【課題】フォトリソグラフィ工程を減らすことによって、作製工程の煩雑さやコストが上昇することを抑制しつつ、電気特性を向上させることが可能な有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板２０１と、ガラス基板２０１上に設けられたＴＦＴ回路２０３と、ＴＦＴ回路２０３の上を平坦化する平坦化膜２０６と、平坦化膜２０６の上に形成された第１電極２０８とを有する。平坦化膜２０６に設けられたコンタクトホール部２０７を介してＴＦＴ回路２０３のドレイン配線２０４と第１電極２０８とが接続されている。コンタクトホール部２０７において、複数の導電性の凸構造が平坦化膜２０６の中に設けられており、この凸構造によって、ＴＦＴ回路２０３のドレイン配線２０４と第１電極２０８とが接続されている。 （もっと読む）

【課題】画像の明るさや視認性や忠実性等を損なわずに、意匠性に優れる非矩形の外周形状を具現する。
【解決手段】この表示エリア２は、外周形状が非矩形状をなす画素アレイからなり、この画素アレイは、複数の非矩形画素７、７、…からなると共に、複数の第１の導線８、８、…からなる第１の導線群と、複数の第２の導線９、９、…からなる第２の導線群と、複数の第３の導線１０、１０、…からなる第３の導線群とが、互いに交差する態様で配設されている。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置に用いた際、液晶の配向乱れを抑制し、コントラストを向上できるカラーフィルタを提供する。
【解決手段】基板１０上に、格子状パターンであり、基板１０上を複数の画素に区画する樹脂ブラックマトリクス１２と、ストライプ状パターンである着色パターン２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂと、を有し、着色パターンの少なくとも一部は、各列が複数の画素のうち直線状に配列された画素群上に渡って連続的に設けられ、各列が１列の方向と直交する方向の樹脂ブラックマトリクス１２上に重なり部Ｏ_Ｘの群を有し、かつ、１列の方向と平行な方向の樹脂ブラックマトリクス１２上に重なり部Ｏ_Ｙの群及びパターンエッジを有し、画素群における１画素内において、着色パターン表面から重なり部Ｏ_Ｙの着色パターン表面までの高さｈ_Ｙが、着色パターン表面から重なり部Ｏ_Ｘの着色パターン表面までの高さｈ_Ｘに対し、０．１μｍ以上低くなっている。 （もっと読む）

基板１０と、基板の上に形成され、透明又は半透明電極１２と、反射電極１６と、少なくとも１つが発光性であり、透明又は半透明電極と反射電極との間に形成された１つ又は複数の層１４とを含むＬＥＤ素子１１であって、透明又は半透明電極及び反射電極は単一の制御可能な発光領域２２を画定し、透明又は半透明電極、反射電極及び１つ又は複数の層によって画定される導波路１３内に光を放出するＬＥＤ素子１１と、基板上の単一の制御可能な発光領域内に形成された、１つ又は複数の第１のトポグラフィ的特徴４０及び該第１のトポグラフィ的特徴とは異なる１つ又は複数の第２のトポグラフィ的特徴４２であって、単一の制御可能な発光領域内の光の導波を分断させることにより、少なくとも１つの方向において光の放出を増大させる、第１のトポグラフィ的特徴４０及び第２のトポグラフィ的特徴４２とを備える発光デバイス。
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【課題】走査信号線と映像信号線との交差箇所に開口部を設け、半導体層及び導電体層をレジストリフロー方式により形成する場合に、例えば黒点化修正を行えるよう担保できる表示装置を提供する。
【解決手段】映像信号線ＤＬとの交差箇所に開口部ＡＰが設けられた走査信号線ＧＬ、絶縁膜、導電体層より広がった領域を覆う半導体層ＡＳ、及び導電体層が順次積層され、導電体層は映像信号線ＤＬ、薄膜トランジスタＴのドレイン電極ＤＥ及びソース電極ＳＥ、並びに映像信号線ＧＬとドレイン電極ＤＥとを接続する接続線ＬＬを含み、接続線ＬＬは開口部ＡＰ上で映像信号線ＤＬから分岐し、開口部ＡＰは接続線ＬＬと交差する方向の幅が半導体層ＡＳの幅より広くなるように、走査信号線ＧＬの両側端に向けて突出して形成されている表示装置である。 （もっと読む）

