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Fターム[5C033UU02]の内容

電子顕微鏡 (5,240) | SEM (1,679) | 電子レンズ系 (204)

Fターム[5C033UU02]に分類される特許

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【課題】
表面電界制御電極を設け,かつ一次電子ビーム径を縮小させた電子光学系を実現するには,表面電界制御電極をウェハに近接させる必要があり,このため,焦点あわせ用の高さ検出が行えなくなる。
【解決手段】
高さ計測位置を一次電子照射位置からずらし,高さ計測位置と一次電子照射位置との水平位置,および時間的な違いによる高さのずれを補正するための高さ補正機構を設ける。また,ずれ量を最小化するため,表面電界制御電極の周囲にウェハと同一電位のシールド板をおき,これに光路を設けて高さ計測を行う。 (もっと読む)


【課題】
走査型荷電粒子顕微鏡及び走査型荷電粒子顕微鏡装置で取得した画像の処理方法において、最適な撮像条件は,試料の形状や材質等によって異なるため,特定の撮像条件を用いた1枚の画像撮像のみでは十分良好な画質が得られない場合がある。
【解決手段】
異なる撮像条件下で試料を撮像して該試料の複数の画像を取得し,この取得した複数の画像についてそれぞれの画像の劣化関数を生成し、取得した複数の画像と生成したそれぞれの画像に対応する劣化関数とを用いて分解能を向上させた画像を生成し、この分解能を向上させた画像を処理するようにした。 (もっと読む)


【課題】プローブ電流と対物開き角を独立に制御し、対物絞り径に応じて所望のプローブ電流量、対物開き角になる荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】コンデンサレンズ4とコンデンサレンズ7の間に対物絞り6を有する構成とし、所望のプローブ電流量になるよう対物絞り6の径に応じて、第1のコンデンサレンズ設定部60の制御値を算出して設定し、所望の対物開き角になるよう対物絞り6の径とコンデンサレンズ設定部60の制御値に応じて、第2のコンデンサレンズ設定部62の制御値を算出し、算出した制御値を第2のコンデンサレンズ62に設定して、対物開き角43を制御する。 (もっと読む)


【課題】画像信号をデジタル処理する走査電子顕微鏡において、観察倍率に応じて最深の焦点深度と最良の分解能を得る。
【解決手段】複数の収束レンズ及び絞りの穴径を変化させることにより光学系の開き角を変化させる手段をもち、1画素に相当する視野範囲、いわゆる画素サイズに応じて電子ビーム開き角αを変化させる。 (もっと読む)


【課題】ウェハの特質により欠陥部位のコントラストが十分に得られない場合であっても、フォーカス精度劣化をきたすことなく、高感度な欠陥検出性能を実現する優れた試料検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】試料を移動可能なステージ上にロード後、試料の高さ計測を行った後、試料に電子線ビームを走査させ、得られた画像から欠陥部を求めるSEM式外観検査方法及び装置において、高さ計測がステージ移動による補正処理機能を備えている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハのパターンの検査において、非検査領域が混在する試料でも非検査領域への電子ビームの照射を防止し、所望の検査領域を検査することができる検査装置、および検査方法を提供する。
【解決手段】電子ビームは試料の照射領域を画像化するための照射エネルギーを有し、電子ビームの走査中に電子ビームが試料へ照射するのを妨げるように電子ビームをブランキング偏向するブランキング偏向器と、電子ビームの走査中に試料を連続的に移動させるステージと、電子ビームの照射領域の選択に従って、電子ビームの非照射領域では電子ビームをブランキング偏向するブランキング偏向器へ偏向指令を送信する制御装置とを備える。 (もっと読む)


【課題】試料表面の導体層の電位を一定にして精度よく試料を観察することのできる走査型電子顕微鏡及び試料観察方法を提供すること。
【解決手段】走査型電子顕微鏡は、電子ビーム9を放出する電子銃と、試料7と対物レンズ4の間に配置され、電子ビーム9の光軸を中心とした所定の範囲の開口を有し、試料7の表面7a上の全体を覆うガード電極11と、ガード電極11に電圧を供給するガード電極電源12と、試料7の表面7aの電位を測定する表面電位計13と、試料7の表面7aの電位と予め決定された基準電位との差分が所定の範囲を超えたときに差分を所定の範囲内にする電圧をガード電極11に印加して試料7の表面7aの電位調整をする制御部20と、を有する。ガード電極11の開口は、電子ビーム9及び電子ビーム9の照射により試料7から発生する二次電子が通過するために十分な面積を確保する。 (もっと読む)


