【課題】エッチング量の変動に伴う画素特性への影響を抑制することが可能な画像表示装置を提供する。
【解決手段】流れる電流量に基づいて発光する有機ＥＬ素子ＯＬＥＤと、前記有機ＥＬ素子ＯＬＥＤに流れる電流量を調整する駆動トランジスタＴ_dと、前記駆動トランジスタＴ_dに印加する電位に応じた電荷が蓄積される保持容量Ｃ_sとを備え、前記保持容量Ｃ_sを構成する一対の電極のうち、一方の電極は平面視して切り込みが形成されている。 （もっと読む）

【課題】従来の電気光学装置では、画像の表示品位が損なわれる範囲を軽減することが困難である。
【解決手段】電気光学装置は、複数の画素と、遮光膜１０３と、を有している。複数の画素は、複数の画素群に区分されている。画素群は、第１の画像が対応付けられた第１の画素７₁と、第２の画像が対応付けられた第２の画素７₂と、第３の画像が対応付けられた第３の画素７₃と、第４の画像が対応付けられた第４の画素７₄と、を１つずつ含んでいる。遮光膜１０３には、画素群ごとに開口部１１１が設けられている。画素群において、第１の画素７₁と第２の画素７₂とが、Ｙ方向に隣り合っており、且つ、第３の画素７₃と第４の画素７₄とが、Ｘ方向に第１の画素７₁及び第２の画素７₂を挟んで互いに対峙している。 （もっと読む）

【課題】開口率を小さくすることのない垂直配向型の薄膜トランジスタアレイ基板を提供すること。
【解決手段】絶縁層上に形成されたエッチング停止層と、前記エッチング停止層を含む前記絶縁層上に形成されたパッシベーション層と、前記パッシベーション層に形成されるとともに前記エッチング停止層に通ずる凹部と、前記凹部を含む前記パッシベーション層上に形成されるとともに前記凹部に対応して凹んだ画素電極と、を備え、前記エッチング停止層は、透明半導体よりなる。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを具備する画素を作製する際に、生産性の向上を図る。
【解決手段】基板上に形成されたゲート電極として機能する第１の配線と、前記第１の配線上に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に、低抵抗酸化物半導体層及び前記低抵抗酸化物半導体層上に導電層が積層して設けられた第２の配線、並びに前記低抵抗酸化物半導体層及び前記低抵抗酸化物半導体層の画素電極として機能する領域が露出するように前記導電層が積層して設けられた電極層と、前記ゲート絶縁膜上の前記第２の配線と前記電極層との間に形成された高抵抗酸化物半導体層と、を有する。 （もっと読む）

【課題】画素領域の角部においては、帯状電極部つまり画素電極からの距離が遠くなるので、画素電極と共通電極間において印加される横電界の強度が低くなる。この結果、画素領域の角部において、液晶分子の回転が不足し、液晶分子が本来の配向方向に到達しないことが生じるため、所定の輝度が得られず、表示品質が低下してしまう。
【解決手段】画素電極１１の帯状電極部のうち、画素Ｇの領域端の一辺と対向する帯状電極部の外形線１１ａｈおよび外形線１１ｂｈの傾きを、外形線１１ａおよび外形線１１ｂの傾き角度であるα度よりも小さいβ度およびγ度とする。角部Ｒｋにおける画素電極１１と画素Ｇの領域端の一辺までの距離が近くなるため、角部Ｒｋにおいて生ずる横電界の強度低下を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】コスト的な利点の多いスクリーン印刷法を用いて、平面性及びサイズの均質性に優れた上部電極を有する回路基板を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１上に形成される複数の下部電極４と、基板１上に形成され、複数の下部電極４のそれぞれの上に開口部９を有する層間絶縁膜６と、複数の開口部９のそれぞれを埋めるように形成され、複数の下部電極４のそれぞれと電気的に接続される上部電極７とを有する回路基板２０において、層間絶縁膜６は、一の開口部９と、該一の開口部９に最も近接する開口部９又は次に近接する開口部９との略中間点で、基板表面からの高さが極大高さｄとなる極大点Ｃを備える曲面形状を有し、開口部９での上部電極７の基板表面からの高さｔが、極大点Ｃの極大高さｄよりも小さいことを特徴とする （もっと読む）

