【課題】スパッタリング時にパーティクル発生が少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】原子％でＧｅ：２０．２〜２４．２％、Ｓｂ：２０．２〜２４．２％含有し、残部がＴｅおよび不可避不純物からなる組成を有する相変化膜形成用スパッタリングターゲットであって、その曲げ強度が１１０ＭＰａ以上あるパーティクル発生の少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法であって、このターゲットは合金インゴットを粉砕することにより得れられた合金粉砕粉末を不活性ガスのプラズマ中に曝して合金粉末の表面を活性化し、この表面を活性化した合金粉末を使用して加圧焼結することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】国や地域毎に変調方式が異なる場合にも、各国または地域において所望のコンテンツを円滑に再生できる光ディスクおよび光ディスク装置を提供する。
【解決手段】ディスク１０は、積層方向に複数の記録層（レイヤー０〜３）を有している。各レイヤーは、それぞれ、ＢＣＡ１２ａ〜１２ｄと、リードイン領域１３と、データ領域１４とに区分されている。レイヤー０、１のリードイン領域１３とデータ領域１４には、ＥＴＭにて変調されて対応する情報が記録され、レイヤー２、３のリードイン領域１３とデータ領域１４には、ＦＳＭにて変調されて対応する情報が記録されている。レイヤー０〜４のＢＣＡには、共通の変調方式にて変調されてＢＣＡ情報が保持されている。ＢＣＡ情報には、各レイヤーのリードイン情報とユーザデータがどの変調方式にて変調されているかを示すレイヤー変調情報が保持されている。 （もっと読む）

【課題】反射率（初期反射率）が高く、高Ｃ／Ｎ比を有し、さらには低ジッター値を有するレーザー光の照射によって記録マークが形成される孔開け方式による記録層を備えた光情報記録媒体を提供すること
【解決手段】レーザー光の照射によって記録マークが形成される孔開け方式による記録層を備えてなる光情報記録媒体であって、該記録層は、ＣｏとＮｉを含有し、Ｃｏ及びＮｉを合計で２０〜６５原子％含有するＩn合金からなることを特徴とする光情報記録媒体、及び光情報記録媒体の孔開け方式による記録層形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】反射率（初期反射率）が高く、高Ｃ／Ｎ比を有し、さらには低ジッター値を有するレーザー光の照射によって記録マークが形成される孔開け方式による記録層を備えた光情報記録媒体を提供すること。
【解決手段】レーザー光の照射によって記録マークが形成される孔開け方式による記録層を備えてなる光情報記録媒体であって、該記録層は、Ｎｉを２０〜６５原子％含有し、さらにＳｎ、Ｂｉ、Ｇｅ、Ｓｉから選ばれる１種以上の元素を１９原子％以下（０原子％を含まない）含有するＩｎ合金からなることを特徴とする光情報録媒体、及び上記Ｉｎ合金からなる光情報記録媒体の孔開け方式による記録層形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】所望のアスペクト比と粒子サイズを有し、吸収波長以外の光散乱を抑制できる金ナノロッドを効率良く得る製造方法と、該ロッドを用いた機能性光学材料を提供する。
【解決手段】４級アンモニウム塩（例えば、ＣＴＡＢ）を含む水相と油相（例えば、シクロヘキサノンとジイソブチルケトンとを添加）からなるミセル溶液中で銀イオンと共存する金イオンを、還元剤（例えば、アスコルビン酸水溶液）を用いた還元により前記金イオンの色が失われるまで所定量の還元剤をミセル溶液中に滴下後、還元剤を用いない還元（例えば、光還元）を行いながら、さらに前記還元剤を追加投入して金ナノロッドを成長させる。得られた金ナノロッドを用いて機能性光学材料、例えば、三次元記録媒体を構成する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング時にパーティクル発生が少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】原子％でＧｅ：１５．０〜３０．０％、Ｓｂ：５．０〜３０％を含有し、さらにＦｅ：１〜２０ｐｐｍを含有し、残部がＴｅおよび不可避不純物からなる組成を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】記録層と接する界面層に結晶化能を促進する材料を提供し、高線速度での書換えと高信号信頼性を両立した情報記録媒体を提供する。
【解決手段】酸化物Ｄ１（但し、Ｄ１はＺｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｔｉ、ＣｒおよびＳｉより選ばれる少なくとも一つの元素を有する酸化物）および酸化物Ｄ２（但し、Ｄ２はＳｂ、Ｓｎ、ＴｅおよびＢｉより選ばれる少なくとも一つの元素を有する酸化物）を含む酸化物誘電体層を第２界面層１４および第１界面層１６として備えることを特徴とする情報記録媒体。 （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下での耐久性に優れた光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】金属系記録層と、金属系記録層に隣接する誘電体層とを基板の上に有する光情報記録媒体をスパッタリング法により製造する方法であって、
Ｉｎ基合金からなる記録層を用意する工程と、
誘電体層の組成に応じて下記条件で誘電体層を成膜する工程、を包含する。
（１）誘電体層がＡｌの酸化物を主成分として含むときは、スパッタ電力：３Ｗ／ｃｍ^２以下、誘電体層の厚さ：５〜７０ｎｍに制御。
（２）誘電体層がＳｉの酸化物を主成分として含むときは、スパッタ電力：３Ｗ／ｃｍ^２以下、誘電体層の厚さ：４〜８ｎｍまたは３０〜７０ｎｍに制御。
（３）誘電体層がＮｂの酸化物を主成分として含むときは、スパッタ電力：２Ｗ／ｃｍ^２以上、誘電体層の厚さ：１０〜１５ｎｍに制御。
（４）誘電体層がＺｎの硫化物を主成分とし、Ｓｉの酸化物を更に含むときは、スパッタ電力：３Ｗ／ｃｍ^２以下、誘電体層の厚さ：２〜１５ｎｍに制御。 （もっと読む）

