【課題】バリア・フィルム複合体、これを含む表示装置、バリア・フィルム複合体の製造方法、及びこれを含む表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】波状の表面を具備したフィルムと、フィルムの一面に位置し、波状にそれぞれ少なくとも１層以上積層されたデカップリング層及びバリア層と、を含むバリア・フィルム複合体である。 （もっと読む）

【課題】物体や基板とバリア・フィルム複合体との間に生じた空隙（欠陥）を、バリア・フィルム複合体の持つ特性によって、バリア・フィルム複合体の平らな外表面を維持したまま、埋め込む（除く、除去する）ことのできる、バリア・フィルム複合体、これを含む表示装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】物体と接触する一面は、物体の表面形状に整合された表面を有し、他面は、平らに形成された熱収縮層と、熱収縮層より薄く、熱収縮層の他面に平らに形成されたバリア層と、を含むバリア・フィルム複合体である。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、例えば基板上の積層構造における最上層側の段差を低減し、高品位な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、基板上の画素領域に設けられ、所定の形状にパターニングされた透明電極（９）と、透明電極の下地となる絶縁膜（４５）と、この絶縁膜上における画素領域のうち透明電極が形成された透明電極形成領域を除く透明電極非形成領域に設けられ、透明電極の上層側表面と絶縁膜の上層側表面との段差を低減するための段差低減膜（６１０）と、基板上の積層構造における透明電極及び段差低減膜と絶縁膜との間に基板上で平面的に見て絶縁膜に重なるように形成され、透明電極の屈折率と絶縁膜の屈折率との間の屈折率を有するエッチングストッパー膜（７１０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 有機保護膜と無機保護膜との積層からなる封止構造の表示装置の製造方法において、有機保護膜をウェットプロセスで形成する場合、プロセス誤差によって、表示装置の額縁幅を十分に低減することができない。
【解決手段】 表示装置の表示領域の外周に沿って、前記表示領域の外周と交差する方向に、複数の溝が設けられた領域と、前記溝が設けられた領域の外周に溝の設けられていない領域とを設ける。 （もっと読む）

【課題】画像表示素子の配線接続部における温度上昇とそれに伴う接続抵抗の上昇を抑え，安定した配線接続によって配線接続部の信頼性を向上させる画像表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】裏面基板２は隣り合う複数の画素列の間で電極に繋がる電極端子４が露出するように分割されると共に，この分割部分に前面基板１との対向面の裏側（裏面側）にある上部が底部より幅広の形状を有するように二つの加工面２ｂ，２ｃにより構成される溝部３が形成され，信号用金属配線５ａが溝部３の一方の加工面２ｂに沿って溝部３に露出した電極端子４に接続されるように形成されると共に，信号用金属配線５ａが防湿性コート剤７によって覆われた画像表示素子において，裏面基板２の前面基板１との対向面の裏側（裏面側）に放熱用部材５ｂを設けた。 （もっと読む）

