【課題】高速かつ高精度なエッチングが可能な加工試料の加工装置および薄膜試料の生産方法の提供。
【解決手段】ホルダ５０と、イオン銃２０と、電子銃１０とを備える。ホルダ５０は、互いに略平行な表面および裏面を有すると共に、表面および裏面の距離として厚さが定義される加工試料を把持する。また、イオン銃２０は、アルゴンイオンを放出し、ホルダ５０に把持された加工試料の裏面に、アルゴンイオンを照射する。そして、電子銃１０は、電子を放出し、ホルダ５０に把持された加工試料の表面に電子を照射するように構成される。また、マイコン３０は、電流検出器４０が測定した透過電子の電流密度を基にして、イオン銃２０が放出するアルゴンイオンの電流密度を制御する。 （もっと読む）

【解決手段】試料を電子顕微鏡内で直接ｉｎ‐ｓｉｔｕ操作、実験、及び分析することを可能にする装置、取付け台、ステージ、インターフェース、及びシステム。 （もっと読む）

【課題】試料加工方法および装置において、集束イオンビームを用いて試料の加工を行う場合に、試料の加工精度を向上することができるようにする。
【解決手段】試料１に位置参照マークを形成し、集束イオンビームによって位置参照マークを走査して、試料１における位置参照マークの位置情報を取得し、この位置情報に基づいて集束イオンビームの試料１に対する照射位置を補正して、試料１の加工を行う試料加工方法であって、試料１上に、マーク部３、４を形成し、集束イオンビームによって、マーク部３、４のいずれかを走査して、マーク部３、４のいずれかの位置情報を取得し、マーク部３、４のいずれかの位置情報に基づいて、集束イオンビームの試料１に対する照射位置を補正して、試料１の加工を行う。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡における観察性及び操作性を向上させる。
【解決手段】本発明によると、電子顕微鏡は、試料を傾斜させる試料ステージと、試料の電子顕微鏡像を撮影するカメラと、試料の電子顕微鏡像を表示するモニタと、試料の傾斜角に基づいてボケがない領域を計算する領域手段と、を有し、上記モニタに上記ボケがない領域を表示する。更に、本発明によると、視野ずれの有無を判定する視野ずれ検出手段と、視野ずれを補正する視野ずれ補正手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡用の試料を分析する際に、分析装置内の構成部材に接触することを抑制でき、試料を適切な位置に配置しやすくすることができる試料ホルダーを提供すること。
【解決手段】メッシュ１０に固定された透過型電子顕微鏡用の試料１１を分析装置にて分析するために、その試料１１を保持する試料ホルダー１００であって、試料１１が固定されたメッシュ１０が配置されるベース２０と、ねじ４０にてベース２０に固定されることによって、ベース２０に配置されたメッシュ１０と部分的に接触してメッシュ１０をベース２０に押圧する押え板３０とを備えるものであり、試料１１が固定されたメッシュ１０を保持している状態において、ベース２０、押え板３０におけるメッシュ１０を押圧する部分（板主部３２）の上面以外の部分、ねじ４０は、押え板３０におけるメッシュ１０を押圧する部分（板主部３２）の上面より低い位置とするものである。 （もっと読む）

【課題】所望の位置に所望の孔径の孔部を有したマイクログリッドを容易に製造することのできる製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、電子顕微鏡による観察の際に試料支持用として用いられる、グリッドメッシュ１０と、グリッドメッシュ１０上に設けられた、孔部２１を有する薄膜２０と、を備えたマイクログリッド１の製造方法である。基板３０上の所定の位置に、所定の大きさの固形状の凸部を形成してマイクログリッド１のオス型１００を形成する工程と、オス型１００の凸部５０間に薄膜材料２０ａを配する工程と、薄膜材料２０ａを硬化させて、凸部５０に対応する位置に孔部２１を有した薄膜２０を形成する工程と、オス型１００から薄膜２０を剥離させる工程と、オス型１００から剥離した薄膜２０をグリッドメッシュ１０上に設ける工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】所望の位置に所望の孔径の孔部を有したマイクログリッドの製造方法を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡による観察の際に試料支持用として用いられる、グリッドメッシュ１０と、グリッドメッシュ上に設けられた、孔部を有する薄膜２０と、を備えたマイクログリッド１の製造方法である。液滴吐出法を用いて、基板３０に対して所定の位置に所定の吐出量の液体５０ａを吐出して、基板３０上に液体５０ａからなる液滴５０を配置する工程と、基板３０上に配置された液滴５０間に薄膜材料２０ａを配する工程と、薄膜材料２０ａおよび液滴５０を乾燥し、液滴５０を蒸発により除去してこれと対応する位置に孔部２１を有した薄膜２０を形成する工程と、基板３０から薄膜２０を剥離させる工程と、基板３０から剥離した薄膜２０をグリッドメッシュ１０上に設ける工程と、を有する。 （もっと読む）

