【課題】基板寸法の大型化に伴って、リボン状のイオンビームの長さ方向における寸法を長くした場合であっても、従来の構成に比べて、消費電力が小さく、磁極間での磁場分布が均一で、しかも、寸法の小さい質量分離マグネットを備えたイオン注入装置を提供する。
【解決手段】イオン注入装置ＩＭは、リボン状のイオンビーム１を生成するイオン源２と、イオンビーム１の主面を介して対向配置された一対の磁極９を有し、磁極９間で発生される磁場Ｂによって、イオンビーム１の進行方向をイオンビームの長さ方向に偏向させる質量分離マグネット３と、所望するイオン種を含むイオンビーム１を通過させる分析スリット４と、分析スリット４を通過したイオンビーム１が照射される基板６が配置された処理室５とを有している。そして、磁極９間で発生される磁場Ｂの方向が、質量分離マグネット３内を通過するイオンビーム１の主面を斜めに横切る方向である。 （もっと読む）

【課題】平行化レンズを用いずに、ガラス基板に対してのイオン注入を実現するＣООに優れたイオン注入装置を提供する。
【解決手段】本発明のイオン注入装置は、リボン状のイオンビーム３をガラス基板７に照射する質量分析型のイオン注入装置１であって、さらに、イオン源２から質量分析マグネット４までのイオンビーム３の輸送経路にイオンビーム発散手段を備えている。イオンビーム発散手段は、イオンビーム３の長辺方向（Ｙ方向）とイオンビームの進行方向（Ｚ方向）からなる平面において、ガラス基板７上に引かれた垂線とガラス基板７に入射するイオンビーム３との成す角度であるイオンビーム３の照射角度が０度よりも大きくデザインルールに基づいて設定される許容発散角度以下となるように、イオンビーム３をその長辺方向に発散させる。 （もっと読む）

【課題】イオンビーム照射装置の生産性に支障をきたすことなく、磁石内部での電子の閉じ込めを達成する。
【解決手段】イオンビーム照射装置で用いられる磁石１は、イオンビーム８を挟むように対向して配置された一対の磁極２と、一対の磁極２の各対向面に設けられ、磁極２間における電子の閉じ込め作用を発生させる複数の磁場集中部材３と、少なくとも複数の磁場集中部材３におけるイオンビーム８を挟んで相対向している面を覆う保護部材４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ガスクラスターをイオン化価数ごと選別する荷電粒子選別装置を提供する。
【解決手段】イオン化したガスクラスターを選別するための荷電粒子選別装置において、前記ガスクラスターの進行方向に配列された電界を印加するための３つ以上の電界印加部と、前記ガスクラスターを選別するためのスリットと、を有し、前記電界印加部は２枚の電極から構成されており、前記電極に交流電圧を印加することにより、イオン化したガスクラスターを偏向させるものであって、隣接する前記電界印加部においては、異なる位相の交流電圧が印加されており、前記スリットは、前記電界印加部により偏向した前記ガスクラスターを通過する開口部を有するものであって、前記交流電圧は、前記ガスクラスターを構成する原子数が同じガスクラスターにおいて、所定の価数の前記ガスクラスターのみが、前記スリットの開口部を通過する周波数であることを特徴とする荷電粒子選別装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】イオンビームを偏向、収束又は発散させる磁石の磁極間に効率良く電子を閉じ込め、空間電荷効果によるイオンビームの広がりを抑制する。
【解決手段】イオン源２及びターゲットＷの間においてイオンビームＩＢを挟み込むように配置され、イオンビームＩＢをターゲットＷに照射するために偏向等させる磁石６と、磁石６で発生される磁場の強さに関連して電子閉じ込め領域を形成するミラー磁場形成部材１１と、磁石６を構成し、複数のミラー磁場形成部材１１が磁石６で発生される磁場に沿った方向で対向するように設けられた一組の磁極６１ａ、６１ｂと、を備える。磁極間で発生される磁場と直交する方向における電子閉じ込め領域の幅が最大となった時の寸法をＷ_ｃとし、各磁極６１ａ、６１ｂに設けられた互いに隣接するミラー磁場形成部材１１の間隔をＷ_ａとした時、Ｗ_ｃ≧Ｗ_ａの関係を満たすように、ミラー磁場形成部材１１を配置する。 （もっと読む）