【課題】画素選択用トランジタの素子領域を作り込んだ半導体基板の上に層間絶縁膜とメタル層を交互に繰り返して成膜した積層膜構造を有する液晶パネル用基板において、被研磨膜に係る層間絶縁膜を厚膜化せずに、研磨レートの均一化を達成できる構造を実現する。
【解決手段】液晶パネル用基板は、画素領域において第２のメタル層からなる遮光膜１２に開けた開口部１２ａを通して遮光膜下の第２の層間絶縁膜１１を挟んで第１のメタル層からなる配線膜１０と遮光膜上の第３の層間絶縁膜１３を挟んで第３のメタル層からなる画素電極とを導電接続する接続プラグ１５を備えている。非画素領域の入力端子パッド２６の周囲に、第１のメタル層からなる下層ダミーパターンＡと第２のメタル層からなる上層ダミーパターンＢが積み重ね形成されている。ダミーパターンＡ，Ｂ上の第３の層間絶縁膜１３の成膜表面レベルが底上げされるため、その部分での過研磨を解消できる。そのため、ＣＭＰ処理において一様の研磨レートが得られる。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極の上に設けられたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜
の上に設けられソース領域及びドレイン領域を含む半導体膜と、ソース領域又はドレイン
領域に電気的に接続する配線又は電極と、配線又は電極の上に設けられ第１の開口部を有
する第１の絶縁膜と、第１の絶縁膜の上に設けられ第２の開口部を有する第２の絶縁膜と
、第２の絶縁膜の上に設けられた画素電極とを有し、第１の絶縁膜は窒化シリコン膜を含
む積層の無機絶縁膜からなり、第２の絶縁膜は有機樹脂膜からなり、第２の絶縁膜の第２
の開口部の底面において、第１の絶縁膜の上面は第２の絶縁膜に覆われていない露呈した
部分を有し、第２の絶縁膜の第２の開口部の断面において、第２の絶縁膜の内壁面は凸状
の曲面を有しており、画素電極は、第１の開口部及び第２の開口部を介して配線又は電極
に電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】プリンティング工程に発生する不良を防止する表示装置の製造方法が提供される。
【解決手段】表示装置の製造方法は画素領域及び前記画素領域周囲に形成されるパッド領域が定義される基板を提供する段階；前記基板上に導電層を形成する段階；前記導電層上にローラをローリングしてマスクパターンを形成する段階；及び前記マスクパターン使用して、前記導電層をパターニングして、前記画素領域に配線及び前記パッド領域にパッドを形成する段階とを含んで、前記パッドは前記配線の第１幅に対応する第２幅を有するパターンとなる。 （もっと読む）

【課題】平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成されたソース電極及びドレイン電極と、ソース／ドレイン電極とコンタクトされる半導体層と、基板上に形成されたゲートと、ソース／ドレイン電極とゲートとの間に形成され、開口部を備える絶縁膜と、絶縁膜の開口部によって一部分が露出される画素電極と、を備える平板表示装置である。絶縁膜は、ゲート絶縁膜と画素電極とを限定する画素定義膜として作用する。 （もっと読む）

【課題】有機発光層の発光を利用した有機ＥＬ発光装置において、光取り出し効率を向上する。
【解決手段】有機ＥＬ発光装置１は、透光性の基板３と、有機ＥＬ層２とを備え、有機ＥＬ層２からの光が基板３を通して取り出される。複数の開口部４１を有する第１の反射層４が基板３の光取り出し面３１側に設けられ、レンズ５が開口部４１の各々に対応して設けられ、第２の反射層６が有機ＥＬ層２の基板３とは反対側面に設けられる。レンズ５は、開口部４１の各々の周縁の互いに対称な点を第１焦点５１ａ及び第２焦点５１ｂとする略半楕円断面形状を有し、互いに隣り合うレンズ５が平面視多角形の辺５２で接する。これにより、開口部４１を通った光が、レンズ５に入射し、出射面で反射されずに取り出される。 （もっと読む）

【課題】副画素を形成するトランジスタのチャネルにエネルギーの強い光が入射することによって発生するトランジスタの特性シフトを抑える。
【解決手段】Ｂ画素２０Ｂに隣接する例えばＧ画素２０Ｇについて、Ｂ画素２０Ｂとの間に、書込みトランジスタ２３のチャネル幅よりも大きい幅の遮光体３０３Ｇを設けることで、Ｂ画素２０Ｂで発光された青色光が画素２０Ｒ，２０Ｇに入射するのを阻止（遮光）し、書込みトランジスタ２３のチャネルへの青色光の照射の影響による特性シフトを抑えるようにする。 （もっと読む）

【課題】有機発光層の発光を利用した有機ＥＬ発光装置において、光取り出し効率を向上する。
【解決手段】有機ＥＬ発光装置１は、基板３と、この基板３上に形成された有機ＥＬ層２とを備え、有機ＥＬ層２からの光が基板３を通して取り出される。基板３は、光取り出し面３２に互いに隣接すると共に、離間配置された複数の出射面３３と、これら出射面３３の間に形成されたＶ字状の溝４と、この溝形成面に設けられた反射面４１とを有する。基板３の光取り出し面３２上にレンズ５を備える。レンズ５は、出射面３３の各々の周縁の互いに対称な点を第１焦点５１ａ及び第２焦点５１ｂとする略半楕円断面形状を有し、互いに隣合うレンズ５が平面視多角形の辺５２で接する。これにより、有機ＥＬ層２から出射された光が、基板３の出射面３３からレンズ５に入射して取り出される。 （もっと読む）