【課題】信号品質が十分に高い上に、更に良好な記録特性を得ることができる光情報記録媒体用記録層、および光情報記録媒体、ならびに光情報記録媒体の記録層形成用スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】レーザー光の照射によって記録マークが形成される記録層であって、その記録層は、Ｃｏ、Ｎｉから選ばれる１種類以上の元素を２０〜５０原子％含有し、更にＮｂを５〜２０原子％、またはＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｙｂから選ばれる１種類以上の元素を１〜１０原子％含有するＩｎ合金からなる。 （もっと読む）

【課題】ターゲット割れの発生を抑制することができるスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】金属間化合物域の鋳塊を粉砕して得たＩｎを主成分とする主粉末と、前記主粉末とは異なる成分組成の副粉末を混合、焼結して所定の成分組成となるようにして製造されるスパッタリングターゲットであり、その含有成分中の不可避的不純物であるＳｉ、Ａｌ、Ｆｅの合計含有量が、３００質量ｐｐｍ以下であることを特徴とする。また、金属間化合物はＩｎと、ＣｏとＮｉから選ばれる１種以上を含む。 （もっと読む）

【課題】３層以上の情報記録層を持つ多層光記録媒体においても、情報記録層の膜厚や材料、スペーサー層の厚みムラ等の影響を明確に判断・評価することが可能にする。
【解決手段】３層以上の情報記録層を持つ多層光記録媒体に対してレーザー光を照射し、レーザー光の反射光から得られる第１信号を周波数フィルタに通し、ハイパスフィルタを経て得られる第２信号を用いて多層光記録媒体の特性を評価する。 （もっと読む）

【課題】 情報記録時に再結晶化リングが発生しにくく、かつ良好な高速記録消去が可能な情報記録媒体を得る。
【解決手段】 基板と、基板上に形成された相変化記録層と、相変化記録層上に形成された反射層とを有する情報記録媒体であって、相変化記録層は、テルルとアンチモン、またはテルルとビスマスを主成分として含有し、その結晶化速度が２ないし１０ナノ秒であり、２００ピコ秒ないし１ナノ秒の半値幅を有する光パルスの照射により、その結晶状態を変化させて記録マークを形成する。 （もっと読む）

【課題】追記可能な複数の情報記録層を備えた多層光記録媒体のコスト低減が図れる製造方法とそれにより製造されるコスト安価で信号品質に優れた多層光記録媒を提供する。
【解決手段】情報記録層が形成された基板と、案内溝が形成されたスタンパとの間に、紫外線の照射波長域に吸収係数を持つ光重合開始剤を含有する紫外線硬化樹脂を塗布・充填する工程と、該樹脂を基板側から紫外線を入射させて硬化させる工程と、該硬化された樹脂からスタンパを離型して中間層を形成する工程と、該中間層上に別の情報記録層を積層する工程と、該別の情報記録層上にカバー層を積層する工程とを含む製造方法により、基板上に追記可能な複数の情報記録層を備え、該基板と対向配設されるカバー層側からの光照射によって記録および／または再生を行う多層光記録媒体を作製する。 （もっと読む）

【課題】プロセス安定性を確保しながら、高密度記録においても記録特性の優れた相変化記録層を有する光記録媒体の提供。
【解決手段】（１）相変化記録層が、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｍｎ及びＸ（Ｘ：Ｃａ、Ｂ）を含む光記録媒体。（２）Ｘが、相変化記録層中に２〜９原子％含まれている（１）に記載の光記録媒体。（３）基板上に、光照射側から、第一保護層、前記相変化記録層、第二保護層、及び反射層がこの順に積層されており、第二保護層が、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２の何れかを主成分とする材料からなる（１）又は（２）に記載の光記録媒体。 （もっと読む）