【課題】平坦化絶縁膜による平坦性を十分に確保して表示品質を向上できる表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、画素ごとに設けられるアノード電極５１と、アノード電極５１の周辺を覆い、画素の開口を規定する開口絶縁膜５５と、アノード電極５１の下方に平坦化絶縁膜６５を介して配置され、画素を駆動するための電荷を蓄積する機能を有し、画素の開口より幅広の容量用電極３３ａ、３３ｂを備える蓄積容量３３とを有する表示装置である。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタの作製工程を簡略化し、ＥＬ表示装置をはじめとする発光装置の作製方法を簡略化することを課題の一とする。または、上記作製方法の特徴を有効に利用した発光装置の作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】第１の導電膜、第１の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第２の導電膜を順に積層して形成し、第１のエッチングにより前記第１の導電膜を露出させつつ、少なくとも前記薄膜積層体のパターンを形成し、第２のエッチングにより第１の導電膜のパターンを形成する。上記第２のエッチングは、第１の導電膜がサイドエッチングされる条件により行われる。また、上記パターンの形成後、パターンに起因する凹凸を利用して、選択的にＥＬ層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 接続不良の発生や配線層へのダメージの付与を防止することができ、歩留まり良く信頼性の高い接続状態を実現することが可能な配線構造及び表示装置を提供する。
【解決手段】 基板上に形成された配線の幅広部分（配線部２２）において、配線上に形成された絶縁膜２３に設けられたコンタクトホールを介して外部接続用の接続パッド（例えばＯＬＢパッド４）との電気的接続が図られてなる配線構造である。配線を覆う絶縁膜２３が塗布方式により形成された絶縁膜２３であり、幅広の配線部２２においては、周辺領域にのみコンタクトホール２６が形成されている。あるいは、幅広の配線部２２の周辺領域に形成されたコンタクトホール２６の開口寸法が、内部領域に形成されたコンタクトホール２８，２９の開口寸法よりも小となるように形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】透光性基板の一方の面にマイクロレンズアレイを設けたＥＬディスプレイ装置において、モアレ及び画像のボケの発生を防止する。
【解決手段】マイクロレンズエレメント２８の光軸方向における発光層２２とマイクロレンズエレメント２８との間の間隔ｔと、マイクロレンズアレイ３０のピッチＰｌと、画素構造のピッチＰｅとが、（１）ｔ≧Ｐｅ、且つ、Ｐｅ＝ｍ×Ｐｌ（ただしｍは自然数）、（２）ｔ＜Ｐｅ、且つ、Ｐｅ＝ｍ×Ｐｌ（ただしｍは自然数）、（３）ｔ＜Ｐｅ、且つ、Ｐｅ≧５×Ｐｌ、上記条件（１）、（２）、及び（３）のいずれか１つを満足しているようにした。 （もっと読む）

【課題】走査信号線の映像信号線と交差する箇所に開口部を設け、かつ半導体層及び導電体層をレジストリフロー方式によって形成する場合において、例えば黒点化修正を行えるように担保することが可能になる表示装置を提供すること。
【解決手段】導電体層は、映像信号線ＤＬと、ドレイン電極ＤＥ及びソース電極ＳＥと、接続線ＬＬと、を含んで形成される。半導体層ＡＳは、少なくとも、絶縁膜ＧＩの、映像信号ＤＬ線及び接続線ＬＬが形成される領域より広がった領域を覆うように形成される。接続線ＬＬは、走査信号線ＧＬに形成される開口部ＡＰ上において映像信号線ＤＬと接続される。そして、映像信号線ＤＬ又は／及び接続線ＬＬには、開口部ＡＰに対応する領域又はその近傍において、切欠部Ｃ、突起部又は拡幅部が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示パネルの製造方法に関する。
【解決手段】本発明の液晶表示パネルは、第一基板を提供する第一ステップと、前記第一基板に複数のストリップ状のカーボンナノチューブフィルムを含むカーボンナノチューブ構造体を形成する第二ステップと、前記第一カーボンナノチューブ構造体に第一固定層を被覆させて第一構造体を形成する第三ステップと、前記第一ステップ乃至第三ステップを繰り返して第二構造体を形成する第四ステップと、前記第一構造体の前記第一カーボンナノチューブ構造体におけるカーボンナノチューブフィルムを、前記第二構造体の前記カーボンナノチューブ構造体におけるカーボンナノチューブフィルムに垂直に配列させて、前記第一構造体及び第二構造体を対向して設置する第五ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】特別な構造体を必要とせずに画素電極からなる凹凸反射面が設けられた反射型の表示装置、およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板３上に設けられた薄膜トランジスタＴｒと、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で基板３上に設けられた凹凸表面を有する下地絶縁膜１７と、下地絶縁膜１７の凹凸表面を覆う反射膜からなり下地絶縁膜１７に形成された接続孔１７ａを介して薄膜トランジスタＴｒに接続された画素電極１９とを備えた反射型の表示装置１-1において、基板３と下地絶縁膜１７との間には、下地絶縁膜１７の凹凸表面に対応してパターニングされた絶縁性の隔壁層１３が設けられている。隔壁層１３には、薄膜トランジスタＴｒのチャネル部に対応する位置に第１開口１３ａが設けられると共に、接続孔１７ａに対応する位置に第２開口１３ｂが設けられ、第１開口１３ａ底部には、薄膜トランジスタＴｒの活性層を構成するチャネル部半導体層１５ｃｈが設けられている。 （もっと読む）

