【課題】安定的に薄膜をパターニングするためのマスクの作成方法を提供する。
【解決手段】本発明は、薄膜をパターニングするためのマスクの作成方法に関する。この方法は、基板の上にアルカリ溶液に可溶な無機材料を成膜するステップＳ１と、無機材料を所定のパターンに形成するステップＳ２と、無機材料をアルカリ溶液によって狭小化してマスクを形成するステップＳ３と、を含む。 （もっと読む）

【課題】薄膜磁気抵抗効果膜等の薄膜について、その膜面に垂直方向の抵抗を高精度に計測することを可能にする薄膜の抵抗測定方法及びこれを用いた磁気抵抗効果膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上にアモルファス層２５と、第１の導体層１３と、抵抗を測定する対象である薄膜３２と、第２の導体層２０とをこの順に積層して形成した抵抗測定用のサンプルを形成する工程と、前記サンプルの、前記基板１１上の最上層２１の表面に、抵抗測定用のプローブ１０ａ〜１０ｄを接触させ、前記薄膜の膜面に垂直方向の抵抗を測定する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハ段階においてリード素子の特性を的確に試験することを可能とし、とくに加熱下、冷却下におけるリード素子の特性を的確に試験することを可能にする磁気ヘッドの特性試験方法を提供する。
【解決手段】完成品と同一の寸法に形成された試験用のリード素子２２と、製品用のリード素子と、前記試験用のリード素子の近傍に配された伝熱部５０とを備えるウエハを被試験体とし、前記被試験体に対し、試験用の磁界を外部から作用させ、前記伝熱部５０に伝熱部材４０を接触させ、伝熱部５０を介して前記試験用のリード素子２２を加熱あるいは冷却することにより、加熱下あるいは冷却下における前記試験用のリード素子２２の電磁変換特性を試験する。 （もっと読む）

【課題】複数の電子部品を平面状に載置することができる搬送ケースであって、一の搬送ケースを他の搬送ケースに対して水平方向に相対移動不能な状態で上下に積層することができ、且つ、前記一の搬送ケースの前記他の搬送ケースからの取り外し作業を極めて容易に行うことができる搬送ケースを提供する。
【解決手段】搬送ケース１の周縁部３は、板状内壁３１、板状上壁３２及び板状外壁３３によって画される領域が空間Ｐとされ、板状外壁３３は、下方へ行くに従って載置部２から離間するように傾斜され、板状内壁３１は、下方へ行くに従って載置部２に近接するように傾斜される。周縁部３は、載置部２を挟んで対向する領域に、垂直方向に延びる板状縦壁４１と水平方向に延びる板状横壁４２とによって画される上方へ開く凹部４を有する。載置部２及び板状横壁４２は、上下方向に関し板状外壁３３の上端部及び下端部の間に位置している。 （もっと読む）

【課題】磁気媒体の作成において、良質の磁気媒体を作製できるようにする。
【解決手段】基板８の外側周囲を回転する磁界発生手段７を備えたマグネトロンスパッタリングのためのチャンバー１内に、基板８と第１及び第２ターゲット２１，２１とを、前記基板８の中心軸と前記第１及び第２ターゲット２１，２１の中心軸とが交差するように配置し、前記チャンバー１内を排気し、前記チャンバー１内にガスを導入し、前記排気及びガス導入された雰囲気下で、前記基板８を回転させ、前記磁界発生手段７を前記基板８の外周の周りにおいて回転させながら、マグネトロンスパッタリング法により前記基板８の上に磁性膜及び異種材料膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 帯電量評価素子、その変形方法、及び、帯電量評価方法に関し、高い感度を持つ過大電流を検出する検出素子を安定して製造するとともに、検査工程を大幅に短縮する。
【解決手段】 基板１上に一対の電極３，４と、一対の電極３，４間を接続する導電体５と、導電体５上に設けた少なくとも一部が形状記憶効果を持つ材料からなる形状変化部材６とを備えた帯電量評価要素を設ける。 （もっと読む）

【課題】十分な耐電防止性を確保しつつ、コンタミネーションの発生を大幅に低減し得る電子部品用トレイを提供する。
【解決手段】磁気ヘッドアセンブリ２を搬送するための電子部品用トレイ１であって、直径が１５μｍ以下で、かつ繊維長と直径の比が１００以上１２０００以下の範囲内であるステンレス繊維を含有するポリカーボネート樹脂で成形されている。磁気ヘッドアセンブリ２は、電子部品用トレイ１に複数形成されたヘッド載置部２３に載置される。 （もっと読む）

