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Fターム[5D112AA03]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の構造、形状、物性 (7,034) | 磁気記録媒体の層 (3,714) | 基体と記録層間の層(アンダコート) (388)

Fターム[5D112AA03]に分類される特許

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【課題】記録層の凹凸パターンの凹部深さを非破壊で迅速に確認可能である磁気記録媒体及び被検査体を切断することなく記録層の凹凸パターンの凹部深さを迅速に確認できる凹凸パターンの凹部深さ検査方法を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、基板12と、基板12の上に形成された軟磁性層14と、軟磁性層14の上に形成され、且つ、所定の凹凸パターンで多数の記録要素16Aに分割された記録層16と、厚さ方向の核形成磁界の大きさが記録層16の厚さ方向の核形成磁界の大きさと異なり記録層16及び軟磁性層14の間に形成された中間磁性層18と、を含み、凹凸パターンの凹部20の底面20Aが中間磁性層18の領域に位置している。磁気カー効果特性の測定結果に基づいて記録層16の凹凸パターンの凹部20の底面20Aの位置を判別する。 (もっと読む)


【課題】アモルファス磁性膜からなる記録層を含む磁気記録媒体において、該アモルファス磁性膜に微細な安定磁区を形成する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成されたグラニュラー層と、該グラニュラー層上に形成されたアモルファス磁性膜からなる記録層と、を少なくとも有する磁気記録媒体であって、該グラニュラー層は、Fe、Co、Niのうち少なくとも1種類の元素とPt、Pdのうち少なくとも1種類の元素を主成分とする複数の柱状磁性体と、該柱状磁性体を取り囲むSiO、Al、MgOのうち少なくとも1種類の酸化物を主成分とする非磁性体マトリックス領域と、を含み、及び、該柱状磁性体の平均直径は、2nm以上6nm以下の範囲内であり、かつ前記柱状磁性体の平均周期は、4nm以上8nm以下の範囲であることを特徴とする。 (もっと読む)


真空処理プロセスにおけるガス圧−上昇パターンを制御するための装置において、ガス入口(1)は、マスフローコントローラーMFC(2)と動作可能に接続され、前記MFC(2)も第1の弁(5)を介して真空チャンバ(3)、および並列に第2の弁(6)を介してベント−ライン(4)と動作可能なように接続される。前記ベント−ライン(4)との接続は、前記ベント−ライン(4)のポンプ断面を変化させるための手段をさらに備える。別の実施形態において、真空処理プロセスにおけるガス圧−上昇パターンを制御するための装置は、弁(11)を介して真空チャンバ(3)と動作可能に接続されたガス入口(13)を備え、ガス入口(13)と弁(11)との接続は、ダイアフラム(12)をさらに備える。
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【課題】記録要素が凹凸パターンの凸部として形成されて面記録密度が高く、且つ、磁気記録媒体の内側の領域において充分なS/N比のサーボ信号が得られる信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体12は、基板22の上に所定の凹凸パターンで形成された記録層24の凸部として形成された記録要素26を含み、充填材30の上面が記録要素26の上面よりも基板22側に凹み凹部28の上の部分が記録要素26の上の部分よりも基板22側に凹む形態の表面32の段差が記録領域Arの径方向Drの最も内側の部分を含む内側領域Aiに形成され、記録領域Arが、内側領域Aiに隣接する環状の他の領域と、表面32の段差が該他の領域におけるよりも大きい内側領域Aiと、に区分可能であるように表面32の段差が形成されている。 (もっと読む)


【課題】パターン化された磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板及び所定間隔をおいて配列された複数の磁気記録層を備えるパターン化された磁気記録媒体であり、磁気記録層は、Co、Pt及びNiを含む合金で形成されたパターン化された磁気記録媒体。これにより、読み出し及び書き込み特性に優れ、高い耐蝕性及び記録密度を有する。 (もっと読む)


