【課題】様々な走査形式で入力される画像に対して、自由度の高い画像処理を行うにあたって、回路構成を複雑化することなく画像処理が可能な画像処理装置と、それを備えた荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームを試料上で走査し、該試料から発生する信号を検出して試料像を形成する荷電粒子線装置において、前記荷電粒子ビームの走査モードを設定する入力手段と、該入力手段で設定された走査モードに従って前記試料像を形成する画像処理装置とを備え、該画像処理装置は、前記荷電粒子ビームの走査モードに対応した試料上のアドレスデータを演算する並べ替え制御手段と、該アドレスデータの値に従って前記デジタル化された信号を並べ替える順次走査形式変換手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】
軸外収差の低減と、二次ビームの分離検出を両立させ得る荷電粒子線応用装置を提供する。
【解決手段】
複数の一次荷電粒子線を形成して、試料１１７上に投影して、第１の偏向器１１５により前記試料上を走査せしめる電子光学系と、前記複数の一次荷電粒子線の照射により前記試料の複数の箇所からから発生した複数の二次荷電粒子線１２０を個別に検出する複数の検出器１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃと、前記試料に電圧を印加する電源とを備えた荷電粒子線応用装置において、前記一次荷電粒子線の行路と前記二次荷電粒子線の行路とを分離するウィーンフィルター１１３と、前記ウィーンフィルター１１３により分離された前記二次荷電粒子線を偏向する第２の偏向器１２３と、前記第１の偏向器と前記第２の偏向器を同期して制御する制御手段とを有し、前記複数の検出器は、前記ウィーンフィルターにより分離された前記複数の二次荷電粒子線を個別に検出する。 （もっと読む）

【課題】倍率、走査方向や測定装置を変更しても、測定結果の変動が生じない線幅測定調整方法及び走査型電子顕微鏡を提供すること。
【解決手段】線幅測定調整方法は、第１の倍率において走査される電子ビームの第１の電子ビーム強度分布と、第２の倍率において走査される電子ビームの第２の電子ビーム強度分布とが同等になるように前記第２の電子ビーム強度分布を調整することを含む。前記第２の電子ビーム強度分布の調整は、電子ビーム強度分布を作成するときに、前記第２の照射距離を増減して行うようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】再計測に際して電子線照射による影響を最小限にし、計測対象パターンの形状を正確に計測する。
【解決手段】既に電子線を照射した領域外へ計測位置を自動的に移動させる。 （もっと読む）

【課題】走査フレームサイクル間でラスタ走査領域を調整することによって、画像標本上の電子露光を制御するためのシステムおよび方法
【解決手段】小さいズームイン走査領域および周囲領域は、走査フレーム間で複数回のフレームサイクルの間に正の電荷でフラッドされることによって走査領域と周囲領域との間の電圧差分を減少させ、それによって走査された画像中の小さい特徴を不明確にする傾向にある正の電荷蓄積を減少させる。標本上の画素エレメントへのピーク電流は、通例の映像と比較すると非常に短いライン時間でビームを走査するによって低減される。画像データのフレームは、さらに、任意のプログラム可能パターンで非逐次的に獲得され得る。あるいは、非活性ガスは、電子ビームが標本に当たる点で走査電子顕微鏡に注入されて、電子ビームによる不活性ガスのイオン化によって標本上の電荷蓄積を中和化し得る。 （もっと読む）