【課題】ターゲット間のクロスコンタミネーションを防止する。
【解決手段】シャッタ機構は、下記（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす様に動作するスパッタ装置。
（ａ）第１シャッタ板６１の第１孔６１ａと第２シャッタ板６２の第３孔６２ａとの重ね合わせ部が第１ターゲット３８下に位置する。
（ｂ）第１シャッタ板６１の第２孔６１ｂが第２ターゲット３５下に位置し、第２シャッタ板６２が第２ターゲット３５を覆う。
（ｃ）第１シャッタ板６１と第２シャッタ板６２とが第３ターゲット（３６，３７）を覆う。 （もっと読む）

【課題】磁性膜の作成において、良質の磁性膜を成膜できるようにする。
【解決手段】スパッタチャンバー１内に基板８を配置し、マグネトロンスパッタリングにより基板８の表面に磁性膜を作成するマグネトロンスパッタリング装置であって、磁性材のターゲット２１を保持するためのカソード２を、該ターゲット２１の中心軸と前記基板８の中心軸とが角度θで交差するように設置し、前記基板８の直径ｄと該ターゲット２１の直径Ｄとをｄ≧Ｄの関係を持つように設置すると共に、前記基板８を回転するための回転機構３３及び前記カソード２の背後に位置するカソードマグネット２２を有するマグネトロンスパッタリング装置とする。 （もっと読む）

【課題】製造された薄膜磁気ヘッドのスメアを除去することができるスメアの除去方法が提供される。
【解決手段】このスメアの除去方法は、感磁部であるＭＲ効果積層体を間に挟む２つの電極層を有するデータ読み出し用のＭＲ効果素子を備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、この２つの電極層間に、ＭＲ効果素子の破壊電圧未満のストレス電圧を印加して、スメアを焼き切るものである。この方法においては、ＭＲ効果素子の電気抵抗又は出力電圧を測定しながらストレス電圧を印加し、この電気抵抗又は出力電圧の値が、スメアの存在しない正常な場合の電気抵抗又は出力電圧の値から規定される上限規定値に増大しながら達するまで、ストレス電圧の値を増加させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】静電破壊やコンタミネーション等のバーへの影響を抑え、リードタイムを短縮し、プローブと電極パッドとの位置あわせを容易におこなう。
【解決手段】プローブ組立体１０は、弾性曲げ変形が可能なプローブ１１と、プローブの先端部に第一の曲げ変位Ｄ１が生じるようにプローブ１１に曲げ変形を与え、かつ、先端部が第一の曲げ変位Ｄ１より小さい曲げ変位となることを阻止しながら、先端部を第一の曲げ変位Ｄ１に保持するストッパ２１と、を有している。プローブ１１の先端部が第一の曲げ変位Ｄ１と同じ方向に第一の曲げ変位Ｄ１より大きい第二の曲げ変位を受けることによって、バーの研磨面４３以外の面に設けられた電極パッド４２と当接し、プローブ１１と電極パッド４２との電気接続が確立されるようにされている。 （もっと読む）

【課題】 放電モニタ要素を複数個配設したウェハ上に、部分的に厚さの異なる絶縁膜を堆積し、反応時刻を制限する放電モニタを提供する。
【解決手段】
本発明は、少なくとも２つ以上の電荷収集電極と両者をつなぐ低融点金属配線、および低融点金属配線を保護する第一の絶縁保護層から構成される放電モニタ要素が、複数並列に配置された放電モニタ基板において、放電モニタ要素を保護する第二の絶縁保護層を配置したことを特徴とする放電モニタに関する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク装置の高記録密度化に対応してヘッド素子のサイズが狭小化している。素子寸法の微細化に伴い研磨加工が磁気抵抗効果素子に与える加工ダメージを如何に小さくするかが極めて重要な課題となっている。
【解決手段】ワーク保持治具６３に磁界発生機構６３２を装着し、ローバー５０を接着材により磁界発生機構６３２に貼り付けて、ＧＭＲ素子１２のピンド層２４の磁気モーメントを補強する。磁界発生機構６３２の磁界発生方向は、ピンド層２４の磁化方向２６ｂと一致している。次にローバー５０の、後で浮上面となる面を、表面が所定の形状の研磨定盤６４に所定の力で押しつけ、研磨定盤６４を回転させると同時に、ワーク保持治具６３を揺動機構部６１により定盤の半径方向に揺動させ、所定の加工量を研磨して除去する。 （もっと読む）

