【課題】電子ビーム検査装置において、観察試料の汚染に起因した、形状観察、寸法精度等の観察分解能の低下を防止する。
【解決手段】試料室に置かれた試料に電子銃室の電子銃から電子線を照射し、試料から発生する二次電子および反射電子を検出する電子ビーム検査装置において、試料交換室に酸素の活性種を生成する手段を設け、試料の特定箇所を選択的に酸素の活性種に暴露し、観察試料に残留しているハイドロカーボン系ガスを低減し、その後、試料室に観察試料を導入することによって、汚染影響による観察分解能の低下が少ない形状観察や寸法測定が可能となる。 （もっと読む）

【課題】試料全体にわたりチャージアップのない状態で試料表面の観察及び評価を可能にした荷電粒子線装置及び該装置を使用した半導体デバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】 荷電粒子線装置は、一次荷電粒子線を試料１９に向けて照射する手段１、２、３と、一次荷電粒子線の試料１９へ向けた照射によって試料１９の表面の情報を得た二次荷電粒子線を検出器Ｄへ導く手段と、検出器Ｄに導かれた二次荷電粒子線を画像として合成する手段と１４を備える。この荷電粒子線装置は、試料１９の表面の帯電電荷量を計測する計測手段２４と、計測手段２４によって計測された帯電電荷量に基づいて、試料１９の表面における帯電電荷量を低減又は消滅させる帯電解消手段６、１７とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料作製方法及びシステムに関し、集束イオンビーム装置と走査電子顕微鏡を利用することによる、ＦＩＢ装置の時間効率を改善することを目的としている。
【解決手段】集束イオンビーム装置１０内にイオンビーム照射により薄膜試料を作製する加工手段を設け、走査電子顕微鏡２０内には前記試料を前記集束イオンビーム装置１０から試料ホルダ１２ごと移し替えたものに、ガスを噴射させるガス供給手段２２と、プローブ２４を有するマニピュレータ２３とを設け、前記プローブ２４を試料に接触させた状態で前記ガス供給手段２２よりガスを噴射させつつ、試料に電子ビームを照射することにより、前記プローブ２４に試料を接着させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】 ２軸傾斜可能で、部品同士のカジリ等による動作不良が無く、試料位置再現性の高い隔膜型ガス雰囲気試料ホルダを提供する。
【解決手段】 隔膜型ガス雰囲気試料室１２０を有するシーリングブロック１０９は、Ｙ軸上に同軸に構成された一対のＹ回転軸３６と軸受け４４により支えられている。ガスの流路となるガス供給側管１８、 ガス排出側管１９、軸受け収納孔３９および隔膜型ガス雰囲気試料室１２０内部は、ゴムＯリング４０によって真空との気密を保持される。従って、シーリングブロック１０９は、Ｙ軸を中心にして真空との気密を保ったまま傾斜動作することができる。 （もっと読む）

【課題】ライトギャップの測定精度を向上させる薄膜磁気ヘッドのライトギャップ測定方法を得る。
【解決手段】薄膜磁気ヘッドの媒体対向面となる位置にイオンビームを照射してウエハを一部切断し、該切断面を測定対象面とする。次に、測定対象面にカーボンガスを供給しつつイオンビームを照射することにより、測定対象面にカーボンを付着させ、グレインの見えないＳＩＭ像を得る。このグレインの見えないＳＩＭ像を用いて所定の演算を行い、薄膜磁気ヘッドのライトギャップを算出する。 （もっと読む）

【課題】観察領域における温度上昇及び／又は気体及び／又は液体のようなある物理的又は化学的な状態に暴露された環境セルの試料の撮像を実現する。
【解決手段】電子顕微鏡支持構造体ならびにその製造及び使用方法。支持構造体は、半導体材料及び半導体製造プロセスを使用して一般に構成される。支持構造体の温度を制御することが可能であり、及び／又は気体又は液体を反応及び／又は撮像用の観察領域に閉じ込めることが可能である。 （もっと読む）

本発明は、高圧荷電粒子ビーム・システム内でサンプルを処理する、すなわちサンプルを改変し、画像化する方法および装置を含む。本発明の実施形態は、高圧荷電粒子ビーム処理の間、サンプルがその中に配置される小室を含む。この小室は、処理に必要なガスの量を減らし、それにより迅速な導入、排気、ガス間の切替えおよび処理モードと画像化モードとの間の切替えを可能にする。小室内に処理ガスを保持することは、サンプルチャンバおよびカラムがガスと接触することを防ぐ。いくつかの実施形態では、小室壁およびサンプルの温度を制御することができる。
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【課題】湿潤サンプルの電子顕微鏡検査を可能にすることになる、走査型電子顕微鏡と共に使用するように適合されたチャンバを提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡と共に使用するのに適したチャンバ（３４）。チャンバは、膜（３６）で密封された少なくとも１つのアパーチャを含む。膜（３６）は真空に耐えるように適合され、電子に対する透過性をもち、チャンバ（３４）の内部は、前記真空から隔離されている。チャンバは、生きた細胞を内含する湿潤サンプル（３２）を電子顕微鏡の下で検分できるようにするために有用である。 （もっと読む）

