【課題】
本発明の目的は、複数方向からの加工や観察の可能な試料ホールダを提供することにある。
【解決手段】
上記目的は、荷電粒子線装置用試料ホールダにおいて、ホールダに備え付けた試料台が、任意の角度に方向付けられる機構と、微動装置を備えることで達成される。このような構成によれば、微小試料片を試料台から取り外すことなく、イオンビームによる加工および任意の方向からの二次電子像および電子顕微鏡観察が可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板上に金属層を堆積させる方法および基板のトポグラフィカルフィーチャを３次元で測定するための方法の提供。
【解決手段】前駆体ガスは、直径約0.7mmのガス噴射システムの管状ノズル５０を用いてサンプル上方に導入される。約8×10¹⁷mol/cm²sのガス流が用いられる。図２に例示される実施形態においては、２つのノズル５０および６０が存在し、２種類の異なる前駆体ガス５５、６５が基板上方に導入される。対象となる領域を走査する走査電子顕微鏡の電子ビーム７０は、前駆体ガス５５、６５を活性化させるために用いられ、この結果、選択された領域４０の基板のトポグラフィカルフィーチャ上に金属層が堆積される。 （もっと読む）

【課題】結晶相のみの試料であっても標準試料を要することなく非点収差の補正が可能な、透過型電子顕微鏡の試料ホルダーを提供する。
【解決手段】透過型電子顕微鏡の観察位置に試料を位置させるための試料ホルダー（３０）は、内部に段差（１３）を有する第１の開口（１２）が形成された試料ホルダー本体（１０）と、前記段差（１３）によってその周縁の一部が支持されることにより前記第１の開口（１２）内に回転可能に収納されかつ中心部に前記試料（７）を保持するための第２の開口（１５）を有する試料保持部材（１１）と、前記第２の開口（１５）を少なくとも一部を残して被覆する非晶質材料膜を備えたカバー部材（２０）とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】薄片化加工の過程で発生する歪みを除去し、かつ薄片化部分が安定して固定された状態で仕上げ加工を行うことができるＦＩＢ加工方法を提供する。
【解決手段】ＦＩＢ照射により試料の薄片化加工を行うＦＩＢ加工方法において、ＦＩＢ照射により薄片化部分を形成し、試料台を傾けて薄片化部分の側辺部に上端の部分に接続部分を残すように切り込み加工を行い、その後、試料台を元に戻してＦＩＢ照射により薄片化部分の仕上げ加工を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】極めて薄い液体層を形成することにより電子顕微鏡の観察に適応することが可能である電子顕微鏡用の超薄液体制御板とボックスとの組合を提供する。
【解決手段】板体を備える電子顕微鏡用の超薄液体制御板であって、板体は、少なくとも一つの観察孔を有し、観察孔の孔壁は上から下まで少なくても上下二段に分けられ、そのうちの一段孔壁の親水性が別の一段孔壁の親水性より高く、かつ親水性が比較的高い一段孔壁の高さは５０μｍ以下であり、観察孔から液体を注入した後、親水性が比較的高い一段孔壁は液体を吸引して極めて薄い液体層を形成し、別の一段孔壁は親水性が比較的低く液体の吸引が低減される。 （もっと読む）

【課題】極めて薄い液体層を形成することにより電子顕微鏡の観察に適応する電子顕微鏡用の超薄液体制御板を提供する。
【解決手段】板体１１を備える。板体１１は少なくとも一つの観察孔１２を有し、観察孔１２は上段孔壁１２１と下段孔壁１２３に分けられ、上段孔壁１２１は疎水材質１４が塗布され、下段孔壁１２３は親水材質１６が塗布される。親水性の高い下段孔壁１２３の高さは５０μｍ以下である。また板体１１の両端面とも疎水材質１４が塗布されて疎水性を有する。これにより観察孔１２から液体を注入した後、下段孔壁１２３は親水性が高いため液体を吸引して極めて薄い液体層１８を形成するのに対し、上段孔壁１２１は親水性が比較的低いため液体を吸引することはない。これにより、極めて薄い液体層１８を容易に生成する板体１１を提供可能である。 （もっと読む）

【課題】 透過電子顕微鏡内で簡便に酸化鉄の還元過程をその場解析できるような酸化鉄還元透過電子顕微鏡内直接観察用試料の作製方法を提供する。
【解決手段】 酸化鉄の固体炭素による還元過程を解析するために酸化鉄と固体炭素の界面を透過電子顕微鏡内で直接観察する試料の作製方法であって、観察対象物である酸化鉄を破断しその破断面に炭素を蒸着することとする。 （もっと読む）