【課題】発光のバラツキを抑え表示品質の高い画像表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に２次元的に形成されたトランジスタと、前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極上に開口部を有し、前記トランジスタ上に形成された層間絶縁膜と、前記２次元方向のうち一方の方向に沿って、前記開口部を覆うことなく形成された複数の第２の隔壁と、前記第２の隔壁間に前記開口部を埋込み前記層間絶縁膜上の所定の領域に形成された画素電極と、前記一方の方向に交差または交差する直線上に配列するように、前記画素電極を介し前記開口部上を覆ように形成された複数の第１の隔壁と、を有し、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁により形成される前記画素電極の露出部分における４隅の角はすべて鈍角であること、または、前記画素電極の露出部分は円形状または長円形状となるように形成されていることを特徴とする画像表示装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】容易に製造ができ、開口率の高い３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイは、基板１０１と、基板１０１上にマトリクス状に配置された複数の副画素１２０と、前記副画素１２０が配置された領域を規定するバンク１０５と、を有する。本発明の３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイでは、それぞれの前記副画素１２０が、前記基板１０１上に配置された画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌと、前記バンク１０５によって規定された領域内全面に亘って配置され、前記画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌを覆う有機機能層と、を有し、前記画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌが、互いに対向する前記バンク１０５の間に配置される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の水分による劣化を抑制することを可能とする有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】 絶縁基板の上方に配置された第１スイッチング素子及び第２スイッチング素子と、第１スイッチング素子に到達する第１コンタクトホール及び第２スイッチング素子に到達する第２コンタクトホールが形成された絶縁膜と、絶縁膜の上に配置され第１コンタクトホール内に延在し第１スイッチング素子に接続された第１コンタクト部を有する第１画素電極と、絶縁膜の上において第１画素電極から離間して配置され第２コンタクトホール内に延在し第２スイッチング素子に接続された第２コンタクト部を有する第２画素電極と、第１コンタクト部及び第２コンタクト部をそれぞれカバーするカバー部材と、第１乃至第２画素電極、カバー部材及び第１画素電極と第２画素電極との間の絶縁膜の上に延在した有機層と、有機層の上に配置された対向電極と、を備えた有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】平坦化膜に形成されたコンタクトホールによる窪みの影響を解消することにより、良好な発光層が形成された有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】駆動素子を含むＴＦＴ基板１０と、ＴＦＴ基板１０の上に形成された平坦化膜１１と、平坦化膜１１の上方ならびに平坦化膜１１に設けられたコンタクトホール２３の底部及び側壁に形成され、コンタクトホール２３を介して上記駆動素子と電気的に接続された反射陽極１２と、反射陽極１２の上に形成された有機発光層１６と、有機発光層１６の上に形成された透明陰極１８と、反射陽極１２と有機発光層１６との間に設けられることにより、発光電流が流れない非発光領域を形成する画素規制層１４とを備え、画素規制層１４はコンタクトホール２３の上部に充填され、画素規制層１４の表面は平坦化されている。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、保持特性及び信頼性を向上させることによって、表示画像の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、画素電極（９）と、画素電極の下層側に容量絶縁膜（７２）を介して配置され蓄積容量（７０）を形成すると共に、表面に段差を有する容量電極（７１）と、画素電極より下層側に形成され、当該段差に重なる領域（ａ、ｂ）において表面がテーパ状に形成された絶縁膜（１７）とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置を製造する際に、好適に平坦化処理を行う。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板（１０）に、スイッチング素子（３０）及びスイッチング素子に電気的に接続された配線（１５０）を備えた電気光学装置の製造方法であって、配線を形成する配線形成工程と、配線を覆うように第１の絶縁膜（４３）を形成する第１絶縁膜形成工程と、第１の絶縁膜上に、配線と少なくとも部分的に重なるように、ストッパー膜（２００）を形成するストッパー膜形成工程と、ストッパー膜を覆うように第２の絶縁膜（４４）を形成する第２絶縁膜形成工程と、第２の絶縁膜を研磨することで平坦化する平坦化工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】NMOSプロセスで作成された基板の場合、誤判定または検査に要する測定時間の増大を回避するために、表示領域近傍にダミー画素領域を設けその中に不良ダミー画素を配置することにより、基板毎に自己検査機能回路（BISAT）の検査条件の最適化をし得るアレイ基板の提供を目的とする。
【解決手段】
複数の信号線の一方の端に、検査用基準画素と信号線セレクターと走査線セレクターと、比較信号線と、センスアンプとＥＯＲ比較器と、ＯＲ出力部と、出力ライン部とから構成される自己検査回路（BISAT）を有効に活用するために、表示領域近傍にダミー画素領域を設けて、該自己検査回路の測定条件を定めるために、前記ダミー画素領域に不良画素を設置し、該不良画素を前記自己検査回路（BISAT）で検査し、正常に前記不良画素を不良と判定されることを確認して、基板ごとに最適な測定条件を定める。 （もっと読む）

本発明は、曲面状を有するディスプレイパネルを製造するディスプレイパネル製造方法に関するものである。ディスプレイパネル製造方法は、ガラスで形成されて互いに対向する下部基板及び上部基板と、前記下部基板と前記上部基板との間に形成される液晶層とを含む平面状の液晶パネルを用いて曲面状のディスプレイパネルを製造する方法であって、前記下部基板と前記上部基板の厚さが予め設定された厚さに減少するように前記下部基板と前記上部基板の外側一部を切り出す段階と、前記の切り出された下部基板と上部基板を前記所望の曲面状に曲げた後、外側面に前記所望の曲面状と同一の形態で透明高分子層をそれぞれ形成したり、前記所望の曲面状と同一の形態で予め製造された透明基板をそれぞれ接着する段階とを含む。
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【課題】表示素子の明るさを調整することができる電子ペーパ表示素子を提供する。
【解決手段】電子ペーパ表示素子は、一面にセル３０を区切る凸パターン２０が設けられている下部基板と、セル３０内に配置されているディスプレイユニット４０と、ディスプレイユニット４０を覆い、凸パターン２０の上部に積層されている上部基板とを含み、大きさ、比重、電荷量に差のあるディスプレイユニット４０を用いることにより明るさが調整される。ディスプレイユニット４０は、光学的及び電気的異方性を有する回転体であり、流動性液体中に分散した＋帯電粒子及び−帯電粒子を備える電子ボールによって構成することができる。 （もっと読む）

