【課題】 本発明は、同一の組成で形成される連続した２層間におけるパーティクルの付着を防止することにより、垂直磁気記録媒体の歩留まりの向上および記録再生特性の改善が可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ディスク基体１１０上に複数の層をスパッタリングによって成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法において、複数の層のうち、少なくとも２つの連続する層を、同一チャンバーにおいて同一のターゲットを用いて１つのプロセスタイム内でスパッタ条件を異ならせて成膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】さらなる信号雑音比向上を達成するために、ＲｕまたはＲｕを主成分とする合金下地層の効果を向上させる手段を提供する。
【解決手段】Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ合金からなる記録層を有し、前記記録層直下にＲｕまたはＲｕを主成分とするＲｕ合金からなるＲｕ下地層を有する長手磁気記録媒体の製造方法において、Ｒｕ下地層成膜後、前記下地層表面に窒素を暴露し、その後基板加熱処理を施した後、前記記録層を成膜することを特徴とする長手磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直記録方式に適した塗布型の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に、軟磁性粉末及び結合剤を含有する軟磁性層と、粒状の強磁性粉末及び結合剤を含有する強磁性層とをこの順で有する磁気記録媒体であって、前記強磁性層は、実質的に垂直方向に磁化容易軸を有し、前記軟磁性層は、６．４〜３９．８ｋＡ／ｍの長手方向の保磁力を有するとともに、実質的に長手方向に磁化容易軸を有し、且つ長手方向に直流消磁されている磁気記録媒体。 （もっと読む）

【解決課題】 加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかも熱伝導率が単結晶や多結晶のバルク基板と変わらない磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供する。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後の多結晶シリコン基板表面に金属膜を成膜し（Ｓ７）、シリサイド化もしくはシリコン合金化した後（Ｓ８）、該膜をＣＭＰ研磨等の精密研磨（Ｓ９）して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面を得ることができ、かつバルクＳｉ基板とほぼ同等な耐熱性と熱伝導率を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】スクラッチなどの欠点が少なく、シャープな線密度の高いテクスチャー痕跡を有するハードディスク基板のテクスチャー加工を可能とし更に、微細な研磨屑、及び砥粒片のふき取りが十分でクリーニング性が良く、スクラッチ欠点の発生を極小化できる研磨布を提供することである。
【解決手段】本発明の研磨布は平均単繊維径が０．０５〜２．０μｍのポリアミド極細集束繊維束を絡合してなる不織布と高分子弾性体とからなり該極細集束繊維の束中には実質的に高分子弾性体は存在せず、該極細集束繊維の絡合体の空隙には該高分子弾性体が充填されており、その一面には該極細集束繊維と連続した立毛が形成されてなるシート状物であって、極細単繊維径分布、圧縮弾性率、ねじれ指数、立毛長さが特定の条件を満足する研磨布とする。 （もっと読む）

【課題】ロボットの動作速度を変えず、キャリア上のホルダへの基板取付け方等を改良することにより単位時間当たりの基板移載量を増大した基板処理装置を用いることで基板の処理能力を高める。
【解決手段】基板の成膜に用いる基板移載装置は例えばインライン式成膜装置に適用される。この基板移載装置は補助真空室１７と真空室１６を備える。補助真空室１７は複数の第１基板カセットを備える。真空室１６は搬送路に沿ってキャリアが移動する真空室１０ｃに通じている。真空室１６は、ロボット２５と、ロボット２６と、これらのロボットの間に配置され、複数枚の基板が搭載可能でかつ並列に並べられた複数の第２基板カセットとが設けられている。基板１１６はセンタ孔を有する円板状の基板である。基板のセンタ孔はピックアップの動作の際に引掛け部として利用される。 （もっと読む）

【課題】２層構造のＲｕ下地層において第１の下地層の結晶粒のサイズを小さくすることで、記録層であるグラニュラ磁性層の磁性結晶粒をより微細化することのできる垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】炭化酸素を含んだ不活性ガス雰囲気においてＲｕ又はＲｕ合金を軟磁性裏打ち層１２上に堆積させることにより下部下地層１４を形成する。不活性ガス雰囲気においてＲｕ又はＲｕ合金を下部下地層１４上に堆積させることにより上部下地層１５を形成する。上部下地層１５上に、磁性結晶粒１６ａを含んだ磁性層１６を形成する。 （もっと読む）