イオン注入システム（１００）、および、これに関連する方法は、鉛筆状イオンビームを走査してリボン状イオンビーム（１１０）を形成するように構成された走査装置と、第１の方向を有する該リボン状イオンビームを受け、このリボン状イオンビームを曲げて第２の方向に進めるように構成されたビーム曲げ部材（１１２）とを備えている。本システムは、第２の方向に進む該リボン状イオンビームを受け、また、加工対象物（１０４）を該リボン状イオンビームを注入するために固定するように構成された、該ビーム曲げ部材の下流に位置するエンドステーション（１０２）をさらに備えている。さらに、本システムは、該ビーム曲げ部材の出射開口部においてリボン状イオンビームのビーム電流を測定するように構成された、該ビーム曲げ部材の出射開口部に配置されたビーム電流測定システム（１２２、１２４、１０６）を備えている。
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【課題】質量分析器の内側表面をより広くクリーニングできるようにしたイオン注入装置のクリーニング方法及びクリーニング装置を提供する。
【解決手段】イオンビームを引出す引出し電極と、磁界により前記イオンビームの軌道を偏向させる質量分析器と、を備えるイオン注入装置のクリーニング方法であって、前記質量分析器の内側表面に前記イオンビームを照射する工程を含み、前記イオンビームを照射する工程では、前記引出し電極に印加する引出し電圧を変動させるとともに、前記磁界の強度を変動させる。 （もっと読む）

【課題】必要なパラメータ（質量、エネルギー、価数）を有する複数の種の荷電粒子を選択し伝送する装置及び方法を提供する。
【解決手段】対称面１７０２から間隔をあけて２つの平行なイオンビーム１７０１を生成し、平面１７００間に設けられたモジュールに進入させる。これらのイオンビームは、対称面と平行な面において偏向され、永久磁石の列状体１７１６のフリンジ磁界を斜めに通過する。パラメータについて異なる値を有する必要な複数の種のイオンは、一連の焦点１７０８〜１７１１に至り、分解構造体（１７０７の開口及び１７０５−１７０６間の分解開口）を通って伝送され、ビームストッパ１７０４の両側において磁石の列状体を出る。２つのビームを実質的に間隔をあけて配置することによって、１）複数の種のイオンが伝送可能になり、２）軽量イオンであるプロトンの伝送を阻止し、３）従来の約２倍のビーム電流を提供することができる。 （もっと読む）

イオン注入システムは、ビーム経路に沿ってイオンビームを生成するイオンソースと、上記イオンビームに対して質量分析および角度補正を行う、上記イオンソースの下流に設けられた質量分析部材と、上記質量分析部材の下流および上記ビーム経路に沿って設けられ、選択された質量分解能およびビームエンベロープに基づく大きさおよび形状をもつリゾルビングアパーチャ電極と、上記リゾルビングアパーチャ電極の下流に設けられた偏向部材であって、上記偏向部材を出る上記イオンビームの角度を変更する偏向部材と、上記偏向部材の下流に設けられ、電荷中和を行い上記イオンビームを減速させる減速電極と、荷電イオンが注入されるワークピースの保持および位置決めを行う、エンドステーション内部の支持プラットフォームと、を有する。上記エンドステーションは、偏向された上記イオンビームがワークピースに対して垂直になるように約８°反時計回りの向きに傾けられて設けられている。
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【課題】リボン形イオンビームによるイオン注入システムにおいて、低エネルギーで高ビーム電流のイオンビームを可能にする。
【解決手段】イオン源１０２から幅w₁のリボン形イオンビームを引き出して質量分析磁石１１０に入れ、非分散平面（ｘｚ面）内で発散させ、分散平面（ｘｙ面）内で集束させる。所望のイオン種を質量分析スリット１１８で選別し、角度補正装置１２０に入れ、水平面（ｘｚ面）内で平行な幅w₂のリボン形イオンビームに変換して、エンドステーション１２２内の加工物１２４にイオン注入する。イオンビームの幅の狭い部分がどこにも現れないようにしたので、空間電荷による広がりを抑制でき、輸送損失を少なくできる。 （もっと読む）