【課題】磁気データ記録粒状層の結晶化度と磁気結晶異方性を高めることにより、垂直磁気記録媒体に要求される熱安定性と雑音特性を達成すること。
【解決手段】磁気記録媒体200の基板202上に、ニッケル(Ni)と、面心立方ニッケル(Ni)相に対する溶解度が室温以上で50原子パーセント以下であり且つ1.5×10-73/kg以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるシード層204を付着し、続いて下地層206、磁気データ記録粒状層208を順次付着する。前記合金化元素は、ホウ素(B)、炭素(C)、マンガン(Mn)、銅(Cu)、イットリウム(Y)、ジルコニウム(Zr)、ロジウム(Rh)、銀(Ag)、カドミウム(Cd)、イッテルビウム(Yb)、ハフニウム(Hf)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、金(Au)、ビスマス(Bi)及びトリウム(Th)から選択される。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】前記基板と、前記基板上に形成され、前記基板に接する下部面の面積と前記下部面に対応する上部面の面積とが異なる複数の磁性体ドットと、前記基板上に形成され、前記磁性体ドットの間で前記磁性体ドットを隔離させる非磁性体領域と、を備えることを特徴とする磁気記録媒体である。基板上に鋳型層を形成する工程と、前記鋳型層をパターニングして、前記鋳型層に下部面の面積と前記下部面に対応する上部面の面積とが異なる空間を形成するパターンを形成する工程と、前記空間に磁性体物質を満たして磁性体ドットを形成する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、情報を磁気的に記録する磁気記録媒体等に関し、低ノイズ性能を維持したまま、記録層と裏打層との間の距離を縮めることにより被ライト性能を向上させる。
【解決手段】 非磁性基体と、非磁性基体の上に形成された裏打層22と、裏打層22の上に形成された下地層23と、下地層23の上に形成された中間層24と、中間層24の上に形成された、垂直磁気異方性を有する記録層とを有し、中間層24が、上層側の層ほど下層側の層に比較して膜厚が厚くかつ高ガス圧で製膜された、2層以上の層241,242からなる。 (もっと読む)


【課題】高密度記録領域における電磁変換特性が良好で、且つ生産性の高い磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体2の上に放射線硬化性樹脂を含む非磁性層10を形成する工程と、非磁性層10の上に磁性粉末と樹脂とを含む磁性層11を形成する工程と、磁性層11に表面加工ロール5を押圧して当接させる工程と、磁性層11に表面加工ロール5を当接させた状態で、非磁性層10及び磁性層11に放射線を照射させて、少なくとも非磁性層10を硬化させる工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高耐食性及び高Bsを有した磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、垂直磁気異方性を示す磁性層を記録層18とする磁気記録媒体10であり、記録層18の下層に形成する軟磁性裏打層(上側軟磁性裏打層13c及び下側軟磁性裏打層13a)の材質がFeCoZr合金にTaまたはNbの少なくとも一つの元素が添加された合金であり、さらにCrが添加された合金である。このような軟磁性裏打層を備えた磁気記録媒体10によれば、高耐食性及び高Bsを有した軟磁性裏打層が形成され、高Hc記録で、且つ高いS/N性能を有する磁気記録媒体が実現できる。 (もっと読む)


【課題】人為的判断が入らず、条件により値が変わるなどの不正確さがなく、かつ磁性塗膜以外も適用可能な層厚さ測定方法及び層の界面平滑度の測定方法を提供する。
【解決手段】元素組成の異なる層を有する構造物における層厚さ測定方法であって、前記構造物の断面を作製する断面作製工程1と、前記断面の断面画像を取得する画像取得工程2と、前記取得した断面画像から画像輝度データを得る画像輝度データ取得工程3とを備えており、前記断面画像の厚さ方向において、前記断面画像の前記画像輝度データの変化率が極値となる位置を前記層の界面位置とし、前記界面位置に基づいて前記層の厚さを求める。 (もっと読む)


【課題】簡易かつ安価な方法により、磁気記録層の結晶配向性および垂直磁気異方性が良好なディスクリート・トラック型垂直磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性基板上に、軟磁性裏打ち層、結晶配向用下地層、および垂直磁気記録層が順次形成されており、上記非磁性基板と上記垂直磁気記録層との間に、低密度の凸部およびそれより高密度の凹部からなる凹凸パターンを有する加工層が設けられ、この加工層の凹凸パターン形状が上記垂直磁気記録層に反映されている。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録媒体の製造において、生産効率を低下させることなく、磁気記録層のピンホールの原因となるパーティクルを捕捉することができ、磁気記録層のピンホールが起因の磁気再生出力低下による不良を低減することができる。
【解決手段】製膜装置の基板搬送ホルダー除膜室14と基板ロード室2の間にパーティクル捕捉電極16を設置する。さらに、基板ロード室2以降でCo合金キャップ層形成室11までの任意の層形成室間に、パーティクル捕捉電極16を設置する。製膜装置内の電荷を帯びたパーティクルを、正または負に電圧印加されたパーティクル捕捉電極16のクーロン力によりに捕捉する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、主に磁気記録媒体における下地膜など電子部品用の薄膜を形成するために用いられるWV系ターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】 原子%で、V:5〜50%、残部Wからなり、原料粉末として平均粒径150μm以下のV粉末と平均粒径10〜50μmのW粉末を使用し、1250〜1400℃で固化成形したことを特徴とするWV系ターゲット材の製造方法。また、上記原料粉末としてのV粉末の平均粒径を20〜150μmとすることを特徴とするWV系ターゲット材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板上に積層された軟磁性裏打層と、均一に配列された陽極酸化アルミナのナノホールに磁性体が充填された磁気記録層を有する垂直磁気記録媒体であって、基板と軟磁性裏打層との密着性が高い垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の垂直磁気記録媒体10は、ディスク基板11と、このディスク基板11上の軟磁性裏打層12上に形成され、ナノホール142に磁性体を充填した磁気記録層14とを有し、ディスク基板11と軟磁性裏打層12との間に、チタン又はチタン合金からなる下地層16を備える。チタン又はチタン合金からなる下地層16を設けたことにより、膜相互間の密着性が向上し、膜剥離を防止できる。 (もっと読む)