【課題】 膜に保持された試料に一次線として電子線等の荷電粒子線を、該膜を介して試料に照射し、これによって試料検査を行う際に、該膜に保持された試料に刺激を与えることのできる試料検査装置、試料検査方法、及び試料検査システムを提供する。
【解決手段】 本発明における試料検査装置は、膜３２を介して試料２０に一次線７を照射する一次線照射手段１と、一次線７の照射に応じて試料２０から発生する二次的信号を検出する信号検出手段４とを備え、２０試料に接近又は接触可能な先端部を具備するマニピュレータ２６と、試料２０の光学像を取得する光学像取得手段２７と、一次線照射手段１、信号検出手段４、マニピュレータ２６及び光学像取得手段２７の各動作を制御する制御手段２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置を用いて、ガス雰囲気下における試料を観察する方法として、微量のガスを使い、例えば試料を加熱して反応中の変化を観察しようとすると、ガスの流れる方向によって試料ドリフトや振動の影響を受け、原子レベルでの観察が不可能であるという問題があった。また、大気中に暴露せずにかつ、試料の付け替え無しに試料を搬送する場合、真空装置を備えた大掛かりな装置が必要であった。
本発明の目的は、従来法では観察が困難であった試料のガス雰囲気での状態観察を原子レベルで観察可能な荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料保持装置を提供することにある。
【解決手段】観察する試料に局所的にガスを噴射する機構を備えた荷電粒子線装置および荷電粒子線装置用試料保持装置において、観察する試料に近接し、試料に対し対向した微小ガス噴出部を設けたことにより達成される。 （もっと読む）

【課題】炭化水素系ガスと確実に化学反応を起こし、除去効率が高く、不揮発性潤滑材が真空装置の内部に残存していた場合にも、活性酸素ガス等に比べて、効率よく除去することができるとともに真空装置内部にある部材に対するダメージが比較的少ないガスを用いることでコンタネーションを除去する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置が、試料室（真空装置）と、真空ポンプ（ＴＭＰ）と、フッ素化合物系ガスであるＸｅＦ_２を導入するガス導入装置と、切替バルブと、大気開放用バルブと、流量調整部と、真空ゲージを有し、試料室内の残留した炭化水素系ガス等によるコンタネーションを除去するため、切替バルブを操作して、不活性ガスと一緒に、フッ素化合物系ガス（ＸｅＦ_２）を試料室内に導入する。流量調整部でフッ素化合物系ガス（ＸｅＦ_２）の流量を調整し、略一定の大気圧状態に維持する。真空度の測定値に応じて流量調整部を調整して、略一定の真空度に保つ。 （もっと読む）

【課題】試料中の沈殿物等の検査対象物に到達するまでの入射電子線及び沈殿物から発生した反射電子等の散乱を極力少なくすることにより、該検査対象物の検査を好適に行う。
【解決手段】本発明における試料保持体は、試料が保持される試料保持空間４９の壁の少なくとも一部が電子線１により透過される膜４４によって構成されているおり、試料保持空間内４９に電場を形成するためのアルミニウム層４３，アルミニウム電極４６が設けられている。アルミニウム層４３，アルミニウム電極４６間に電圧を印加することにより試料保持空間４９内に電場が形成される。形成された電場によって、試料中の検査対象物７３が移動し、膜４４に接する。これにより、膜４４を介して電子線１を試料に照射した際に、電子線１が検査対象物７３に到達するまでに生じる散乱を最小限にすることができ、良好なＳＥＭ像を取得することができる。 （もっと読む）

【課題】細菌の共凝集能を客観的且つ容易に評価することができる細菌の共凝集能の評価方法を提供すること。
【解決手段】本発明の細菌の共凝集能の評価方法は、評価対象となる二種以上の細菌を含む液中観察用カプセル１１に外力を加え、外力を加える前と加えた後の前記細菌の共凝集状態を走査型電子顕微鏡により観察し、その観察結果に基づいて前記細菌の共凝集能を評価する。前記走査型電子顕微鏡内で前記液中観察用カプセルに外力を加えることが好ましく、前記液中観察用カプセルを振動させて外力を加えることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】絶縁材料製試料の種類等に応じて完全な中和が出来るようにした荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】走査電子顕微鏡に備えられた除電機構は、ガスボンベに繋がったガス流量調整弁１８、開閉弁１７、コロナ放電器１９、ガス導入管１５及びメモリ２０を備える。ガス流量調整弁１８は、回転羽１８Ｄを取り付けた回転軸１８Ｅがその中心軸方向に設けられた円筒体１８Ａと、回転軸１８Ｅに対して円筒体１８Ａ壁の対向する位置に開けられた一方の孔に繋がった接続管１８Ｂと、他方の孔に繋がった接続管１８Ｃから成る。メモリ２０は、絶縁材料製試料の種類及び観察条件によって変わる試料表面の帯電状況に応じた導入ガス量に関するデータが格納されている （もっと読む）

