【課題】走査型電子顕微鏡において、試料のスリミングを低減し、視認性のよい最適な画質が得られるようにする。
【解決手段】本発明は、試料に電子ビームを走査し、当該走査によって得られる複数のフレームを積算して画像を形成する際の前記電子ビームの条件を調整する電子ビーム調整方法及び走査型電子顕微鏡であって、電子ビームを走査して得られた画像の輝度ヒストグラムを形成し、当該検出された輝度ヒストグラムを、画像の視認性が向上する位置に、電子ビームの電流を調整することによって移動させるようにする。 （もっと読む）

【課題】集束レンズの強度を変化させて照射電流を変化させるに際して、集束レンズの強度変化に対して、照射電流の急激な変化を抑えることができる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子ビームを発生させる電子源と、前記電子ビームを集束させるための第１及び第２の集束レンズ６，９と、前記電子ビームを試料上に細く絞るための対物レンズ１４と、前記試料上を二次元的に走査するための偏向系と、前記電子ビームの照射により前記試料から発生した二次電子を検出するための検出系１３を具備した走査電子顕微鏡において、前記第１及び第２の集束レンズ６，９との間に、前記試料１５側に前記電子ビーム５の不要部分を遮断するための第１の絞り板８ａと第２の絞り板８ｂを順次配置したものである。 （もっと読む）

【課題】試料の斜角部、縁部、または底面の部分を検査するための改良された荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】この装置は、光軸１０２を画定し１次荷電粒子ビームを集束する第１対物レンズ１０４と、試料配置領域を画定する試料台１１０と、試料に衝突させるためのビーム経路に向けて１次荷電粒子ビームを第１対物レンズと試料配置領域の間で偏向させるための偏向ユニット１３２とを備え、この偏向ユニットは光軸１０２に対して移動可能である。 （もっと読む）

【課題】高倍率化しても有効視野が小さくなることがない走査荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明の走査荷電粒子線装置によると、試料の観察時に、試料の表面が焦点深度の上限の位置に又は上限の位置より僅か下方に配置されるように、焦点位置を調整する。更に、試料の表面における合焦領域である有効視野の範囲を計算する。 （もっと読む）

【課題】低照射エネルギーＳＥＭで高分解能を得ることと側面像を得ることとの矛盾を解決する。
【解決手段】ＳＥＭの側面像と平面像を収集するための電子ビーム装置において、電子ビーム装置は、電子源、必要ならば中間レンズ、対物レンズ、およびレンズ内分割検出器を備える。電子源は電子ビームを供給する。中間レンズは電子ビームの焦点を更に絞る。対物レンズは浸漬磁気レンズと遅延静電気レンズとの組み合わせで、電子ビームの焦点を試料表面に合わせる。レンズ内検出器は、２つ以上の部分に分割されて、異なる方位角度と極角度で試料から放出される二次電子線を集めて、側面ＳＥＭ像を得る。 （もっと読む）

【課題】試料の状態および撮影条件に依存せず、安定して良好な画像情報を取得することができる荷電粒子ビーム装置を実現する。
【解決手段】試料１と概ね同電位の基準静電電極４およびこの基準静電電極４を挟む一対の円筒形フィルター電極５および５′を、電子銃３０および加速場電極１４の間に設け、円筒形フィルター電極５および５′に正の電位を印加し、さらに制御部９によりこの電位を調整することにより、試料１で発生された２次電子の発生の際のエネルギーの大きさにより、２次電子５１を分離検出することとしているので、低エネルギー帯の２次電子を除去することができ、ひいてはＳＥＭ画像に含まれる、像全体を明るくする成分を除去し、安定して良好な画像情報の取得を行うことを実現させる。 （もっと読む）

【課題】ウォーミングアップが不要な走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】本発明の走査電子顕微鏡によると、観察モードでは、制御系から対物レンズに励磁電流が供給される。待機モードでは、制御系の電源が遮断され、制御系とは別の電源から対物レンズに励磁電流が供給される。 （もっと読む）

【課題】ＮＶＣ(Negative Voltage Contrast)モードまたはＰＶＣ(Positive Voltage Contrast)モードのいずれのモードでも、適切な条件下で検査を行える半導体ウェーハ検査装置および半導体ウェーハ検査方法を提供する。
【解決手段】一次電子２は、対象物ウェーハ６に照射され、その照射位置をＸＹ方向に走査される。対象物ウェーハ６からの二次電子（または反射電子）１０は、帯電制御電極５によって制御され、センサ１１によって検出される。画像処理回路は、センサ１１からの検出信号を検出画像に変換し所定の参照画像と比較して欠陥を判定し、全体制御部１４は、レシピ情報から対象物ウェーハ６ごとに検査条件を選択し、帯電制御電極５に印加する電圧を設定する。Ｚステージ８は、この電圧に応じて対象物ウェーハ６と帯電制御電極５との間隔を設定する。 （もっと読む）

