【課題】生産性に優れた電気泳動表示装置を提供する。
【解決手段】隣接する画素を区分する第１の絶縁体層１１１と、第１の絶縁体層によって画素毎に区分されたマイクロカプセル３０１を含む層と、マイクロカプセルを含む層を間に挟む一対の電極２０３，１１０ａ，１１０ｂと、一対の電極の一方と電気的に接続される有機薄膜トランジスタと、を有する画素部と、画素部を間に挟む一対のプラスチック基板１０１，２０１と、を備え、有機薄膜トランジスタは、開口部を有する第２の絶縁体層１０５と、開口部内に設けられ、開口部によって隣接する有機薄膜トランジスタと絶縁分離された半導体層１０６ａ，１０６ｂと、半導体層とゲート絶縁膜を間に介して重なるゲート電極１０３と、を含む電気泳動表示装置である。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、外光輝度に応じた補正を映像信号に対して行うことの可能な表示パネルならびにそれを備えた表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】表示パネルは、自発光素子と、自発光素子を駆動する画素回路とを画素ごとに備えている。各画素回路は、保持容量と、映像信号に対応する電圧を保持容量に書き込む第１トランジスタと、保持容量の電圧に基づいて自発光素子を駆動する第２トランジスタとを有している。各画素のうち全部または一部の画素に含まれる画素回路において、第１トランジスタは、外光の輝度の大きさに応じた電圧を保持容量の電圧にフィードバックするようになっている。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第２の絶縁層と、前記第２の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ素子の色のバランスが良く、なおかつ発光輝度のバランスが良い、色鮮やか
な画像を表示することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】ＥＬ素子に流す電流を大きくしたい画素ほど、該画素のＥＬ素子に電圧また
は電流を供給する引き回し配線の幅を大きくした。これによって、ＥＬ素子に流す電流を
大きくしたい画素ほど、該画素のＥＬ素子に電圧または電流を供給する引き回し配線の配
線抵抗が小さくなる。配線抵抗が小さくなると、引き回し配線における電位降下が小さく
なり、ＥＬ素子に流す電流を大きくすることが可能になる。なお実際のパネルでは、引き
回し配線を配置するスペースは限られているので、各色における引き回し配線の幅の比を
変えることで、各色のＥＬ素子に流れる電流の大きさのバランスを取ることが可能である
。 （もっと読む）

【課題】有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】赤、緑、青色のサブ画素のうち、緑色サブ画素の薄膜トランジスタのサイズが赤色及び青色のサブ画素の薄膜トランジスタのサイズより大きい構造を有する有機発光表示装置である。これにより、相対的に発光効率の高い緑色サブ画素のスイングレンジが広く確保できる。これを採用する場合、さらに正確な階調表現が可能であり、信頼性の高い製品が具現できる。また、これにより、有機発光表示装置の輝度のばらつきを軽減できるので、画質不良製品も発生しにくくなる。 （もっと読む）

【課題】画質の均質性の高い発光装置を提供する。
【解決手段】発光素子１０２の形成された基板（第１の基板）１０１に向かい合ってプリ
ント配線板（第２の基板）１０７が設けられる。プリント配線板１０７上のＰＷＢ側配線
（第２の配線群）１１０は異方導電性フィルム１０５a、１０５bにより素子側配線（第１
の配線群）１０３、１０４と電気的に接続される。このとき、ＰＷＢ側配線１１０として
低抵抗な銅箔を用いるため、素子側配線１０３、１０４の電圧降下や信号遅延を低減する
ことができ、画質の均質性の向上及び駆動回路部の動作速度の向上が図れる。 （もっと読む）

【課題】テーパー形状のＡｌ配線膜を容易かつ安定的に得る。
【解決手段】Ａｌ配線膜１０１は、ＡｌもしくはＡｌ合金から成る第１のＡｌ合金層１０１ａと、その上に配設され、Ｎｉ、ＰｄおよびＰｔのいずれか１以上の元素を含み第１のＡｌ合金層１０１ａとは異なる組成のＡｌ合金から成る第２のＡｌ合金層１０１ｂとから成る二層構造を有する。フォトレジスト１０２の現像処理に用いるアルカリ性薬液により、第２のＡｌ合金層１０１ｂはエッチングされ、その端部はフォトレジスト１０２の端部よりも後退する。その後、フォトレジスト１０２をマスクとするウェットエッチングを行うことにより、Ａｌ配線膜１０１の断面はテーパー形状となる。 （もっと読む）