【課題】観察対象が配置された部分が薄い観察用試料を容易に作製する。
【解決手段】観察用試料は、観察対象１を含み、第１の平面と第２の平面とを有している。第１の平面に対して第２の平面のなす角度は１．５°〜４．５°の範囲内である。第１の平面と第２の平面の間の最短距離は０．５μｍ以下である。観察用試料の作製方法は、素材１０Ｍの接着用平面１１Ｍと支持部材２０の加工用平面２１とを接着する工程と、素材１０Ｍが観察用試料となるように、支持部材２０および素材１０Ｍに対して研磨を含む加工を施す工程とを備えている。接着する工程では、接着用平面１１Ｍの外縁のうち観察対象１に最も近い部分が加工用平面２１の外縁よりも内側に配置される。加工を施す工程では、支持部材２０に第１の研磨面５１が形成され、素材１０Ｍに第２の研磨面５２が形成される。接着用平面１１Ｍは第１の平面となり、第２の研磨面５２は第２の平面となる。 （もっと読む）

【課題】 生体分子、ＤＮＡ等を高集積度で配列し、透過電子顕微鏡を用いて観察、解析できる高集積度バイオチップ用試料支持体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の試料支持体は、導電性薄膜１０と、貴金属元素を含む複数の微小構造体１２であって、導電性薄膜１０中にそれぞれ一部が埋め込まれるように導電性薄膜１０に設けられた複数の微小構造体１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】短時間で試料から微小片試料を切り出すことができる装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によると、Ｖ溝の所望の深さから、実験式を用いて、加工時間が最小となるようにＶ溝の深さの設定値とＶ溝の幅の設定値を計算する。こうして求めた設定値によって、集束イオンビームによってＶ溝加工を行う。Ｖ溝加工のみから、試料表面より微小片を切り出す。試料表面に対して傾斜したイオンビームを用いる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、上記問題点を解決すべく、ホルダー本体の長手方向に直交する軸回りの傾斜を大幅に改善可能な試料ホルダーを提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の試料ホルダーは、ホルダー本体と、試料を保持するための試料固定台と、前記ホルダー本体の長手方向に直交する軸回りに回転可能な軸傾斜機構とを有し、前記軸傾斜機構は、前記長手方向に直交する所望の軸回りに回転させるための支点保持部材とは無関係に軸傾斜可能な機構であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 透過電子顕微鏡の観察に適した試料を作製することができる試料加工装置を提供する。
【解決手段】 遮蔽材支持手段をなす遮蔽材支持ステージ２３ａの基台１００は、試料Ｓの加工面ＳＡが上下に通過可能とされた切り欠き部１００ａを備える。基台１００上には、供給ホイール１０１、一対の支持ホイール１０２、張力印加ホイール１０３、及び弾性部材１０５が設けられている。供給ホイール１０１から供給された長尺状（ワイヤ状）の遮蔽材Ｍは、一対の支持ホイール１０２の間で架橋されて支持され、この部分の遮蔽材Ｍが試料Ｓの加工面ＳＡの上方に配置される。試料Ｓのエッチング加工時には、遮蔽材Ｍが加工面ＳＡの近傍に介在された状態でイオンビームが照射されて行われる。このとき、張力印加ホイール１０３を介して弾性部材１０５により遮蔽材Ｍに所定の張力が印加される。遮蔽材Ｍの交換時には、供給ホイール１０１から自動的にイオンビームが未照射の遮蔽材Ｍが供給される。 （もっと読む）

【課題】グロー放電を用いて試料を掘削する方法を利用することにより、試料の十分に広い領域をＴＥＭで観測可能な形状に短時間で形成することができる試料形成装置、及び試料形成方法を提供する。
【解決手段】試料形成装置は、アルゴンガス（不活性ガス）が満たされたグロー放電管２内で、中空に形成された電極１２と試料Ｓとの間に電圧を印加することによって、グロー放電を発生させ、試料Ｓの電極１２に対向した部分を掘削する。掘削を開始してから経過した時間に応じて段階的に掘削の速度を低下させる。また試料Ｓの掘削が進行して試料に亀裂又はピンホールが発生した状態で試料を貫通するアルゴンイオンをイオンセンサ３２で検出して試料Ｓの厚みを判定し、試料Ｓの厚みが目標値となった場合に試料の掘削を停止することで、ＴＥＭで観測可能な所望の厚みを有するように試料Ｓを形成する。 （もっと読む）

【課題】 排気されるヘリウムガスを用いて、試料保持冷却部４０および液体ヘリウムタンク２０の熱のシールド効果をさらに向上させる試料冷却装置を実現する。
【解決手段】 試料保持冷却部４０および液体ヘリウムタンク２０を内包する様に、液体窒素温度の第１の熱シールド３０との間に、第２の熱シールド６２を配設し、試料保持冷却部４０で気化されたヘリウムガスを貯蔵するヘリウムガスタンク７０と第２の熱シールド６２を熱的に接続することとしているので、試料保持冷却部４０および液体ヘリウムタンク２０の外部との熱シールドを、より完全なものとし、ひいては液体ヘリウムの消費量を削減し、ランニングコストを低減することを実現させる。 （もっと読む）