【目的】本発明は、検出対象のパターンのパターン画像を取得するパターン画像取得方法およびパターン画像取得装置に関し、マスクなどの検出対象のパターンに対して回転させて平行とならないようにしてビームを走査しそのときの信号を検出してエッジ検出してパターン画像を取得し、迅速かつ安定かつ高精度にパターン画像を取得することを目的とする。
【構成】 検出対象のパターンと平行とならないようにビームの走査方向あるいは検出対象のパターンを回転させるステップと、検出対象のパターンと平行とならないようにビームの走査方向が回転された状態で、パターンを異なる位置で横切る複数本の走査を行ってラインプロファイルを取得するステップと、取得したラインプロファイルをもとにパターンのエッジ位置を検出するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】検査処理のスループットを向上させるとともに、検出精度を向上させることができる電子線装置を提供する。
【解決手段】一次荷電粒子を試料Wの被測定領域に照射し、試料から放出される二次荷電粒子を検出する装置において、一次荷電粒子を試料Wの被測定領域を分割した小領域単位に照射する際、１つの小領域Ｒ１１を照射後、該小領域に隣接する少なくとも１つ以上の小領域Ｒ１２をスキップし、そして、未照射の小領域Ｒ１３を照射するよう制御する。この場合、各小領域の照射は、次に照射を行うべき小領域に近い側から開始され、遠い側へ進められる。例えば、小領域Ｒ１１の場合、次に照射される小領域Ｒ１３に近い点Ｐ１１から開始され、遠い点Ｐ１２に到達すると、小領域Ｒ１３の照射を点Ｐ１３から開始する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等基板上で発生した回路パターンの欠陥、異物、残渣等を二次電子像を比較することにより検査する方法において、絶縁材料を有する回路パターンを高速、安定、高精度に検査可能とする。
【解決手段】被検査基板９に、高速に大電流の電子線１９を照射して回路パターンの部材の電位が変動する前に電子線画像を形成する。また、検査用画像を形成するための第一の電子線以外に第二の荷電粒子線１０４を被検査基板９に照射し、部材の電位状態を安定させた後に検査を実施する。また、二次電子検出信号をデジタル化してから転送し、高効率に高ＳＮ比で良質な電子線画像を取得する。
【効果】上記検査方法により、絶縁材料を有する回路パターンの検査が可能となった。これにより半導体装置など各種基板製造プロセスの過程で発生した従来技術では検知できない不良や異常を発見できるようになり、基板製造プロセスの不良率を低減し信頼性を向上した。 （もっと読む）

イオン源、システム及び方法を開示するものである。
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【課題】試料に対して照射する電子ビームの強度や加速電圧を低く抑え、かつ高いＳ／Ｎの電子顕微鏡画像を得ることを可能とする電子顕微鏡制御装置を提供する。
【解決手段】電子線照射行列設定部６５は、プロジェクタ８から出射すべき電子ビームの２次元パターンの時系列を示す電子線照射行列を設定する。この電子線照射行列は、２次元パターンに含まれるピクセルのうち、電子ビームが照射されるピクセルを複数含むように設定されるとともに、２次元パターンに含まれるピクセル数と等しい数の２次元パターンを、互いに独立した２次元パターンの時系列となるように設定される。行列演算部６６は、上記電子線照射行列と、上記２次電子検出器において検出された時系列の検出信号を表したベクトルとに基づいて行列演算を行うことによって、試料の電子顕微鏡画像を示すベクトルを算出する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム装置による試料の観察や加工の際に、試料の帯電を防いで輪郭線の観察や加工の精度を上げるとともに、加工時には試料に吹き付ける加工用ガスを有効に活用する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置のコンピュータ１３は、マスク８の観察または加工を行うスキャン領域の設定後、このスキャン領域の外周に沿って走査ラインを設定し、この走査ラインの内側にこの走査ラインに沿った走査ラインを求め、求めた走査ラインからさらに内側に該求めた走査ラインに沿った走査ラインを求めることを繰り返してスキャン領域内の複数の走査ラインを決定する。走査ラインを決定すると、コンピュータ１３は、走査回路１２を制御して、走査ラインの間引きやピクセルの間引きを行いながら、走査ライン上にイオンビーム２を照射する。 （もっと読む）

【課題】高精度の試料ステージ機構を用いることなく、メモリーセルをカウントし、特定のセルの位置を検出する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。更に、試料の繰り返しセルの少なくとも３つの端の位置に基づいてセルの配列を求め、このセルの配列から目的セルの位置を特定する。ビーム偏向機能によるズームとソフトウエアによるズームを組み合わせてズーム画像を生成し、試料ステージを移動させることなく、ソフトウエアによって画像シフトを行う。 （もっと読む）