【課題】記録速度を向上する。
【解決手段】情報の記録時に集光される記録光としての記録光ビームに対する光反応の一態様である２光子吸収反応によって当該２光子吸収材料を気化させることにより空洞でなる記録マークを形成する。また記録層は、情報の再生時に所定の読出光として照射された読出光ビームが記録マークの有無に応じて変調されてなる戻り光ビームを基に当該情報を再生させる。そして記録層は、金属微粒子ＭＮに２光子吸収材料を配位させた２光子吸収パーティクルが記録層を構成するバインダー樹脂に分散されてなることにより、バインダー樹脂中に分散された金属微粒子ＭＮの近傍に気化材料として２光子吸収特性を有する２光子吸収材料が配置されている。 （もっと読む）

【課題】多層ディスクにおいて、記録前後のプッシュプル変化が大きく、トラッキングが不安定となる。
【解決手段】支持基板の一方の主面に形成された第一のグルーブと、第一のグルーブが形成された支持基板の一方の主面上に形成され、少なくとも第一の記録層を含む第一の光学的機能層と、少なくとも第一の光学的機能層上に形成された光透過層と、光透過層の第一の光学的機能層とは反対側の面に上に形成された第二のグルーブと、第二のグルーブが形成された光透過層上に形成され、少なくとも第二の記録層を含む第二の光学的機能層とを備えた多層型光記録ディスクにおいて、第一のグルーブ幅が第二のグルーブ幅よりも狭く、且つ第一のグルーブ深さが、第二のグルーブ深さより浅くすることによって、記録前後のＰＰｎｏｒｍａｌの比が小さく、層の違いによるトラッキング信号の差が少ない、トラッキング性能が安定した多層型光記録ディスクが実現できる。 （もっと読む）

【課題】高転送レートおよび１００ＧＢ以上の大容量な記録条件でも、記録特性、消去特性、記録マーク保存性、密着性を同時に満足する情報記録媒体を提供する。
【解決手段】光の照射または電気的エネルギーの印加によって情報を記録し得る情報記録媒体１００が、相変化を生じ得る記録層１１５を少なくとも備え、記録層１１５が、アンチモン（Ｓｂ）と、ケイ素（Ｓｉ）とを含み、好ましくは、Ｓｂ_{１００−ｘ}Ｓｉ_ｘ（式中、ｘは、原子％で表される組成比を示し、ｘ≦５０を満たす）材料を含み、記録層１１５と接する界面層１１４および１１６の少なくとも一つが、Ｉｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｓ−Ｓｉ−Ｏ、Ｇａ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｚｎ−Ｓ、Ｓｉ−Ｎ、Ｎｂ−Ｏ、Ｔｉ−Ｏ、Ｃｅ−Ｆ、Ｂ−Ｎ、Ｍｇ−Ｏ、Ｃｒ−ＯおよびＡｌ−Ｎより選ばれる少なくとも一つの組み合わせを含む界面層Ａである。 （もっと読む）

【課題】波長約３８０〜４５０ｎｍの青紫色レーザ光の照射によって記録マークが形成される穴開け記録方式の光情報記録媒体であって、安定したトラッキング制御が可能な光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】光情報記録媒体は、案内溝付き基板と、レーザ光の照射によって記録マークが形成される金属系記録層とを有している。記録再生用レーザ光の波長をλ、基板上に形成されたグルーブの深さをＤ_Gおよびその幅をＷ_G、並びに基板上に形成されたランドの幅をＷ_Lとした場合に、下記式（１）および（２）の要件を満たしている。λ／１８≦Ｄ_G≦λ／１１・・・（１）１．５≦Ｗ_G／Ｗ_L≦３．５・・・（２）（λは３８０〜４５０ｎｍ） （もっと読む）

【課題】記録レーザパワーが約６〜７ｍＷと低くても、高い信号変調度と高いＣ／Ｎ比を有しており、耐久性にも優れた光情報記録媒体用記録層、および当該記録層を備えた光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の光情報記録媒体用記録層は、レーザ光の照射によって記録マークが形成される記録層であって、前記記録層は、Ｎｉ及び／又はＣｏを１〜５０原子％含むＩｎ−Ｎｉ合金及び／又はＩｎ−Ｃｏ合金に窒素を含有するＩｎ基合金からなるものである。上記Ｉｎ−Ｎｉ合金は窒素原子を５〜１４原子％の範囲で含有することが好ましく、上記Ｉｎ−Ｃｏ合金は窒素原子を５〜２０原子％の範囲で含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】紫外領域に光の吸収のピーク波長がある新規な金属粒子を提供する。
【解決手段】１０ｎｍ程度の粒径の球形金粒子の表面に金を析出させることにより、栗のイガ状の複数の突起を有した新規な金粒子を形成した。金粒子の径は１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下である。この粒子は紫外領域に光の吸収のピーク波長を有している。 （もっと読む）