【課題】十分な容量の保持容量を確保することができなくても、フィールドスルーやオフリークの影響を受けにくいようにする。
【解決手段】画素回路１１０は、走査線１１２ａとデータ線１１４との各交差に対応して設けられている。反転走査線１１２ｂには、走査線１１２ａに供給された走査信号と論理反転の関係にある反転走査信号が供給される。画素回路１１０は、走査線１１２ａに供給された信号にしたがって導通状態または非導通状態に制御されるトランジスター１３０ａと、一端がトランジスター１３０ａのソース電極に接続された保持容量１３５と、保持容量１３５の一端と反転走査線１１２ｂとの間に電気的に介挿された容量素子１３１と、保持容量１３５による保持電位に応じた輝度で発光する発光素子１５０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型の表示装置の作製工程又は完成品における静電気による不良の発生を抑制する。
【解決手段】本発明に係る表示装置は、アクティブマトリクス回路の角の部分に隣接して、前記アクティブマトリクス回路に接続されていない格子状の放電パターンが形成されていることを特徴とする。また、本発明に係る表示装置は、アクティブマトリクス回路の周辺に、前記アクティブマトリクス回路を構成するゲイト線又はソース線と交わる放電パターンが形成され、前記放電パターンの長さは、前記アクティブマトリクス回路の画素ピッチよりも長いことを特徴とする。これらにより、各種静電破壊によるアクティブマト
クス型表示装置の不良の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ膜、陰極の断線を防止する技術を提供することを課題とする。陰極と陽極に
挟まれた部分で、ＥＬ膜の膜厚が局所的に薄くなることを抑えることができ、ＥＬ膜に局
所的に電界が集中することを防ぐことができる。
【解決手段】陽極１００上に絶縁膜１０１を形成し、絶縁膜１０１上にＥＬ膜１０２、陰
極１０３を形成したＥＬ素子において、絶縁膜１０１の下端部、上端部を曲面形状とする
。また、絶縁膜１０１の中央部のテーパー角を３５°以上７０°以下とする。 （もっと読む）

【課題】引出配線が複数の層のそれぞれに形成された場合において、同じ層に形成された隣接する引出配線間の短絡を簡易な構成で確実に検出することができるアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板２は、引出配線６１₁，６１₃，６１₅，６１₇が接続されたゲート端子５１に接続される第１接続配線６４₁，６４₃，６４₅，６４₇と、引出配線６１₂，６１₄，６１₆が接続されたゲート端子５１に接続される第２接続配線６４₂，６４₄，６４₆と、互いに隣接する２本の第１接続配線および第２接続配線を１本に束ねる束配線６５₁〜６５₄と、束配線のうちで互いに隣接しない束配線６５₂，６５₄へ検査信号を入力可能な第１検査配線６６と、束配線のうち第１検査配線６６が接続されておらずかつ互いに隣接しない束配線６５₁，６５₃へ検査信号を入力可能な第２検査配線６７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 １枚の基板から得られる表示パネルの枚数が多くでき、放電破壊を抑制するショート配線としても機能する共通配線の構成のアレイ基板において、外部接続端子と共通配線とを接続する接続配線の、共通配線のコンタクトホールを有する接続部での腐食を抑制して信頼性の向上を図る。
【解決手段】 絶縁性基板１上に、複数の表示パネル５０を構成する複数の表示領域４０が配置され、走査配線２、信号配線６、及び共通配線８０に接続される外部接続端子６０を有するアレイ基板１１０において、外部接続端子６０と隣接する表示パネル５０の共通配線８０とを接続する接続配線７０は、隣接する表示パネル５０の共通配線８０に設けられたコンタクトホール６４を有する接続部６５において接続され、接続部６５は対向基板１２０を貼り合わせるシール材９５が形成される領域下、又はシール材９５より表示領域４０側である内側に配置される。 （もっと読む）