【課題】 電子線計測の高精度化を図ることができるとともに、装置の構成の簡易化に寄与することができる電子線計測装置の静電偏向制御回路および静電偏向制御方法を提供する。
【解決手段】 静電偏向回路１００を構成するアナログ演算部２に含まれるアナログ演算回路２ｘ１では、乗算器２１ｘおよび乗算器２１ｙの出力電圧は、加算器２２により加算出力される。低倍率時、リレー駆動回路２４に駆動され、常閉接点２５ｂ側が閉成するため、加算器２２の出力は、高利得増幅器２３ｑにより高増幅率で増幅されて、静電偏向板３ｘ１に印加される。高倍率時、常開接点２５ａ側が閉成し、低利得増幅器２３ｐにより低増幅率で増幅されて、同様に静電偏向板３ｘ１に印加される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は走査型顕微鏡に関し、滑り機構・ガイド機構における当たり面圧力の不足を補うため、観察部位の探索を終了した後に、試料ステージの粗動機構を固定し、機械的振動による観察画像へのノイズの影響を低減することができる走査型顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】 試料上を走査して走査の結果得られた画像を得る走査型顕微鏡において、試料を３次元方向に移動させる試料ステージ１１と、該試料ステージ１１を機械的に固定する粗動固定機構３５と、電子線走査領域のイメージシフトを行なうイメージシフトコイル９を有し、倍率が所定の閾値を超えたら、前記粗動固定機構３５により試料ステージ１１を固定し、前記イメージシフトコイル９により画像をシフトさせて画像を得るように構成する。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＤデータと電子顕微鏡ステージのステージリンク精度を向上させる。
【解決手段】複数のアライメントポイントを記憶し、ステージ移動に伴い、現在のステージ位置１８（２２）に見合った、妥当な局部領域のアライメントポイント１９，２０，２１（２３，２４，２５）を自動的に選択してアライメント補正値を更新する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、二次元領域を荷電粒子線走査する際の帯電の偏りを、抑制するのに好適な画像形成方法及び荷電粒子線装置の提供を目的とするものである。
【解決手段】本発明では、第１の走査線と第２の走査線との間に、第３の走査線を走査させ、当該第１の走査線と第３の走査線との間、及び第２の走査線と第３の走査線との間で、前記第１，第２、及び第３の走査線が走査された後に、複数本の走査線を走査する方法、及び装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】
検査の高速化を図ることができる電子ビームを用いた検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】
電子源から発生した電子ビームが対物レンズによって試料に収束され、試料が電子ビームで走査され、それによって試料から荷電粒子が発生するように電子ビームが偏向され、走査の間試料を連続的に移動し、試料の移動中に試料の高さを測定して対物レンズの焦点距離を補正し、試料から発生した荷電粒子が対物レンズと試料との間から荷電粒子検出器によって検出されて電気信号に変換され、この電気信号が画像信号として記憶され、この記憶された画像信号を用いて画像比較が実行され、試料の欠陥が検出される。 （もっと読む）

【課題】
２つのビーム軸を有する荷電ビーム装置において、２つのビーム軸を交差させる軸合わせを効率化する。
【解決手段】
重力方向の第１ビーム軸を有する第１のビーム照射系と、重力方向に対して傾斜した第２ビーム軸を有する第２のビーム照射系と、有する荷電ビーム装置において、先ず、試料を上下方向に移動させて、第１ビーム軸と試料の表面の交点Ｏｉと第２ビーム軸と試料の表面の交点Ｏｅの間のＸｉ方向の距離ΔＸｉをゼロにする。次に、第２のビーム照射系を水平方向に移動させて、第１ビーム軸と試料の表面の交点Ｏｉと、第２ビーム軸と試料の表面の交点Ｏｅの間のＹｉ方向の距離ΔＹｉをゼロにする。こうして粗調整を行った後に、微調整を行う。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子源からの荷電粒子ビームを真空カラム内に対向配置された偏向電極により偏向制御して試料に照射する露光装置または測定装置に用いられ、偏向電極における荷電粒子ビームにより正または負に帯電された部位の帯電を低減する帯電低減装置、その帯電低減装置を備える露光装置、測定装置およびその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームによって正または負に帯電された前記偏向電極の帯電部位に対して電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビームの照射エネルギーを変化させる手段と、を有し、偏向電極の帯電が低減され、正負どちらの帯電に対しても、正負二つの線源ではなく、電子ビームのみを用いて帯電を低減させることができ、装置構成が簡略化される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、電子線の照射によってシュリンクを起こすパターンを測定する際に、そのシュリンクの発生を抑制することで、正確なパターンの寸法測定を可能とすることにある。
【解決手段】Ｘ方向の測定倍率と当該Ｘ方向の測定倍率より低倍率であるＹ方向の倍率の組み合わせを複数記憶する記憶装置に記憶された倍率の組み合わせに基づいて、前記Ｘ方向が短辺であり前記Ｙ方向が長辺である矩形状に電子線を偏向させ、パターンのＹ方向の形状がＸ方向に対し狭まるように表示し、当該表示領域に表示されたパターン画像に基づいて、前記パターンのＸ方向の寸法を測定する。 （もっと読む）