集積支持フィーチャを有する試料支持構造体ならびに補強された膜を作製する方法およびそれを使用する方法。試料支持構造体は、電子顕微鏡法、光学顕微鏡法、Ｘ線顕微鏡法、ＵＶ−ＶＩＳ分光法および核磁気共鳴（ＮＭＲ）技術などの顕微鏡技術を使用する分析のための試料を支持するために有用である。
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【課題】 微小試料を把持するための機構では角度ズレ、先端形状に起因する試料の姿勢変化がある。
【解決手段】 把持体１８をＦＩＢなどの荷電粒子ビームで加工を施すことにより、ビームに対して平行な把持面を形成することができ、また把持面に付着したダストも除去する。荷電粒子ビーム照射される装置内でＴＥＭ試料に代表される微小試料を荷電粒子ビームによるエッチングで切り出すことで作製して運搬するとき、試料は荷電粒子ビーム照射方向にエッチングされるので把持体１８の把持面１９を試料の断面加工と同じ方向で加工することができるので、試料と把持面１９とを平行な面に作製することができ、試料を把持したときの試料の姿勢変化を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】 電子線ホログラムと透過電子顕微鏡像との位置ずれを防止することができる電子線ホログラム及び透過電子顕微鏡像の作製方法及び透過電子顕微鏡を実現する。
【解決手段】 制御装置１７により、電子線バイプリズム１５を、物体波側電極１５ａと参照波側電極１５ｂとを接地し、フィラメント１５ｃに正の電位Ｖ１を印加し、物体波Ｅ１と参照波Ｅ２とを干渉させる状態にすることにより、電子線ホログラムＨを形成することができる。また、物体波側電極１５ａを接地し、フィラメント１５ｃに正の電位Ｖ１を印加するとともに、参照波側電極１５ｂにフィラメント１５ｃに印加した電位Ｖ１よりも高い正の電位Ｖ２を印加し、参照波Ｅ２が物体波Ｅ１と重ならないようにする状態に切り替えることにより、電子線ホログラムＨから位置ずれすることなく、透過電子顕微鏡像Ｔを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】試料の観察表面が変形したり、ダメージを受けたりせず、真空チャンバ内を排気する排気装置の負荷が増大しない顕微鏡用試料作成装置を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバ１内の試料５にイオンビームを照射するイオン銃（イオン照射手段）７と、真空チャンバ１内の試料５を観察可能な光学顕微鏡（観察手段）１１と、イオン銃７が試料５にイオンを照射できる第１の状態，光学顕微鏡１１が試料５を観察できる第２の状態を切り替える切り替え手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 本発明は第1ホルダ(40)内の第1位置から第2ホルダ(10)内の第2位置へ、及び/又はその逆へ試料(2)を搬送する搬送機構に関する。
【解決手段】 各ホルダ(10,40)は脱着可能な状態で試料を保持するように備えられ、ホルダ間での試料の搬送は、第2位置とは異なる搬送位置で行われる。試料がホルダ(10,40)間を搬送されるとき、機械的案内機構は、第2位置での相互精度よりも高い相互精度でホルダを位置設定し、かつ試料が第2位置にあるときには、ホルダ(10,40)のうちの少なくとも1は位置設定されない。
機械的案内機構は追加部分(50)を有して良い。
ホルダ(40)のうちの少なくとも1は多数の試料を保持するように備えられて良い。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームと遮蔽材を用いる断面試料作製装置において、断面加工の進行状態を素早く簡単に判断し、断面作製位置の変更や修正を短時間に行えると共に、試料の内部構造を知ることができるようにする。
【解決手段】 イオンビームによって加工される試料６の断面を観察するための光学観察装置４０（断面観察手段）備え、イオンビームを照射中若しくは照射を中断した時にシャッタ４１を開けて、加工室１８内の真空を保持したまま試料６の断面を観察できる。また、試料６と遮蔽材１２の相対位置変更するための調整手段を備え、一回の断面加工が終了する毎に断面画像の取り込みと断面位置の微小移動を繰り返し、得られた複数の画像から試料６の立体画像を構成する。 （もっと読む）