【課題】転写時の歩留まりを低下させることなく、全体の厚さを薄くすることの可能なパッケージタイプの発光装置、ならびにそのような発光装置を備えた照明装置および表示装置を提供する。
【解決手段】発光装置１は、３つの発光素子１０と、各発光素子１０を覆う絶縁体２０と、配線３３，３４を介して各発光素子１０に電気的に接続された端子電極３１，３２を備える。発光素子１０の上面にある第２電極１５と、発光装置１の端子電極３２とを互いに電気的に接続する配線が、ワイヤボンディングではなく、めっきなどの成膜プロセスによって形成された配線３４となっている。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、フリッカーを低減し、高品位な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、透明基板（１０ｓ）と、透明基板の第１面側に設けられた複数の透明画素電極（９）と、透明基板と複数の透明画素電極との間に設けられた反射膜（６１、６２）と、透明基板と反射膜との間に、複数の透明画素電極に対応して設けられた複数の画素トランジスター（３０）と、透明基板の第１面とは異なる第２面側に設けられ、第２面の法線方向から見て少なくとも一部が反射膜に重ならないように設けられ、透明基板を透過した光を検出する光検出素子（６００）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】双安定機構を含み、かつ、削減された電力消費のために低電圧で駆動されることが可能な機械的に作動可能なディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明は、ＭＥＭＳベースのディスプレイ装置に関する。特に、ディスプレイ装置は、２つの機械的にコンプライアントな電極を有するアクチュエータを含んでもよい。さらに、ディスプレイ装置に含まれる、双安定シャッタ組立体と、シャッタ組立体内でシャッタを支持するための手段とが開示される。 （もっと読む）

【課題】温度依存性がなく再利用が可能なタイマー表示装置を提供する。
【解決手段】２つの導電層で挟み込まれたエレクトロクロミック層を含むタイマー表示層と、タイマー表示層に電力を供給するための電源と、タイマー表示層と電源との間を電気的に接続及び切断する切換手段とを備え、切換手段によってタイマー表示層と電源との間を電気的に切断することによりタイマー表示層のタイマー表示機能を駆動する、再利用可能なタイマー表示装置。 （もっと読む）

【課題】カップリング欠陥と縦線状欠陥を防止すると共に高速駆動を行うことができる表示装置を提供する。
【解決手段】画素ＰＸは第１副画素電極及び第１薄膜トランジスタが接続された第１副画素ＰＸａと第２副画素電極及び第２薄膜トランジスタが接続された第２副画素ＰＸｂを含み、各副画素はデータ線Ｄ_１ａ〜Ｄ_６ｂ及びゲート線Ｇ_ｊ−１〜Ｄ_ｊ＋２が接続され、ゲート線を挟んで上側に第１副画素ＰＸａｍ、下側に第２副画素ＰＸｂが配置され、第１薄膜トランジスタは第１副画素電極に接続されており、第２薄膜トランジスタは第２副画素電極に接続されており、画素ＰＸは一つの色フィルターに対応している表示装置。 （もっと読む）

【課題】白色有機ＥＬ素子＋カラーフィルタの方式を用いるに当たって、工程数を増やすことなく、白色光の光漏れを抑えることが可能な有機ＥＬ表示装置、及び、当該有機ＥＬ表示装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】白色有機ＥＬ素子２１_Wの発光部及びカラーフィルタ７４の周囲を囲むように、信号線３３、電源供給線３２、駆動トランジスタ２２のゲート電極２２１、保持容量２４の電極２４１、及び、書込みトランジスタ２３のゲート電極２３１等の金属配線を設ける。これらの金属配線は、カラーフィルタ７４の各色のフィルタ間を遮光する遮光層としての機能を持つ。これにより、カラーフィルタ７４の各色のフィルタ間での白色光の光漏れを防止する。 （もっと読む）

【課題】同一の層間膜上に画素電極と、ゲート配線を形成した半導体装置において、マス
ク枚数を追加することなく、液晶の焼きつきや特性劣化を低減する。
【解決手段】ゲート配線上に絶縁膜を設けることで、ゲート配線が非選択の期間に液晶に
かかるゲート電圧の絶対値を減少させることができる。絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペ
ーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。また、絶縁膜上に画素電
極を形成し、ゲート配線と画素電極が重なり合うようにすることで、画素電極の電界遮蔽
効果によって、液晶にかかるゲート電圧を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】精細かつ高スループットの導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面と第２の波面とを有する基体と、第１の波面上に形成された、２層以上の層が積層された積層膜とを備える。積層膜が、導電パターン部を形成する。第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】イメージセンサを一体化したアクティブマトリクス型表示装置を、安価に、且つ
プロセスを複雑化せずに作製する。
【解決手段】受光マトリクス１１１には、ＴＦＴと受光部が積層されたイメージセンサが
形成される。表示マトリクス１２１には、ＴＦＴと画素電極３１２がマトリクス上に配置
され、ブラックマトリクスとして機能する電極層３０８が形成されている。受光部の下部
電極２０８は遮光膜３０８と同一の出発膜で形成される。上部電極２１２の電位を固定す
るための端子６０６、６０３、６０１はそれぞれ、信号線３０６、電極層３０８、画素電
極６０６と同一の出発膜で形成される。端子６０６、６０３、６０１はその電位が固定さ
れるため、受光部の側面のシールド電極としても機能する。 （もっと読む）