【目的】本発明は、電子銃から放出された電子線ビームをレンズで細く絞って試料に照射しつつ走査し、そのときに試料から放出された2次電子を検出・増幅し、2次電子画像を表示する走査型電子顕微鏡に関し、光軸を機械的にずらすことなく負のバイアス電圧を印加した試料からの2次電子を効率良好に捕集して検出・増幅し、対物レンズの収差を小さくして高分解能の2次電子画像を生成することを目的とする。
【構成】静電型の第1の偏向器と、静電型の第2の偏向器と、電磁型の第3の偏向器と、細く絞られた電子線ビームが負のバイアス電圧の印加された試料面に照射されたときに、電磁型の第3の偏向器の方向に誘導され、電磁型の第3の偏向器で光軸から離れる方向に偏向された負のバイアス電圧に相当するエネルギーを有する2次電子を検出する、光軸の部分に電子線ビームが通過する開口部を有する2次電子検出器とを備える。 (もっと読む)


【課題】従来よりも高分解能でかつ高コントラストな像を取得可能な対物レンズを提供する。
【解決手段】電磁重畳型対物レンズを、コイルを囲む磁路と、該対物レンズに該電子ビームを囲む円筒または円錐状のブースタ磁路と、コイルと該試料の間に設けた制御磁路と、ブースタ電源による電子ビームの加速電界制御手段と、該ステージ電源による電子ビームの減速電界制御手段と、制御磁路電源による試料放電の抑制手段と構成する。これにより、幅広いランディングエネルギーにおいて、電磁重畳型対物レンズを試料に近づけて電子ビームを集束することができる。 (もっと読む)


【課題】検査の高速化を図ることができる電子ビームを用いた検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】電子銃1からの電子ビーム36は対物レンズ9で収束され、試料13に与えられるリターディング電圧によって減速され、試料13は移動しながら電子ビームで走査され、試料13から発生した2次電子33はリターディング電圧により加速され、ほぼ平行ビームとなって、対物レンズ9と試料13との間に配置されたE×B偏向器18により偏向されて2次電子発生体19を照射し、2次電子発生体19から第2の2次電子20が発生して荷電粒子検出器21によって検出される。検出されたその出力信号は画像信号として記憶され、記憶された画像は演算部29及び欠陥判定部30で比較され、欠陥が判定される。 (もっと読む)


【課題】
試料上に検出したい目標物があって走査画像で目標物の存在の有無を判定するとき、検出したい目標物の最小寸法を決定すると、最短の時間で画像信号で試料全体の走査画像取得するために最適なビームサイズと画素サイズを算出し自動的に設定・表示する機能を備える荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】
荷電粒子ビームを試料に照射して発生する二次信号から画像信号を生成し、表示装置へ画像として表示する荷電粒子ビーム装置において、前記荷電粒子ビームの前記試料上における径と前記画像信号の画素サイズを、所望の目標物の最小寸法に基づいて決定する演算部を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、帯電や試料傾斜等の存在によらず、装置の状態をモニタするのに好適な走査電子顕微鏡を提供することにある。
【解決手段】
上記課題を解決するために、電子ビームを試料に到達させない状態で、得られた情報に基づいて、装置コンディションをモニタする機能を備えた走査電子顕微鏡を提案する。より具体的な一例として、試料に負の電圧を印加することで、電子ビームを試料に到達させないで反射させる状態とすると共に、アライメント用の偏向器に所定の信号を供給したときに得られる上記反射した電子の検出位置の変化をモニタする。上記所定の信号が、アライメントが適正に行われている状態のものであるとすると、上記電子の検出位置の変化は、軸ずれを反映したものとなる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、試料上の帯電によって生ずる荷電粒子線装置のフォーカスずれ,倍率変動,測長値誤差を低減するに好適な荷電粒子線照射方法、及び荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するために本発明では、荷電粒子線の搬入機構によって搬入される試料の通過中に、試料上の電位を測定する静電電位計によって試料上の電位分布を計測する手法を提案する。また、試料上の特定箇所の局所帯電を計測し、その帯電量から大域帯電量分を分離して計測する手法を提案する。更に、特定箇所の帯電量を、少なくとも2つの荷電粒子光学条件で計測し、特定箇所の帯電量変化に伴う荷電粒子線を用いた寸法測定値の変化を計測し、この変化に基づいて測長値、或いは倍率を補正する手法を提案する。 (もっと読む)


【課題】 走査電子顕微鏡における一般的な対物レンズを用いて試料の走査透過電子像を取得する際に、像取得時での分解能を向上させることのできる試料ホルダ及び電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 試料ホルダ21は、電子線照射による観察対象とされた試料9が保持される試料保持部21aと、試料保持部21aに取付けられた複数の板バネ21bとを備え、電子線が通過する開口20bが形成されたホルダ支持部材20の該開口20bに該板バネが係合する。これにより、電子顕微鏡の対物レンズ内で試料ホルダ21を支持することができ、該開口20bを通過した電子線が試料ホルダ21内の試料9に到達し、これにより試料9から発生する走査透過電子の信号を検出できる。 (もっと読む)