【課題】 基板の大型化に対応することができ、かつ重量増大を軽減し、ビームライン長増大およびビーム電流密度低下を防止することができる装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、イオン源２ａ、２ｂ、分析電磁石６ａ、６ｂおよび基板駆動装置１４を備えている。イオン源２ａは、Ｙ方向の寸法が長いリボン状のイオンビーム４ａを発生させる。イオン源２ｂは、Ｙ方向の寸法が長くかつイオンビーム４ａとはＹ方向の中心位置が異なるリボン状のイオンビーム４ｂを発生させる。分析電磁石６ａは、イオンビーム４ａをその主面に交差する方向に曲げて運動量分析を行って通過させる。分析電磁石６ｂは、イオンビーム４ｂをその主面に交差する方向に、かつ分析電磁石６ａとは逆方向に曲げて運動量分析を行って通過させる。基板駆動装置１４は、基板１０を、分析電磁石６ａ、６ｂを通過した両イオンビーム４ａ、４ｂの主面と交差する方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】必要に応じて同時に２種のイオン注入を行なうとともに、１種のイオン注入を行なう場合に未使用通路の汚染を抑える。
【解決手段】本流通路１３ｂと支流通路１３ｃとの境界部には、開口１３ｄを開閉するシャッタ２４が設けられている。シャッタ２４を閉位置にすると、イオンビーム２２から分離されたイオンビーム２２ａはシャッタ２４の表面に吸収され、イオンビーム２２ｂは本流通路１３ｂの壁に吸収され、イオンビーム２２ａによる支流通路１３ｃの汚染が防止される。残りのイオンビーム２２ｃがメカニカルスリット１４を介して加速・減速器１６に入り、加速又は減速されてエンドステーション１８のウエハ２７に照射され、イオン注入が行なわれる。シャッタ２４を開位置にすると、イオンビーム２２ａが支流通路１３ｃに入り、加速・減速器１７で加速又は減速されてエンドステーション１９のウエハ２９に照射され、イオン注入が行なわれる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、イオンビームの状態が変化した場合でも、ウェーハ処理能力を低下させずにウェーハ面内の注入均一性を良い状態に保つことができ、かつパーティクル発生を極力低減できるイオン注入装置を提供することを目的とする。
【解決手段】イオン注入装置において、装置パラメータをリアルタイムでモニタリングし、装置の各部をコントロールするシステム１２を設け、このシステム１２に、イオン注入処理中の累積ドーズ量分布を計算し、累積ドーズ量が均一になるようにウェーハ保持部１４のＹ方向メカニカルスキャンの速度を補正する機能と、質量分析部４の磁場を変化させることによりイオンビーム中心位置を制御する機能と、アパーチャー５のサプレッション電圧やビーム電流を変化させることによりイオンビーム径を制御する機能を持たせ、ウェーハ８の注入面内均一性の向上とパーティクルの低減を図る。 （もっと読む）

【課題】イオンビームのエネルギー変化やビーム電流値の減少およびターゲットへの入射角の変化などの現象を生じずに常時ターゲットの中心を照射することができるイオンビーム装置およびビーム安定化方法を提供することである。
【解決手段】イオンビーム発生器２の出側に通電コイルを有する質量分離手段３と、ビーム照射方向下流側に、対向する電極６ａ、６ｂからなるスリット電極６を設けたイオンビーム装置１で、スリット電極６ａ、６ｂを流れる電流の検知回路部７と、検知したスリット電流Ａ１、Ａ２を、またはこの電流を電圧に変換して比較する比較回路部８と、比較回路部８の出力を質量分離手段３へフィードバックする制御回路部９を設け、質量分離手段３のコイル電流をフィードバック制御することにより、温度変化などの環境要因の影響を無くして、イオンビーム４を常時ターゲットＴの中心部に照射できるようにした。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単であり、磁石の小型・軽量化を図ることができ、広い範囲に均一磁場領域を発生させることができ、ビーム厚さ方向寸法の大きいイオンビームにも対応できる質量分離電磁石を提供する。
【解決手段】本発明の質量分離電磁石１７における偏向用コイル２０は、イオンビーム１の長方形断面の長手方向に配置された複数のコイル２１，２２，２３からなる。各コイルは、湾曲形状を描くイオンビーム軌道の内側に配置された内側コイル部２０ａと、イオンビーム軌道の外側に配置された外側コイル部２０ｂとからなる。導入位置Ａと導出位置Ｂとの間の途中位置における内側コイル部２０ａと外側コイル部２０ｂの間隔は、導入位置Ａ及び導出位置Ｂにおける間隔よりも広い。 （もっと読む）