【課題】同心円や水玉模様などの部分的な凹部を研磨層に形成した場合は、液体潤滑剤の排出性が悪く研磨屑が研磨面に滞留してしまう。また放射線状や渦巻き状では、研磨層の凹部の線方向が被研磨物と平行に近く作用し、被研磨物へのダメージが強くなる。結果として被研磨面へのスクラッチや研磨レートの低下、さらに研磨シートの耐久性の低下などの問題が生じてくる。
【解決手段】基体シートの少なくとも一方の面に、凸部からなる研磨層パターン１５を形成した研磨シートであって、該研磨層パターンが基材シートの中心点の回りを、その中心点から絶えず遠ざかる方向に向かって螺線状に２回以上回転する一本の平面曲線パターンとして形成したことを特徴とする研磨シート。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドに電磁波を作用させることによって、磁気ヘッドの特性をさらに精度よく試験することができ、磁気ヘッドの品質向上を図ることができる磁気ヘッドの試験装置および試験方法を提供する。
【解決手段】 ＭＲ素子を備える磁気ヘッドが形成された被試験体１０に磁界を作用させる磁界発生手段２０と、該磁界発生手段による磁界の強度を増減させた際に、前記被試験体に形成されている磁気ヘッドの前記MR素子の抵抗値の変化を測定する抵抗値検出手段３０を備えた磁気ヘッドの試験装置において、前記被試験体１０に電磁波を作用させ、電磁波が作用する環境下で前記被試験体の特性を検知するための電磁波発生手段４０を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ピンローテーション修正方法及び同修正装置の提供。
【解決手段】 磁気ヘッドスライダ１００の浮上面に露出し、磁化方向が規制された固定層を含むＭＲ素子１０１のピンローテーションを修正するピンローテーション修正方法であって、ＭＲ素子１０１に前記磁化方向の直流強磁界３０を印可した状態において、前記ＭＲ素子１０１にレーザ光２０によるレーザスポットを照射し、このレーザスポットの照射エネルギによりＭＲ素子１０１のみを２００〜２５０度に加熱することにより、ＭＲ素子の飛び出しを招くことなくピンローテーションを修正するもの。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、磁気ディスクの磁気ヘッド素子の製造過程において発生する、磁気ヘッド素子の損傷の原因である帯電の発生を検出するための帯電量評価素子の構造に関するものである。
【解決手段】 表面に絶縁膜を有する導体または半導体による基板の絶縁膜上に、導体による２つの電極パッドと、電極パッドの片方と基板とを導通させる構造と、電極パッド間を接続するヒューズ配線とを形成し、帯電量評価素子とする。
前記の電極パッド間にヒューズ配線に代えてギャップ構造を設ける。さらに、ギャップ構造の下に半導体などによる高抵抗膜を配置する。 （もっと読む）

【課題】 正確なＭＲＨに確実に調整することができ、また、ＭＲＨ及びＴＨ又はＮＨの両方を正確にかつ確実に調整可能な薄膜磁気ヘッドの研磨方法及び装置、並びに薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の磁気ヘッド素子が少なくとも１列に配列されているバー部材の研磨面とは反対側の面を研磨用治具に固着し、バー部材の長手方向に沿った互いに異なる複数の位置において、バー部材の研磨面と垂直な方向の第１の荷重及びこの第１の荷重とは反対方向の第２の荷重を研磨用治具にそれぞれ印加した状態でバー部材の研磨面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】複合材料である磁気ヘッドや光コネクタフェルールをはじめとする電子デバイス全般の製造方法において、研磨部位に発生する加工段差や表面粗さを低減し、加工によるダメージの少ない研磨方法の提供。
【解決手段】複合材からなる研磨部分を有する電子デバイスに研磨加工を施して前記電子デバイスを製造方法において、弾性を有する支持盤３１の表面に、硬度６０〜１００Ｇｐａの局所的に微結晶化したダイヤモンドの突起部からなるダイヤモンド切刃３２１の群を有する厚さが１０〜３０００ｎｍ範囲内のＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）薄膜３２をコーティングした研磨工具３０を用いて、該研磨工具の前記ダイヤモンド切刃の群を前記デバイスの前記研磨部分に接触させて摺動させることにより前記研磨部分に対して前記研磨加工を施す。 （もっと読む）

【課題】 薄膜デバイスの高品質製造に寄与することが可能なフォトマスクを提供する。
【解決手段】 露光用の光を位相Ｐ１（＝０°）を有する光として透過させる主透過領域３０Ａ１と、フレーム部３０Ｆを挟んで主透過領域３０Ａ１と対向配置され、露光用の光を位相Ｐ１に対して反転した位相２（＝１８０°）を有する光として透過させる主透過領域３０Ａ２と、フレーム部３０Ｇを隔てて主透過領域３０Ａ１の周囲を囲むように配置され、露光用の光を位相Ｐ２を有する光として透過させる補助透過領域３０Ａ３と、フレーム部３０Ｇを隔てて主透過領域３０Ａ２の周囲を囲むように配置され、露光用の光を位相Ｐ１を有する光として透過させる補助透過領域３０Ａ４とを含むように、フォトマスク３０の透過領域３０Ａを構成する。 （もっと読む）