【課題】
絶縁物を含む試料表面での帯電を抑制するための経験や熟練技能工程を排除した、信頼性の高い帯電制御技術を提供し、総合的に分析や試料作製効率の良い荷電粒子線装置を提供する
【解決手段】
荷電粒子源（１）と、前記荷電粒子源から放出される荷電粒子線（１１）を集束し偏向せしめるための荷電粒子光学系（５、６）と、荷電粒子線を試料（８）に照射して試料からの２次粒子を検出するための検出器（９）と、試料を搭載する試料台（７）とを備えた荷電粒子線装置において、試料台の表面に対して移動可能に設けた中和用電極（２０）と、中和用電極に印加する電圧および移動を制御する中和用電極制御装置（１０）とを有し、荷電粒子線を照射して帯電した試料上の照射領域と中和用電極との間で電荷交換または電流を発生せしめて、帯電を中和制御するよう構成する。 （もっと読む）

【課題】 外気に開放された常圧雰囲気に配置された試料に、電子線等の荷電粒子線を照射して試料検査を行うことにより、試料検査における試料交換を迅速に行う。
【解決手段】 試料保持膜１２の常圧雰囲気に接する第１の面に配置された試料１１に、試料保持膜１２の減圧雰囲気に接する第２の面側から該膜１２を介して試料１１に電子線６を照射し、当該照射により試料１１から発生する二次的信号を検出して試料１１の情報を取得する。真空室７外の常圧雰囲気にて試料の交換ができるので、試料交換を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】試料の帯電及び／又は汚染を軽減した荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム３１を供給するための粒子供給源１３、１４、１６と、荷電粒子ビームを試料上に指向するための光学装置１８、２０、２２、２４、２６、２７と、試料の帯電及び／又は汚染を軽減するためのオゾンユニットを含む。オゾンユニットはオゾン供給源３４、３５、３６と、オゾンガス流を試料２８に指向するための試料ノズルユニット３８を含む。更に、粒子供給源と、光学装置と、検出装置３０と、検出装置の帯電及び／又は汚染を軽減するためのガスユニットを含む。ガスユニットはガス供給源３４、３５、３７と、ガス流を検出装置に指向するための検出装置ノズルユニット４０を含む。更に、本発明は本発明による荷電粒子ビーム装置の操作方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】筋引きの少ない良好な観察用断面を作製することができるとともに、スループットを向上させることが可能な集束イオンビーム装置、及び、良好な観察用断面を作製して、正確な観察像を得ることができる試料の断面加工・観察方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置１は、試料Ｓを載置する試料台２と、試料台２を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージ３と、試料Ｓに対して集束イオンビームＩ１、Ｉ２を照射する第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２とを備え、第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２は、互いの集束イオンビームＩ１、Ｉ２の照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されている （もっと読む）

【課題】走査フレームサイクル間でラスタ走査領域を調整することによって、画像標本上の電子露光を制御するためのシステムおよび方法
【解決手段】小さいズームイン走査領域および周囲領域は、走査フレーム間で複数回のフレームサイクルの間に正の電荷でフラッドされることによって走査領域と周囲領域との間の電圧差分を減少させ、それによって走査された画像中の小さい特徴を不明確にする傾向にある正の電荷蓄積を減少させる。標本上の画素エレメントへのピーク電流は、通例の映像と比較すると非常に短いライン時間でビームを走査するによって低減される。画像データのフレームは、さらに、任意のプログラム可能パターンで非逐次的に獲得され得る。あるいは、非活性ガスは、電子ビームが標本に当たる点で走査電子顕微鏡に注入されて、電子ビームによる不活性ガスのイオン化によって標本上の電荷蓄積を中和化し得る。 （もっと読む）

【課題】基板上に金属層を堆積させる方法および基板のトポグラフィカルフィーチャを３次元で測定するための方法の提供。
【解決手段】前駆体ガスは、直径約0.7mmのガス噴射システムの管状ノズル５０を用いてサンプル上方に導入される。約8×10¹⁷mol/cm²sのガス流が用いられる。図２に例示される実施形態においては、２つのノズル５０および６０が存在し、２種類の異なる前駆体ガス５５、６５が基板上方に導入される。対象となる領域を走査する走査電子顕微鏡の電子ビーム７０は、前駆体ガス５５、６５を活性化させるために用いられ、この結果、選択された領域４０の基板のトポグラフィカルフィーチャ上に金属層が堆積される。 （もっと読む）