【課題】時間階調方式で表示するときに発生する擬似輪郭の低減を課題とする。
【解決手段】１つの画素を、各サブ画素の面積比が２^０：２^１：２^２：・・・・：２^ｍ−
３：２^ｍ−２：２^ｍ−１（ｍはｍ≧２の整数）となるように、ｍ個のサブ画素に分割する
とともに、１フレームを、各サブフレームの点灯期間の比率が２^０：２^ｍ：２^２×ｍ：・
・・・：２^{（ｎ−３）×ｍ}：２^{（ｎ−２）×ｍ}：２^{（ｎ−１）×ｍ}（ｎはｎ≧２の整数）
となるように、ｎ個のサブフレームに分割する。そして、ｎ個の各サブフレームにおいて
ｍ個の各サブ画素の点灯のさせ方を制御することにより、階調を表現する。また、ｎ個の
サブフレームのうち最長の点灯期間を有するサブフレームを、その半分の長さの点灯期間
を有する２個のサブフレームにさらに分割することにより、擬似輪郭をより低減できる。 （もっと読む）

【課題】消費電力が抑制された表示装置を提供する。
【解決手段】第１のトランジスタ、第２のトランジスタ、及び一対の電極を有する発光素
子を含む画素が複数設けられた画素部を有し、前記第１のトランジスタは、ゲートが走査
線に電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が信号線に電気的に接続され、ソー
スまたはドレインの他方が前記第２のトランジスタのゲートに電気的に接続され、前記第
２のトランジスタは、ソースまたはドレインの一方が電源線に電気的に接続され、ソース
またはドレインの他方が前記一対の電極の一方に電気的に接続され、前記第１のトランジ
スタは、水素濃度が５×１０^１９／ｃｍ^３以下である酸化物半導体層を有する。そして、
前記表示装置が静止画像を表示する期間の間に、前記画素部に含まれる全ての走査線に供
給される信号の出力が停止される期間を有する。 （もっと読む）

【課題】表示品位に優れ、塗布ムラによる不良発生が少ないフラットパネルディスプレイ及びその製造方法並びに引き出し配線の設計方法の提供。
【解決手段】表示領域から複数の引き出し配線が引き回されるアクティブマトリクス基板を含むフラットパネルディスプレイにおいて、各々の前記引き出し配線は、直線と曲線とが滑らかに接続された形状、例えば、前記表示領域の所定の辺から第１の方向に延在する第１の直線と、前記第１の方向とは異なる第２の方向に延在する第２の直線と、が、双方の直線に内接する円弧、楕円弧又は特定の関数で規定される曲線によって滑らかに接続された形状である。 （もっと読む）

【課題】１画素に複数の副画素を設けることにより視野角特性を向上させた表示装置を提
供することを課題とする。又は、複数の副画素を設けた場合であっても開口率の低下を抑
制する表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】第１の副画素、第２の副画素及び第３の副画素を有する画素と、走査線と、
信号線と、第１の容量配線と、第２の容量配線と、第３の容量配線とを設け、第１の副画
素〜第３の副画素にそれぞれ、第１の容量素子〜第３の容量素子の一方の電極及び第１の
容量配線〜第３の容量配線に電気的に接続する画素電極とを設け、第１の容量配線及び第
２の容量配線の電位を変化させ、第３の容量配線の電位を概略一定に保持する構成とする
。 （もっと読む）

【課題】端子部のコンタクトホールのテーパー形状を高い精度で制御する。
【解決手段】酸化物半導体層７ａ、ソース配線１３ａｓ、ドレイン電極１３ａｄを備えた薄膜トランジスタと、第１接続部３ｃ、第２接続部１３ｃおよび第２接続部上に形成された第３接続部１９ｃを備えた端子部とからなる薄膜トランジスタである。第２接続部は、第１および第２絶縁膜５，９に設けられた第１開口部内で第１接続部と接し、第３接続部１９ｃは、保護膜に設けられた第２開口部内で第２接続部と接する。第１開口部は、第１絶縁膜５および第２絶縁膜９を同時にエッチングすることによって形成、第２開口部は、保護膜１５を前記第１および第２絶縁膜とは別個にエッチングすることによって形成される。第２接続部１３ｃは、第１開口部における第１および第２絶縁膜の端面を覆い、かつ、第２開口部における保護膜１５の端面を覆っていない。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能で、回路面積が小さく、低消費電力で、メモリ部の動作の信頼度が高く、低コストである表示装置を提供する。
【解決手段】容量を有するデータ保持回路３と、複数の画素を有する表示部４とが第１の支持基板１上に形成された表示装置において、画素には、それぞれ画素電極が設けられ、第１の支持基板１と対向する第２の支持基板２が設けられており、第２の支持基板２における第１の支持基板１側の面には、データ保持回路３に対向する領域に、導電体膜８が存在せず、第２の支持基板２における第１の支持基板１と反対側の面には、データ保持回路３に対向する領域に、導電体膜８が存在する。 （もっと読む）