小型の電子顕微鏡は頑丈で操作が簡単であり、特別な設備を必要としないことが好ましい。撮像は、サンプルが挿入された後すぐに開始することができる。単純化された好適な設計には、集束化のための永久磁石を含み、真空コントローラおよび真空ゲージを備えず、後方散乱電子検出器を使用し、二次電子検出器を使用しない。
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【課題】
軸外収差の低減と、二次ビームの分離検出を両立させ得る荷電粒子線応用装置を提供する。
【解決手段】
複数の一次荷電粒子線を形成して、試料１１７上に投影して、第１の偏向器１１５により前記試料上を走査せしめる電子光学系と、前記複数の一次荷電粒子線の照射により前記試料の複数の箇所からから発生した複数の二次荷電粒子線１２０を個別に検出する複数の検出器１２４ａ、１２４ｂ、１２４ｃと、前記試料に電圧を印加する電源とを備えた荷電粒子線応用装置において、前記一次荷電粒子線の行路と前記二次荷電粒子線の行路とを分離するウィーンフィルター１１３と、前記ウィーンフィルター１１３により分離された前記二次荷電粒子線を偏向する第２の偏向器１２３と、前記第１の偏向器と前記第２の偏向器を同期して制御する制御手段とを有し、前記複数の検出器は、前記ウィーンフィルターにより分離された前記複数の二次荷電粒子線を個別に検出する。 （もっと読む）

【課題】
小型で低収差の電子レンズを提供し、それを用いて、超小型でかつ高分解能のＳＥＭ等の荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
希土類コバルト系やネオジウム鉄ホウ素系のごとき高強度の磁性材料で軸対称で中心に穴のある構造の永久磁石１の極それぞれに上部磁極２と試料側磁極３を磁気的に接続し、中心軸側に内側ギャップ１００を設けることで軸上に磁界レンズを形成する。さらに、外側磁界を部分的にシールドし、かつ磁気抵抗値を調整する半固定式の磁路４を外側に設け、試料側磁極３と磁路４の間が永久磁石より外側領域において最も磁気抵抗の高い領域を形成する。さらにまた、永久磁石１と上部磁極２と試料側磁極３と半固定磁路４との空間を非磁性材料の充填材６で埋めることにより、対物レンズとして構成する。 （もっと読む）

【課題】電子光学系の各部品及び差動排気用オリフィスの保守点検が容易に行え、またパイプの芯出しの容易な差動排気走査形電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】差動排気走査形電子顕微鏡は、電子線を発生する電子源を配置する電子銃室１と、試料を配置する試料室２とを、鏡筒部７で連絡し、この鏡筒部７には、内部を電子線が通過するインナーパイプ１４を設けると共に、少なくとも前記電子銃室１からの電子線の収束手段であるコンデンサレンズ８、１３と、試料室２内の試料に収束させる対物レンズ９とを備えている。そして、インナーパイプ１４は、電子銃室１側から試料室２上部までの一体の長さに形成すると共に、試料室２側に位置する先端部に差動排気用オリフィス兼用対物絞りユニット１６を取り付けている。インナーパイプ１４の電子銃室１側内には、コンデンサ絞りユニットとなるライナーチューブ１５を装着する。 （もっと読む）

【課題】倍率、走査方向や測定装置を変更しても、測定結果の変動が生じない線幅測定調整方法及び走査型電子顕微鏡を提供すること。
【解決手段】線幅測定調整方法は、第１の倍率において走査される電子ビームの第１の電子ビーム強度分布と、第２の倍率において走査される電子ビームの第２の電子ビーム強度分布とが同等になるように前記第２の電子ビーム強度分布を調整することを含む。前記第２の電子ビーム強度分布の調整は、電子ビーム強度分布を作成するときに、前記第２の照射距離を増減して行うようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】従来のＳＥＭでは、帯電した試料においてフォーカスを合わせることができなかったり、倍率を正しく計算することができないために、正しいパターン寸法を計測することができなかった。
【解決手段】一次電子線が試料に到達しないようなリターディング電圧と、一次電子が試料に到達するようなリターディング電圧との間で、リターディング電圧を変化させ、そのときの二次電子検出器の出力を検出し、リターディング電圧と二次電子検出器の出力の関係から試料表面の電位を求める。 （もっと読む）