【課題】
全般的な複雑性を低減し、各ビーム吸収素子の寿命を延長する所望の粒子種（「名目種」）を具体的に選択するように粒子フィルタ装置を改良する
【解決手段】
パターンが、主に、名目運動エネルギーを有する名目質量の種の高エネルギー荷電粒子のビームを用いて、投射システムを介して対象に投射される。ビームを生成するため、粒子源（１１）、速度依存偏向器（３２）、および照射光学システムが設けられる。速度依存偏向手段（３２）は、粒子の速度に依存する名目種の経路に対して粒子経路を偏移させるように粒子に作用する横断双極電界および／または横断双極磁界を備える。 （もっと読む）

【課題】 基板に対する注入位置での長手方向（Ｙ方向）のイオンビーム電流密度分布の均一性を向上させることができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。制御装置９０は、モニタ８０からの測定データに基づいて電源１１４を制御することによって、モニタ８０で測定したビーム電流密度が大きいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を大きくし、測定したビーム電流密度が小さいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を小さくして、モニタ８０で測定されるＹ方向のビーム電流密度分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）

【課題】 コイルの渡り部の張り出し距離を小さくして分析電磁石の小型化および低消費電力化を可能にし、ひいてはイオン注入装置の小型化および低消費電力化を可能にする。
【解決手段】 イオン注入装置を構成する分析電磁石２００は、第１内側コイル２０６、第２内側コイル２１２、三つの第１外側コイル２１８、三つの第２外側コイル２２４およびヨーク２３０を備えている。内側コイル２０６、２１２はそれぞれ鞍型のコイルであって、両者が協働してイオンビームをＸ方向に曲げる主磁界を発生させる。各外側コイル２１８、２２４は、それぞれ鞍型のコイルであって、主磁界の補正を行う副磁界を発生させる。各コイルは、積層絶縁体の外周面に、絶縁シートおよび導体シートを互いに重ね合わせたものを複数回巻いて積層し、その外周面に積層絶縁体を形成した扇型筒状の積層コイルに切欠き部を設けた構成をしている。 （もっと読む）

【課題】イオン注入システムにおいて使用される、改良された質量分析プロファイル特性で、広いリボン形状のイオンビームを創り出す単一磁石アッセンブリを提供する。
【解決手段】プラズマ源と引き出し要素を含むイオンビーム源から質量分析されたリボンビームを供給するイオン注入システムであり、引き出し要素は、発散ビームを引き出し、ウインドウフレーム磁石アッセンブリにイオンビームを向ける。ウインドウフレーム磁石アッセンブリは、独立して制御可能な一様なクロスフイールド磁場を生じるようにウインドウ形状ヨーク内に、互いに垂直に配置される二対のコイルを含む。第一のコイル対は発散ビームを一様な平行ブロードビームにするように一様な垂直磁場８０４を創る。第二のコイル対の作る磁場８１０は、イオンの質量により、質量分散を与え、垂直方向にイオンビームをシート状に曲げ、リボンビーム８０８を形成する。 （もっと読む）

【課題】 コイルの渡り部の、ヨークからのビーム入出射方向への張り出し距離を小さくして分析電磁石の小型化を可能にすると共に、消費電力を小さくすることができる分析電磁石を提供する。
【解決手段】 この分析電磁石２００は、第１内側コイル２０６、第２内側コイル２１２、三つの第１外側コイル２１８、三つの第２外側コイル２２４およびヨーク２３０を備えている。内側コイル２０６、２１２はそれぞれ鞍型のコイルであって、両者が協働してイオンビームをＸ方向に曲げる主磁界を発生させる。各外側コイル２１８、２２４は、それぞれ鞍型のコイルであって、主磁界の補正を行う副磁界を発生させる。各コイルは、積層絶縁体の外周面に、絶縁シートおよび導体シートを互いに重ね合わせたものを複数回巻いて積層し、その外周面に積層絶縁体を形成した扇型筒状の積層コイルに切欠き部を設けた構成をしている。 （もっと読む）