ホルダー３上に、試料４上の荷電ビーム照射部分に反応性ガス１８を供給するガス銃１１を挿入するためのガス供給部挿入口１７、及び荷電ビーム６を導入するための荷電ビーム導入口１６を有するクリーニング室８を設け、ガスノズル１２に付着した付着物１４を除去する。 （もっと読む）

基板のイオン注入用のメカニカルスキャナであって、該メカニカルスキャナは、該基板を保持するための可動プラットフォームを具備する六脚を備えており、該六脚は、所定の経路に沿ってイオンビームに対して該可動プラットフォームが横断されるようにする６つの自由度を有するように配列されている。 （もっと読む）

本発明は、注入を行うべき半導体ウエハ又は他の基板の多方向機械的走査のための走査アームアセンブリに係る。本発明は、四辺形を形成するように２つのリンクアームにより接続された１対の駆動アームを備える走査アームアセンブリを提供する。隣接アームを一緒に接合するため回転接合部が設けられ、一方のリンクアームに、それが他方のリンクアームと接合するところで、基板ホルダーが設けられる。従って、それら駆動アームを回転することにより、基板ホルダーが移動させられる。それら駆動アームを適当に制御することにより、基板ホルダーがイオンビームを通して移動させられ、多くの異なるパス、ひいては、注入パターンを辿るようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】炭化水素系ガスと確実に化学反応を起こし、除去効率が高く、不揮発性潤滑材が真空装置の内部に残存していた場合にも、活性酸素ガス等に比べて、効率よく除去することができるとともに真空装置内部にある部材に対するダメージが比較的少ないガスを用いることでコンタネーションを除去する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置が、試料室（真空装置）と、真空ポンプ（ＴＭＰ）と、フッ素化合物系ガスであるＸｅＦ_２を導入するガス導入装置と、切替バルブと、大気開放用バルブと、流量調整部と、真空ゲージを有し、試料室内の残留した炭化水素系ガス等によるコンタネーションを除去するため、切替バルブを操作して、不活性ガスと一緒に、フッ素化合物系ガス（ＸｅＦ_２）を試料室内に導入する。流量調整部でフッ素化合物系ガス（ＸｅＦ_２）の流量を調整し、略一定の大気圧状態に維持する。真空度の測定値に応じて流量調整部を調整して、略一定の真空度に保つ。 （もっと読む）

【課題】
走査電子顕微鏡の分解能をモニタする場合，計測する分解能指標値のパターン依存性を低減できるようなサンプルの準備と計測アルゴリズムの採用が，電子ビームサイズの変化を高精度に計測するために必要である。
【解決手段】
本発明では，分解能モニタに適した断面形状のパターンを有するサンプルを提供する。分解能モニタに適した形状とは，具体的には，照射された一次電子ビームがパターンの側壁に当たることのない程度に，側壁が傾斜している断面形状のことである。これにより，パターンの断面形状に依存しない分解能モニタを実現した。 （もっと読む）

【課題】試料表面の電位を一定にして精度よく試料を測定することのできる電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法を提供すること。
【解決手段】電子ビーム寸法測定装置は、電子ビームを試料の表面に照射する電子ビーム照射手段と、試料７を載置するステージ５と、試料７と対向して配置する光電子生成電極５２と、紫外光を照射する紫外光照射手段５３と、紫外光照射手段５３に紫外光を所定の時間照射させて試料７及び光電子生成電極５２から光電子を放出させ、光電子生成電極５２に試料７が放出する光電子のエネルギーと光電子生成電極５２が放出する光電子のエネルギーとの差に相当するエネルギーを供給する電圧を印加して、試料７の表面電位を０［Ｖ］にする制御手段２０とを有する。前記制御手段２０は、試料７の表面の電位を一定にした後、試料７の寸法測定を行う。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で試料の断面を広範囲に観察することができる試料観察方法及び試料観察装置を提供する。
【解決手段】微細パターンが形成されたウエハである平板状の試料Ｓに対して、グロー放電によって表面から深さ方向に掘削し、試料Ｓの表面から深さ方向に掘削断面を形成する。形成した掘削断面に電子線を照射し、ＳＥＭによって試料Ｓの掘削断面の観察を行う。グロー放電によって、試料Ｓの特定の位置に掘削断面を形成することができ、また試料Ｓの表面を広範囲に短時間で掘削することができる。従って、ウエハに形成された微細パターンの欠損の検査を、簡便に短時間で広範囲に実行することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム照射表面改質装置において、作業効率を向上させる。
【解決手段】電子ビーム照射表面改質装置１が、電子ビーム発生室２５と、電子ビーム発生室２５を形成し出射口１３ａを有する電子ビームハウジング１０と、加工室３１を形成し入射口３０ａを有する加工ハウジング３０とを備える。電子ビームハウジング１０と加工ハウジング３０とが分離して構成され、電子ビーム発生室２５と加工室３１とが出射口１３ａと入射口３０ａとを介して連通し密閉空間が形成されるように加工ハウジング３０を電子ビームハウジング１０に連結させ、かつ、加工ハウジング３０を電子ビームハウジング１０から離脱させるべく、加工ハウジング３０及び電子ビームハウジング１０の双方に設けられた平行に対向する連結面１０ａ、３０ｄを接近させ、又は、離脱するように、電子ビームハウジング１０及び／又は加工ハウジング３０を移動させる連結離脱手段５０を備える。 （もっと読む）

【課題】 試料中の構成物を選択して効率的に試料検査を行うことができるとともに、当該試料検査を良好に行うことのできる試料保持体、試料検査方法及び試料検査装置並びに試料検査システムを提供する。
【解決手段】 電子線が透過する膜１１と該膜に対向するベース１２との間に設けられた試料保持空間５５と、該試料保持空間５５に試料を供給するための供給路５４とを有する試料保持体において、該供給路５４及び該試料保持空間５５のうちの少なくとも一方に試料中の構成物を分別するフィルター構造を備える。また、電子線が透過する対向配置された２つの膜の間に設けられた試料保持空間と、該試料保持空間に試料を供給するための供給路とを有する試料保持体において、該供給路及び該試料保持空間のうちの少なくとも一方に試料中の構成物を分別するフィルター構造を備える。 （もっと読む）

【課題】 ステージ移動機構の動作異常を検出する。
【解決手段】 電子銃１からのビームが照射される試料４を載置したステージ６、ステージ６を移動させるステージ移動機構、高さ検出器２１、ステージ駆動装置１０によりステージ６を移動させた時に高さ検出器２１が検出した試料表面の異なった箇所の高さ間の差分を算出する差分算出回路３３、基準値設定器３４からの基準値と差分算出回路３３からの各差分を順次比較し、基準値を越えた時にステージ移動機構の動作異常信号を発生する比較回路３５を備えた。 （もっと読む）