【課題】シェーディングやムラの少ない表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、（Ａ）走査回路１０１、（Ｂ）映像信号出力回路１０２、（Ｃ）電流供給部１００、（Ｄ）電流供給部１００に接続され、第１の方向に延びるＭ本の電流供給線ＣＳＬ、（Ｅ）走査回路１０に接続され、第１の方向に延びるＭ本の走査線ＳＣＬ、（Ｆ）映像信号出力回路１０２に接続され、第２の方向に延びるＮ本のデータ線ＤＴＬ、並びに、（Ｇ）第１の方向にＮ個、第１の方向とは異なる第２の方向にＭ個、合計Ｎ×Ｍ個の、２次元マトリクス状に配列され、それぞれが、発光部ＥＬＰ、及び、発光部ＥＬＰを駆動するための駆動回路を備えた発光素子１を備えており、各走査線ＳＣＬと走査回路１０１との間に容量負荷部１０１Ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】配線設計の自由度が高く、且つ簡素な配線が可能な表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、表示領域および周辺領域が設けられた基板１１と、基板１１の表面に設けられた第１配線５Ａと、基板の裏面に設けられると共に、第１配線５Ａと電気的に接続された第２配線とを備え、前記第１配線と第２配線とは、前記基板の周辺領域に設けられた接続部を介して接続され、前記接続部は１または２以上の貫通孔で、前記第１配線は、前記表示領域に接続された複数の配線からなる。 （もっと読む）

【課題】動作を不安定にすることなく、各トランジスタの特性劣化を抑制することが可能
な半導体装置を提供することを課題とする。
【解決手段】非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、シフト
レジスタ回路の出力端子に電源電位を供給する。そしてシフトレジスタ回路の出力端子は
、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において
常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また
、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供
給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制で
きる。 （もっと読む）

【課題】開口率の向上された発光装置である。
【解決手段】薄膜トランジスタと、容量と、発光素子と、発光素子へ電流を供給することができる機能を有する配線とを、プラスチック基板上に有する発光装置であって、配線は、容量の上に設けられ、容量は、配線の少なくとも一部と重なる領域を有する。発光素子は、陰極と、陽極と、陰極と陽極との間に設けられたＥＬ材料とを有し、容量は、第２の領域と、第２の領域上に第１の絶縁膜を介して設けられる第３の領域とを有する。第１の絶縁膜は、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜となり、さらに容量の絶縁膜となることができる。 （もっと読む）

【課題】３次元表示を行う表示装置におけるクロストークを抑制する。
【解決手段】３次元表示を行うに際して複数の画素の一部のそれぞれが所望の色表示を行い、残部の全てが黒表示を行う。よって、複数の画素の全部のそれぞれが所望の色表示を行う場合と比較して、クロストークの発生を抑制することが可能である。また、表示状態に応じて所望の色表示が行われる複数の画素を変更する。よって、３次元表示を行う際に所望の色表示を行う複数の画素が固定されている場合と比較して、画素における表示の変化が顕在化するまでの期間を長期化（長寿命化）すること及び複数の画素間における表示のバラツキを低減することが可能である。 （もっと読む）

【課題】ゲートスルーホールに接続される配線部のカバレジが不足するとともに、ゲートスルーホール端部において、配線部のショートが生じる場合がある。
【解決手段】表示装置であって、基板上の所定の位置に形成された電極層と、電極層上に形成された絶縁膜に設けられたゲートスルーホールを介して電極層と接続される配線膜と、を有し、前記ゲートスルーホールは、前記積層方向に順に水平方向に対して、第1のテーパ角を有する第１のテーパ部と、前記第１のテーパ角と異なる第２のテーパ角を有する第２のテーパ部と、前記第２のテーパ角と異なる第３のテーパ角を第３のテーパ部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】被蒸着膜を高精細なパターンで形成することが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】蒸着用マスクは、１または複数の第１開口部を有する基板と、この基板の一主面側に設けられると共に、各第１開口部と対向して１または複数の第２開口部を有する高分子膜とを備える。蒸着の際には、蒸着材料が第１開口部および第２開口部を順に通過することにより、第２開口部に対応した所定のパターンで被蒸着膜が形成される。基板と高分子膜とを組み合わせて用いることにより、機械的強度を保持しつつも、金属膜のみで構成されている場合に比べ、第２開口部において微細かつ高精度な開口形状を実現できる。 （もっと読む）