【課題】
荷電粒子ビームを試料に照射し、試料から二次的に発生する信号を検出して画像を得る荷電粒子ビーム装置、及び試料の表面の帯電状態を知る方法において、試料の表面電位の計測を可能とし、試料の表面を一定電位に制御して、試料の状態を変化させずに安定した試料像を取得することができる荷電粒子ビーム装置、及び試料の表面の帯電状態を知る方法を提供する。
【解決手段】
荷電粒子ビームを対物レンズにより集束させて試料に照射し、試料から二次的に発生する信号を検出して画像を得る荷電粒子ビーム装置において、試料と対物レンズとの間を横切る軌跡を有する第二の荷電粒子ビームを発生させる電子源と、第二の荷電粒子ビームを検出する検出器と、検出器で検出された第二の荷電粒子ビームの軌跡に基づいて、試料の表面の帯電状態を計算する計算部とを備える。 (もっと読む)


【課題】
荷電粒子ビームを用いた計測装置ないし検査装置において、検査の高感度と高安定性とを両立する。
【解決手段】
帯電制御電極A420の被計測試料ないし検査試料側に帯電制御電極B421を設置し,試料の帯電状態に応じて、帯電制御電極Bの帯電制御電極制御部423から一定の電圧を与えることにより、検査前に形成した試料表面の帯電状態と電位障壁の変動を抑制する。帯電制御電極制御部66によりリターディング電位が印加され、試料と同電位に調整される帯電制御電極A420の更に下部に帯電制御電極B421が設けられることにより、一次電子ビーム19が照射されるウェハ9などの試料から放出された二次電子409の試料への戻り量を調整することが可能になり,高感度な検査条件を検査中安定的に維持することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】高分解能、高スループットのマルチビーム検査装置を実現するために、ラングミュア限界を越える高輝度、かつ高エミッタンスのビームを得る。
【解決手段】電子銃は平面のカソード、引出し電極又はアノード、及び円錐の一部の形状のウエーネルト電極を有し、電子銃電流Ie(mA)をカソード・アノード間距離Dac(mm)との関係により次の範囲とする。0.388/Dac-0.046≦Ie≦92.8/Dac+9.28、Dac≧3mm、あるいは、0.388/Dac-0.046≦Ie≦22/Dac+32.7、Dac<3mm。又は、電子銃電流Ie(mA)をカソード半径との関係により数値限定(数式省略)する。輝度Bとカソード電流密度Jcの関係は、シミュレーション値571(破線)と実測値572が比較的良く一致し、かつ輝度はラングミュア限界573を超えている。 (もっと読む)


【課題】本発明は荷電粒子ビームにおける軌道補正法に係わり、従来の収差補正システムの問題を解決し低コストで高精度かつ高分解能の荷電粒子ビーム用収束光学系を提供する。
【解決手段】電磁界をそのビーム軌道軸の中心方向に集中させる分布を作り、ビーム軌道を斜入射させてレンズ作用を利用して曲線軌道とし、その結果、電子レンズの球面収差に代表される外側で大きな非線形の作用を打ち消す。具体的には軸上に電極を置き電圧を印加すれば、容易に電界集中が発生する。またビーム入射軸や結像位置は通常のレンズ・偏向器で操作することで実現できる。 (もっと読む)


【課題】高分解能でかつ撮像中に試料の損傷をできるだけ少なくできるイオンビーム顕微鏡を実現する方法を提供する。
【解決手段】ガスフィールドイオン源からイオンビームを放出するステップ202と、最終的なビームエネルギーよりも高いイオンビームエネルギーをイオンビームカラム内に供給するステップ302と、イオンビームが試料に衝突するときに、1keV〜4keVの最終的なビームエネルギーを供給するためにイオンビームを減速するステップ204と、試料を撮像するステップ206とを含む。 (もっと読む)


【課題】
マルチビーム式の荷電粒子線応用装置において、電子光学系と試料を相対的に傾けることなく、試料に対し一次ビームを斜め方向から入射する機能を付与する。
【解決手段】
マルチビーム型の荷電粒子線応用装置において、アレイ状レンズ109のレンズ電圧を切った状態でも試料上に合焦させるように、光学系制御回路139により、レンズ140a、140b他を制御する。一次ビーム107は試料上の一点に対して複数の方向、すなわち試料ウェハ115に対して複数の角度をもって照射され、電子光学系と試料を傾斜させることなく、一次ビーム107の試料上到達点を一定に保つ。また、アパーチャーアレイ108やアレイ状レンズ109に対応して設置されたブランカアレイ116を個別に制御することにより、試料ウェハ115に照射する一次ビーム107の照射角を選択することができる。 (もっと読む)


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