【課題】試料を載置した直後から試料を保持した側の面を保護して、試料の紛失などを防止することができる構造を有する透過電子顕微鏡用メッシュの提供。
【解決手段】試料支持面を有し、１つまたは複数の開口部を有する支持体と；該支持体の試料支持面側に配置され、１つまたは複数の開口部を有する保護部材とを含むことを特徴とする透過電子顕微鏡用メッシュ。 （もっと読む）

【課題】従来技術の問題に対する解決をもたらす。
【解決手段】本発明は粒子−光学装置のための熱スイッチに関する。例えば、低温ＴＥＭ（透視型電子顕微鏡）において、試料ホルダ７の末端２０に配置される試料３４が、例えば、液体窒素の温度に維持され得る。例えば、顕微鏡を低温から室温に全体的に加熱することなしに、簡単な方法において室温で試料を検査し得る必要がある。熱スイッチ４０を使用することによって、これは可能になる。このために、熱スイッチは、装置内の冷源２２と試料ホルダ７の末端２０との間の熱経路変更し、それによって、１つの位置、位置４６ａにおいて、末端２０から冷源２２への接続が行われ、他の位置、位置４６ｂにおいて、室温に維持される装置の一部４４に接続が行われる。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡による観察時における、半導体デバイスの低誘電率層間絶縁膜の収縮による試料の変形を抑制することが可能な透過型電子顕微鏡の試料作製方法を提供する。
【解決手段】試料１を加工することによって、透過型電子顕微鏡による所望の観察箇所２を含む薄片部を形成し、記薄片部を含む試料表面に薄膜を成膜した後に、薄片部に対し集束イオンビームにより加工を施して、薄片部の一部の薄膜を除去し、透過型電子顕微鏡の観察試料とする。 （もっと読む）

【課題】ビームをワーク・ピースに向けずに、荷電粒子ビーム・システムにおいてコーティングをワーク・ピースに加えること。
【解決手段】コーティングは、荷電粒子ビーム真空室内において、または荷電粒子ビーム真空室外において、スパッタリングによって加えられる。一実施形態では、スパッタリングは、気体流入システムから針などのスパッタ材料源に荷電粒子ビームを向けることによって実施される。材料は、ビームをワーク・ピースに向けることを必要とせずに、たとえば、保護コーティングまたは導電コーティングを形成するために、スパッタ材料源からワーク・ピースの上にスパッタリングされ、それによりワーク・ピースに対する損傷を低減または排除する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線装置における制御対象デバイスの設定値の変更スピード（単位時間あたりの変更量）を動的に制御することにより、最適な設定値を探索するときの操作性を向上させること。
【解決手段】
グラフィックユーザーインターフェース３２は、ユーザーがその位置を移動操作可能なように設けられたマーカーを有するスライダーを備える。マーカーの基準位置からの変位量に応じてデバイス設定値の変更スピードが変化する。ユーザーがスライダー上のマーカー位置の移動操作をアクティブにすると、取得したマーカーの基準位置からの変位量を変換手段３５により変更スピードの値に換算する。この換算値に基づいたコマンドをタイマー３７で設定した一定時間間隔でデバイス３１に送信する。マーカー位置の移動操作がアクティブな間、再取得されたマーカーの基準位置からの変位量に基づいて更新したコマンドをデバイス３１送信する処理を継続する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、微細試料の確実・容易なピックアップ法に関する。
【解決手段】本発明は、デポジション用ガスを供給しながら荷電粒子ビームを照射して形成されるビームアシスト堆積膜により微細試料とマニピュレータを保持し、エッチング用ガスを供給しながら荷電粒子ビームを照射してビームアシスト堆積膜を除去することにより微細試料とマニピュレータを分離することに関する。例えば、マニピュレータプローブと微細試料との接続を炭素を主な成分とするビームアシストデポジション膜で接続し、キャリアへの固定後にプローブと微細試料を分離する際、水を主成分とするアシストガスを用いたビームアシストエッチングにより、前記アシストデポジション膜を選択的にエッチングする、荷電粒子ビーム装置における微細試料のピックアップ方法である。 （もっと読む）

【課題】加速電圧を下げたＳＴＥＭ観察での電子ビームの試料透過能力の低下やイオンビームの照射により生じるダメージ層の悪影響を防ぎ、試料の所望の領域への損傷を最小限にしてダメージ層を効果的に除去すること、および薄膜試料の厚さがより薄くなっても最適な加工終了時点を検出して加工失敗を防ぐ。
【解決手段】仕上げ加工に使用するイオンビームのエネルギーを低くすると共に、試料への入射角度を試料形状に合わせて最適化し、ＳＴＥＭ像の着目する要素の変化をモニタして加工の終了時点を検出する。 （もっと読む）