【課題】
従来よりも加工時間を長くすることなくイオンビームによる試料の断面形成の加工精度を向上せしめ、試料を割断することなく微小試料を分離または分離準備する時間を短縮するイオンビーム加工技術を提供する。
【解決手段】
イオン源１からイオンビームを引き出す軸と、前記イオンビームを第１の試料ステージ１３に載置された試料１１に照射するイオンビーム照射軸とが傾斜関係にある構造とし、さらに、前記試料からイオンビーム加工により摘出した試料片３０３を載置する第２の試料ステージ２４が、傾斜軸周りに回転することによりイオンビームの前記試料への照射角度を可変できる傾斜機能を持ち、前記イオンビーム照射軸に垂直な面に前記イオン源からイオンビームを引き出す軸を投影した線分が、前記第２の試料ステージの傾斜軸を前記イオンビーム照射軸に垂直な面に投影した線分と少なくとも略平行関係とすることが可能な構造であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は低加速電圧領域で空間分解能の高い走査像を得ることの出来る走査形電子顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】
対物レンズ８の電子ビーム通路に加速円筒９を配置し、一次電子ビームの後段加速電圧１０を印加する。また、試料１２に重畳電圧１３を印加して加速円筒９と試料１２の間に一次電子ビームに対する減速電界を形成する。試料１２から発生された二次電子や反射電子等の二次信号２３は、試料直前の電界（減速電界）で加速円筒９内に吸引され、加速円筒９より上方に配置された二次電子検出器により検出される。 （もっと読む）

【課題】
電磁式対物レンズを用いた走査型電子顕微鏡において、焦点合わせの応答性の優れた走査型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
電子線を試料上で走査する走査手段と、試料から生じた二次電子および反射電子の少なくともひとつを検出する検出手段と、検出手段により検出された信号に基づいて生成された試料像を表示する表示手段と、電子線に収束作用を与え試料上に焦点を合わせる電磁式対物レンズと、該対物レンズの磁路、もしくは該磁路に配置されて電気的に絶縁された電極と、該電極に電圧を印加する電圧制御手段とを備え、該電圧制御手段により印加される電圧によって対物レンズを通過する電子線のエネルギーが高くなるように、かつ試料から生じた二次電子および反射電子の少なくともひとつを加速させるように電極が配置されるとともに、電圧制御手段により対物レンズを通過する電子線の焦点位置を変化させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは３次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。
【解決手段】複数の焦点位置において、段差や凹凸を有する試料に荷電粒子線の照射を行う。前記試料から放出される信号の計測を行い、段差のエッジ部分に相当するプロファイル波形を比較することで、試料の段差や凹凸の情報を得る。 （もっと読む）

【課題】基板上の積層構造上のパターンの欠陥を、良好な精度で検出する基板検査装置、および基板検査方法を提供する。
【解決手段】基板上の第１の層上に該第１の層と組成の異なる第２の層が積層された積層構造上に、該第２の層が一部露出するように形成されたパターンの欠陥を検査する基板検査装置であって、前記基板上に１次電子を照射する電子放出手段と、前記１次電子の照射により生成される２次電子を検出する電子検出手段と、前記電子検出手段で検出された２次電子のデータを処理するデータ処理手段と、前記１次電子の加速電圧を制御する、電圧制御手段と、を有し、前記電圧制御手段は、前記１次電子が、前記第２の層が露出した部分で前記第１の層と前記第２の層の界面近傍以外の、前記第１の層または前記第２の層の中に到達するように加速電圧を制御することを特徴とする基板検査装置。 （もっと読む）

本発明は、粒子光学式走査顕微鏡のための位置決め装置、対応した位置決め補助装置を備える粒子光学式走査顕微鏡、ならびに粒子光学式走査顕微鏡で物体の焦点合わせおよび位置決めを行う方法に関する。焦点合わせおよび位置決め補助装置は、あらかじめ規定された位置で粒子光学ビーム軸線と交差する、粒子光学ビーム軸線に対して所定の角度で、コリメートまたは焦点合わせされた光ビームを生成する照明装置と、対物ステージに位置決めされた物体の画像を、粒子光学ビーム軸線に対して相対的な第２の角度で撮影する、光ビームの波長に対して感応性のカメラと、ディスプレイと、カメラによって撮影された画像を、画像内の粒子光学ビーム軸線の位置を示す標識と一緒にディスプレイ上に形成するための制御装置とを有している。
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