【課題】１つの画素セルサイズの１辺が０．１ｍｍを下回るリブ隔壁を備えるフラットパネルディスプレイ用の背面ガラス基板を精度良く製造する方法を提供する。
【解決手段】フリットガラスをリブ付背面ガラス基板のリブ隔壁パターン形状を転写した形状を備える金属型枠を用いて成形し、成型フリットガラスを常圧焼成／減圧焼成／常圧焼成の順番で少なくとも１回の減圧焼成を実施してリブ付背面ガラス基板形状物とし、リブ付背面ガラス基板形状物を常圧下で調質処理してリブ付背面ガラス基板を製造する方法を採用する。焼成と調質処理とは、非酸化性ガス置換雰囲気であれば、金属型枠にフリットガラスを充填したまま実施することもできる。 （もっと読む）

イオン交換性でありかつ少なくとも１つの粗面化表面を有するガラス物品。粗面化表面は、２０°の入射角で測定したときに９０未満の反射画像鮮明度ＤＯＩを有する。そのようなガラス物品を含むピクセル型ディスプレイシステムも提供する。 （もっと読む）

【課題】簡単なプロセスを以って、コントラストと明るさを向上させることができる電気光学装置及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板上に第１導電膜９ｂをパターニング形成する工程と、基板及び第１導電膜９ｂ上に絶縁膜８ｂを形成する工程と、絶縁膜８ｂを平坦化処理して、絶縁膜８ｂから第１導電膜９ｂの上面を露出させる工程と、絶縁膜８ｂ上であって、平面視で第１導電膜９ｂの上面と重なり、第１導電膜９ｂと電気的に接続するように第２導電膜９を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】狭額縁化を実現し、タイリング方式に好適な電気光学装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル１８を構成する２枚のガラス基板の厚さは、周縁部にマイクロクラックが発生していない状態で、それぞれ５０μｍ以下に設定されていることから、当該パネルを略直角に折り曲げることが可能となっている。そして、表示パネル１８は、表示領域Ｖの背面が支持枠５０の表面に支持された状態で、各辺の額縁領域Ｆが表示領域Ｖの周縁部近傍から支持枠５０側に折り曲げられ、支持枠５０の側面に固定されている。つまり、額縁領域Ｆが支持枠５０側に折り曲げられているため、当該額縁領域の平面的な長さが短くなる。さらに、４辺における額縁領域Ｆを全て折り曲げる構成としているため、タイリング方式に好適である。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、電気光学層に対する防湿性を高め、高品位な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、互いに対向するように配置された第１基板（１０）及び第２基板（５０）と、第１及び第２基板間に設けられた電気光学層（２３）と、第１基板上に設けられた画素電極（９）と、第１基板上に設けられ、画素電極に電気的に接続されると共に無機絶縁膜（４１、２）を含んでなるトランジスタ（３０）と、第１及び第２基板間に設けられ、第１及び第２基板を相互に貼り合わせるシール材（５００）とを備える。シール材は、第１基板における第２基板と対向する面に電気光学層が設けられた領域を囲むように形成された凹部（２００）に重なるように設けられており、凹部は、少なくとも無機絶縁膜が部分的に除去されることにより形成されている。 （もっと読む）

【課題】高感度のフォトセンサを有し、カラーでの撮像機能を有する安価なタッチパネル及びその作製方法を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】向かい合う第１基板及び第２基板と、第２基板側に配置されたバックライトとを有し、第１基板と第２基板の間に液晶素子と、トランジスタと、フォトダイオードとを有し、トランジスタ及びフォトダイオードは第１基板上に形成されており、第１基板及び第２基板は透光性を有し、第１基板の膜厚は１０μｍ乃至２００μｍ、好ましくは２０μｍ乃至４０μｍであるタッチパネル。トランジスタ及びフォトダイオードは、支持基板上に形成された後、剥離されて第１基板に接着されている。 （もっと読む）