【課題】接触不良を低減し、コンタクト抵抗の増大を抑制し、開口率が高い液晶表示装置
を得ることを課題とする。
【解決手段】基板と、前記基板上に設けられ、ゲート配線と、ゲート絶縁膜と、島状半導
体膜と、ソース領域と、ドレイン領域を有する薄膜トランジスタと、前記基板上に設けら
れ、前記ソース領域に接続されたソース配線と、前記基板上に設けられ、前記ドレイン領
域に接続されたドレイン電極と、前記基板上に設けられた補助容量と、前記ドレイン電極
に接続された画素電極と、前記薄膜トランジスタ及び前記ソース配線上に形成された保護
膜を有し、前記保護膜は、前記ゲート配線および前記ソース配線とで囲まれた開口部を有
し、前記薄膜トランジスタ及び前記ソース配線は保護膜に覆われ、前記補助容量は保護膜
に覆われていない液晶表示装置に関する。 （もっと読む）

【課題】画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。
【解決手段】基材上に並列配置され、かつ最大線幅が最小線幅の４倍以上である複数の段差構造体を横断被覆する銅導電膜４の形成において、電解めっき液の液導電率を６０Ｓ／ｍ以上とし、かつ銅導電膜４の膜厚を段差構造体の最大高さに対して２倍以上とする。 （もっと読む）

【課題】表示パネルに設けられるパッド部として適した構造を提供することを目的の一と
する。酸化物半導体の他、絶縁膜及び導電膜を積層して作製される各種用途の表示装置に
おいて、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することを目的の一とする。
【解決手段】走査線と信号線が交差し、マトリクス状に配列する画素電極層と、該画素電
極層に対応して設けられた画素部を有し、該画素部に酸素の含有量が異なる少なくとも二
種類の酸化物半導体層とを組み合わせて構成される逆スタガ型薄膜トランジスタが設けら
れた表示装置である。この表示装置において画素部の外側領域には、走査線、信号線を構
成する同じ材質の導電層によって、画素電極層と対向する共通電極層と電気的に接続する
パッド部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】オフ電流の極めて小さい酸化物半導体膜を用いたトランジスタを提供する。また、該トランジスタを適用することで、消費電力の極めて小さい半導体装置を提供する。
【解決手段】基板上に加熱処理により酸素を放出する下地絶縁膜を形成し、下地絶縁膜上に第１の酸化物半導体膜を形成し、基板を加熱処理する。次に、第１の酸化物半導体膜上に導電膜を形成し、該導電膜を加工してソース電極およびドレイン電極を形成する。次に、第１の酸化物半導体膜を加工して第２の酸化物半導体膜を形成した直後にソース電極、ドレイン電極および第２の酸化物半導体膜を覆うゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】電源パッドから電流出力用ＭＯＳトランジスタまでの距離に関わらず、各電流出力用ＭＯＳトランジスタから定電流が出力できるようにすること。
【解決手段】電流駆動部３において、電源パッドＰ１（電源電位ＶＤＤ）から各駆動セルまでの距離にかかわらず、駆動セル内のＰ型ＭＯＳトランジスタの基板電位が共通となるように、電源電位ＶＤＤの配線（Ｌ１）とは別に基板電位を設定するための配線（Ｌ２）を設ける。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、積層構造の単純化を図り、しかも高品質な表示を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、互いに交差するデータ線（６）及び複数の走査線（１１）と、データ線に電気的に接続された第１ソースドレイン領域、及び第２ソースドレイン領域を含んでなる半導体層（３０ａ）と、複数の走査線のうち一の走査線に電気的に接続されたゲート電極とを有するトランジスター（３０ａ）と、半導体層と基板との間に配置され、第２ソースドレイン領域に電気的に接続された第１容量電極（７１）と、第１容量電極に対向するように設けられるとともに一の走査線に隣り合う走査線に電気的に接続された第２容量電極（７３）とを有する蓄積容量（７０）と、を備え、蓄積容量は、基板上に設けられた溝の内部の少なくとも一部に設けられている。 （もっと読む）