【課題】従来のＬＣＯＳを大きな光照射部を有する光変調装置に用いると、光照射部内に画素電極接続部が線状の影として現れてしまい、光の反射が不均一になるという不具合があった。また画素電極接続部の周囲からの光漏れにより画素電極を駆動する駆動素子が誤動作してしまうことがあった。
【解決手段】光照射部を有し、短辺同士が対向するように、２列に一定間隔離間して平面的に配置され、光変調物質を駆動する複数の矩形形状の画素電極と、画素電極の下方に配置され、前記画素電極を駆動する駆動素子と、画素電極と駆動素子とを電気的に接続する画素電極接続部とを備え、画素電極接続部が、光照射部の外側に配置されている。 （もっと読む）

【課題】コントラストを向上させることができると共に視認性にも優れたディスプレイユニット及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイユニットは、発光素子および前記発光素子を覆う透光性部材を有する複数の光源と、前記光源が配列された回路基板と、を有するディスプレイユニットであって、隣接した前記光源の間には、前記発光素子の側面側にある前記透光性部材の表面を覆う光吸収部材を有し、前記光吸収部材は、さらに前記発光素子の上面側にある前記透光性部材の表面を被膜しており、前記透光性部材の表面に対して略垂直方向における前記光吸収部材の厚さは、前記発光素子の側面側よりも上面側の方が薄いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制する。
【解決手段】脆性を有する第１基板１０と、第１基板１０に対向して配置された第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０の間に設けられた表示媒体層１５とを備えた表示パネル３０ａであって、第１基板１０及び第２基板２０は、第１基板１０が外方に向くように湾曲しており、第１基板１０の端面には、第１基板１０の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、そのクラックの成長を抑制するためのクラック成長抑制膜２１ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】チャネル領域を微結晶化するトランジスタを有する装置において、周辺金属に影響を及ぼさないようにしつつ、トランジスタの特性を十分に確保できるようにすること。
【解決手段】本発明は、複数の画素部３０を備える表示領域１０と、表示領域１０の画素部３０に対応して設けられ、複数の駆動トランジスタ３１ａが表示領域１０の表示面に沿って並列に配置されてなる駆動部３１とを有する表示装置１である。また、駆動トランジスタ３１ａのチャネル領域を形成するにあたり、複数の駆動トランジスタ３１ａの並列となる方向に沿って固体レーザ光を走査して照射する表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を使用する表示装置において、電源供給線の電圧降下に起因するシェーディングやクロストークを抑制する。
【解決手段】各画素回路Ｐは、駆動トランジスタ１２１のドレインを引出し配線１２１DLを介して電源供給線１０５DSL に接続する。同一発光輝度条件下では、各駆動トランジスタ１２１のドレイン電位が同一となるように、引出し配線１２１DLの長さおよび幅の少なくとも一方を電源供給線１０５DSL の長手方向に沿って調整されたレイアウトにする。たとえば、駆動走査部１０５側では、細くかつ長くして高抵抗にし、遠ざかるほど、太くかつ短くすることで低抵抗にする。 （もっと読む）

【課題】表示内容の識別性をより一層向上させることが可能な発光表示装置を提供する。
【解決手段】発光表示装置１は、絶縁性基板２１に所定の配線パターンが形成された配線基板２と、この配線基板２に搭載された発光素子３と、表示単位である１個の発光素子３ごとに隔離する貫通孔４１ａが設けられた遮光ケース４と、遮光ケース４の上面に設けられたカバーシート５と、配線基板２の裏面に設けられ、ドットマトリクス状に配置された発光素子３を選択的に点灯させるＩＣドライバとを備えている。この貫通孔４１ａの周壁部４１ｂは、発光素子３側より光出射側の方が狭くなるように形成されていると共に、開口形状が円形に形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板間の間隙のばらつきおよび上層と下層との接続不良を抑制できる液晶パネルを提供する。
【解決手段】スペーサ15を、アレイ基板12上の所定位置にインクジェット装置により配置する。アレイ基板12のカラーフィルタ層23r，23g，23bに形成したコンタクトホール25のスペーサ15の配置側に、スペーサ15の落ち込みを防止するように第１のテーパ角度Ｍを設定する。コンタクトホール25の画素電極24側に第１のテーパ角度Ｍと異なる第２のテーパ角度Ｎを設定する。インクジェット装置により配置したスペーサ15のコンタクトホール25への落ち込みを第１のテーパ角度Ｍにより防止してスペーサ15によりアレイ基板12と対向基板との間の間隙のばらつきを抑制できる。第１のテーパ角度Ｍと異なる第２のテーパ角度Ｎにより、上層と下層との接続不良を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】ファイバ基板素子上に形成された絶縁膜を挟む導電膜間の電気的接続を容易に得ること。
【解決手段】略矩形のファイバ基板１を基板としてファイバ基板１の表面上に素子および／または配線を形成する場合、ファイバ基板１の表面１ａおよび表面１ａに隣接する表面１ｂにわたって第１導電膜２を形成し、さらに少なくとも表面１ａの第１導電膜を覆った絶縁膜３を形成し、その後、絶縁膜３を覆うとともに表面１ｂに形成された第１導電膜２を覆うように表面１ａおよび表面１ｂにわたって第２導電膜４を形成し、表面１ｂ上で第１導電膜２と第２導電膜４とを電気的に接続する接続部５を形成する。 （もっと読む）