【課題】 １系統のキャピラリで２種類の寒剤に適応する電子顕微鏡用クライオステージを実現する。
【解決手段】 電子顕微鏡用クライオステージは、試料保持部（３０５）と、試料保持部を取り巻く寒剤溜（３０３）と、寒剤溜より高い位置に設けられ、２種類の寒剤のいずれかを収容する寒剤タンク（２２０）と、２種類の寒剤のうち粘性の高い方に適合した内径および長さを有し、寒剤タンクと寒剤溜を接続するキャピラリ（４００）と、キャピラリの寒剤タンク側の端部に設けられ開度が調節可能な弁（６００）とを具備する。 （もっと読む）

【課題】一度に多くのミクロン以上〜１００μｍ以下の粉末、またはサブミクロンの粉末を短時間に加工することのできるＴＥＭ観察用試料作製方法を提供する。
【解決手段】粉末を透過電子顕微鏡観察用試料に加工する方法において、粉末を樹脂に混合しこの組成物をＴＥＭに挿入できる大きさの単孔もしくは多孔シートメッシュの孔に充填して硬化し、硬化後組成物の断面を出すように半分に切断し、さらに集束イオンビーム加工装置で断面側からイオンビームを当てて薄片化する。使用する単孔もしくは多孔シートメッシュの厚さまたは挿入した組成物の厚さが５０μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】キャリヤ及び間隔が隔てられた少なくとも三つのクランプ手段を含む移動プラットホームを提供する。
【解決手段】クランプ手段の各々は、キャリヤを、接触点のところで、及びキャリヤの少なくとも一つのグローブ状接触面のところでクランプし、少なくとも一つのクランプ手段には、キャリヤを少なくとも二つの仮想軸線を中心として回転できるように、接触点を、少なくとも夫々の接触面及び／又は少なくとも夫々のクランプ手段に対して変位するための少なくとも一つの変位エレメントが設けられており、クランプ手段によってキャリヤに加えられる法線力は、ほぼ平行な平面内にあり、これらの平行な平面は、夫々の接触点でのグローブ状表面の接線方向平面に対してほぼ垂直である。 （もっと読む）

【課題】 大口径ウェハ用の探針移動機構ならびにサイドエントリ型試料ステージを試料作製装置、不良検査装置に適用することで、小型で従来と同等の操作性を有する試料作製装置、評価装置を提供する。
【解決手段】 探針ならびにサイドエントリ型試料ステージを、上記イオンビーム照射光学軸とウェハ面の交点を通る傾斜角を持って真空容器を大気開放することなく真空容器に出し入れ可能とする真空導入手段を配した探針移動機構およびサイドエントリ型試料ステージ微動機構用い、さらにサイドエントリ型試料ステージの試料ホルダの試料片設置部分をウェハ面と平行とする回転自由度を有したサイドエントリ型試料ステージを用いる。
【効果】
真空容器の容積が必要最小限の設置面積の小さい小型で使い勝手の優れた、大口径ウェハ用の試料作製装置、評価装置が実現できる。 （もっと読む）

【課題】
少ない工程数で短時間に平面ＴＥＭサンプルを作製できるようにする。
【解決手段】
半導体集積回路のシリコン基板の裏面側から不良箇所を特定し、その不良箇所を含む領域のシリコン基板を選択的に薄膜化し、シリコン基板の裏面側から、不良箇所を含む矩形領域の周囲に収束イオンビームにより溝を形成して中央部に不良箇所を含む小片を形成する。次にその小片の１つの側面に対し斜め方向から収束イオンビームを照射して小片を切り離すとともに、溝により形成されるシリコン基板の穴内で、その切り離された小片を前記側面の方向に倒す。そして、前記側面とは反対側の側面が上を向くようにシリコン基板を傾け、上を向いた側面に対し垂直方向から収束イオンビームを照射して不良箇所を含む薄膜状の薄片に切り出すことにより、表面に配線層が形成された半導体集積回路から不良箇所を含む平面ＴＥＭサンプルを作製する。 （もっと読む）

【課題】 切削刃による切り込み時の衝撃による剥離による破壊や紛失を無くし、簡易で、より確実な切削を行うこと。
【解決手段】 ウェハ試料１０の裏面と、片側の面に溝が形成された第１の補助板１１の溝の形成されてない側の面とを、切削刃８の衝撃に耐えうる接着強度で接着して一体化し、この一体化された第１の補助板１１の溝が形成されている面を、第２の補助板１２の溝が形成された面とワックス１５で固定し、その後、切削刃８により切り出してウェハ試料片３０として取り出す。 （もっと読む）