【課題】補助容量部の静電容量を確保しつつも、画素の表示有効エリアが広い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ゲート絶縁膜の下層側にゲート電極が形成されるとともに、ゲート絶縁膜の上層側にドレイン電極及びソース電極が形成された薄膜トランジスタと、ゲート電極と同一層に形成された補助容量電極とを備えた液晶表示装置である。この液晶表示装置は、ゲート絶縁膜を介して補助容量電極と重畳するように形成された金属薄膜と、ソース電極及び金属薄膜の上層側に形成され、ソース電極の上面の少なくとも一部及び金属薄膜の上面の少なくとも一部にそれぞれコンタクトホールを有する層間絶縁膜と、層間絶縁膜の上層側に形成され、ソース電極と金属薄膜とをコンタクトホールを介して電気的に接続する透明性の画素電極とを備える。金属薄膜の上層側に形成されたコンタクトホールは、金属薄膜と画素電極とが重畳する領域に複数形成されている。 （もっと読む）

【課題】画素間における発光領域の輝度のずれを抑制しつつ、表示装置表示部の単位面積当たりの発光面積を向上させ、高い表示品質の表示装置を提供することにある。
【解決手段】画素が有する発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域の上部に、補助電極が位置することにより、実効的な発光面積のずれを抑制することで輝度のずれを抑制しつつ、発光領域間の領域を狭めることにより、表示装置表示部の単位面積当たりの発光面積を向上させる表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 透明電極から配線に電気的に接続させる場合のコンタクトホールと表示領域との間の寄生抵抗値を低減させ、電力損失を低減することを目的とする。
【解決手段】 表示装置において、基板上に少なくとも薄膜トランジスタ、平坦化膜及び複数の発光素子が形成されており、発光素子には、少なくとも発光層と、第１の電極及び第２の電極を有している。この第１の電極と、配線（ＧＮＤ配線又は電源配線）とを接続させるために、表示領域よりも外側の平坦化膜には複数の第１のコンタクトホール及び複数の第２のコンタクトホールが設けられており、第１のコンタクトホールと第２のコンタクトホールは千鳥状に配置されている。 （もっと読む）

【課題】従来の技術による諸問題を解決するため、信号伝送時のＲＣ効果を軽減する表示パネル及び関連製作方法を提供する。
【解決手段】表示パネルは、表示領域を有する基板と、基板の表示領域に設けられ、信号を伝送する複数の導線と、複数の導線に電気的に接続され、パネル操作時に所要の駆動信号を提供する駆動集積回路と、複数の導線のうち１本及び駆動集積回路とそれぞれ電気的に接続する複数の接続導線とを含む。そのうち複数の接続導線は第一接続導線を有し、第一接続導線の第一区間と第二区間の厚さは実質的に異なる。 （もっと読む）

【課題】標的となる領域に液滴を塗布することができ、かつ、配線抵抗の増加を極力抑制することができるパターン形成基板を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成基板１ｂは、液滴が吐出されることによって、所定のパターンが形成されるものであり、上記液滴が接触したときの接触角が第１接触角である第１領域２と、上記液滴が接触したときの接触角が第２接触角であって、上記第１領域２に囲まれた第２領域３と、上記液滴が接触したときの接触角が第３接触角であって、第２領域３に囲まれた第３領域６とを有し、第２接触角は第１接触角および第３接触角よりも小さく、第３領域６と、第２領域３における液滴が吐出される塗布領域４と、液滴が吐出されない非塗布領域５とは互いに隣接するように形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ボトムゲート型の薄膜トランジスタにおいて、ソース電極とドレイン電極間に生じる恐れのある電界集中を緩和し、スイッチング特性の劣化を抑える構造及びその作製方法を提供する。
【解決手段】ソース電極及びドレイン電極上に酸化物半導体層を有するボトムゲート型の薄膜トランジスタとし、酸化物半導体層と接するソース電極の側面の角度θ１及びドレイン電極の側面の角度θ２を２０°以上９０°未満とすることで、ソース電極及びドレイン電極の側面における電極上端から電極下端までの距離を大きくする。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス基板における配線と電極端子との接続部において、電極端子に欠陥が生じた場合でも、配線に含まれる金属が腐食することがない構成を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板は、接続部１６を備えたアクティブマトリクス基板であって、上記接続部１６は、第１の金属層１ｂと、上記第１の金属層１ｂの上に、上記第１の金属層１ｂの幅より狭く積層された第２の金属層１ａと、上記第２の金属層１ａの上に、上記第２の金属層１ａを完全に覆い、かつ上記第１の金属層１ｂの幅より狭く積層された保護部２と、上記保護部２の上に、上記保護部２を完全に覆い、かつ上記第１の金属層１ｂに接触するように積層された電極端子３とを備えているので、電極端子３に欠陥部４が生じた場合でも、配線に含まれる金属が腐食することがない。 （もっと読む）