【課題】ノイズの低減及び書き込み性の向上を両立することができる垂直磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録装置を提供する。
【解決手段】多結晶強磁性層5としてFe、Co及び/又はNiを含む結晶化した強磁性層が形成されている。多結晶強磁性層5の厚さは、例えば1nm〜20nmとすることが好ましく、1nm〜5nmとすることがより好ましい。スペーサ層3の厚さは、アモルファス強磁性層2からなる下層と、アモルファス強磁性層4及び多結晶強磁性層5からなる上層との間で反平行の磁気結合が形成される厚さ(例えば0.3nm〜3nm)となっている。つまり、下層及び上層の磁化の方向が互いに反対向きとなっており、下層と上層との間に反強磁性的な結合が現れている。軟磁性裏打ち層11上に中間層6が直接形成されている。中間層6の厚さは10nm〜20nmである。中間層6として、結晶構造が六方稠密構造のRu層が形成されている。 (もっと読む)


【課題】垂直二層式磁気記録媒体用の軟磁性層をメッキ法により成膜した場合、スパイクノイズと呼ばれる孤立パルスノイズが発生し信号再生特性が大きく損なわれるという問題がある。
【解決手段】直径90mm以下の基板と、該基板の上に設けられCoとNiとFeとからなる一群から選ばれる少なくとも2つ以上の金属の合金である軟磁性膜メッキ層とを含んでなる磁気記録媒体用基板において、基板面と平行な方向における該軟磁性層の磁力飽和磁化と残留磁化の比率が4:1から4:3である磁気記録媒体用基板、この磁気記録媒体用基板を用いた磁気記録媒体等を提供する。 (もっと読む)


【課題】グラニュラー磁性層における膜表面の平坦性と磁性粒子の空間的な孤立化を両立させ、磁気特性のより一層の向上を実現することにより、高情報記録密度化に資することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも軟磁性層と配向調整層と磁気記録層とを順に備え、垂直磁気記録に用いる磁気記録媒体の製造方法であって、前記配向調整層及び前記磁気記録層のそれぞれの成膜時に直流バイアスを基板表面に印加する。 (もっと読む)


【解決手段】基板上にシリコンを含む厚さが1nm以上10nm未満のシリコン下地膜を設け、このシリコン下地膜上にN2分圧が1〜10%のN2添加雰囲気下でスパッタリング法にて成膜され、かつ200〜400℃で10〜30分間熱処理が施されたパラジウム中間層を設け、更にこのパラジウム中間層上にCoとPdをそれぞれ複数回にわたって交互に成膜することによって形成された磁化容易軸が基板に対し垂直に配向した垂直磁化膜を設けてなることを特徴とする磁気記録媒体。
【効果】本発明によれば、シリコン下地膜が10nmより薄い場合でも記録再生特性が良好である。また、本発明に係るシリコン下地膜とパラジウム中間層とから構成される下地膜は、軟磁性膜を最下層に付与した垂直二層記録媒体における中間層として有用である。 (もっと読む)


【課題】洗浄工程における磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止し、良好に洗浄することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】この実施形態に係る磁気記録媒体用基板は円板状の形状を有し、樹脂を母材としている。この基板の比重は、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きい。例えば、基板に無機材料のフィラー材を含有させて、比重を1.2以上にしたり、基板表面に金属層を形成することで、比重を1.2以上にしたりする。これにより、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。その結果、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。 (もっと読む)


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