【課題】ターゲット汚染を低減する、カルーセル式マグネトロンカソード及びスパッタ装置を提供する。
【解決手段】本発明のカルーセル式マグネトロンカソードは、所定の真空状態に保たれたチャンバ１０内にて、固定位置に設けられたデバイス１１の成膜面に、所定の薄膜を成膜するために、当該デバイスを多層に成膜するために、スパッタ粒子を放出可能なターゲットを各々が有する複数のカソード１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、複数のカソード１３ａ，１３ｂ，１３ｃを、所定の半径を有する円の円周上にそれぞれ配置するとともに、複数のカソードの各々を保持するカソード保持機構２０と、カソード保持機構２０によって保持された複数のカソード１３ａ，１３ｂ，１３ｃを、順にスパッタ粒子を放出するのに適した、当該円の中心を回転軸として回転する回転機構２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】磁性部と非磁性部との境界を磁気的に判別しやすく、磁性部の磁気特性劣化を防ぐことができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板１０上に軟磁性層１１を形成する工程と、軟磁性層１１上に磁性材料からなる記録層１４’を形成する工程と、記録層１４’上にマスクパターン２０’を形成する工程と、マスクパターン２０’上から記録層１４’に対してイオン照射を行う工程とを含んでおり、イオン照射を行う工程においては、Ｎｅイオンより重いＸｅイオンを照射する。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体において、表面平坦性の向上、特性劣化の低減を実現する。
【解決手段】記録層の上層と充填層が同一の材料からなるように作製する。 （もっと読む）

【課題】低コストで、かつ磁気特性と記録再生特性に優れ、さらなる高記録密度化が可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体の製造方法は、ＮｉＣｒ合金ターゲット又はＣｒターゲット及びＮｉターゲットを用い、スパッタ法によりシード層を形成する工程と、前記シード層の上に非磁性下地層を形成する工程と、前記非磁性下地層上に磁性層を形成する工程とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】
カーボンブラックが微細かつ均一に分散され、粗大粒子の数が少ない磁気記録媒体用塗料組成物およびそれを用いてなる表面性に優れた磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】
少なくともカーボンブラックと共に特定の構造を有するベンゾイソインドール誘導体を用いることにより、カーボンブラックの分散安定性が向上し、粗大粒子が少ない磁気記録媒体用塗料組成物が得られ、それを用いて形成した塗布層は粗大粒子個数が少なく、表面平滑性に優れるため。磁気特性、走行性、耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】電磁変換特性および耐久性に優れる磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性支持体上に、放射線硬化性化合物を含む組成物に放射線を照射することにより形成された中間層と、強磁性粉末および結合剤を含む磁性層と、をこの順に有する磁気記録媒体。前記中間層は、有機化合物で処理したシリカゾル由来のシリカ粒子を含み、前記有機化合物は、炭素数６〜３６の飽和または不飽和の炭化水素基と、リン酸基、スルホン酸基、カルボン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、およびアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも一種の基と、を有する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの基本磁気層を有する少なくとも１つの構造化されない記憶媒体を含む磁気記憶デバイスであって、前記記憶媒体は前記媒体の平面に対して垂直な磁性を有する磁気記憶デバイスに関する。本磁気記憶デバイスは、前記媒体の平面に対して垂直な磁性と前記記憶媒体の反転磁場より高い反転磁場とを有しかつ磁気エレメント（４６）が前記記憶媒体内で双極磁場を発生するように非磁性体製の減結合層（４７）により前記記憶媒体から分離される複数の磁気エレメント（４６）を備え、前記複数の磁気エレメント（４６）は非磁性領域（４１）によって互いから分離され、各磁気エレメント（４６）は書込みオペレーションの間に前記記憶媒体（４３）におけるメモリポイントを画定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、媒体ノイズを低減することを目的とする。
【解決手段】非磁性基板の上方に設けられた中間層上に記録層を構成するグラニュラ磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、Ｃｏ合金からなる複数の磁性粒子及び前記複数の磁性粒子を磁気的に分離する酸化物からなるグラニュラ磁性層をターゲットを用いたスパッタリングにより形成する工程を含み、前記ターゲットは、Ｃｏ合金と、Ｓｉ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｗ，Ｎｂの酸化物からなるグループから選択された１以上の第１の酸化物と、第２の酸化物を構成するＣｏ酸化物を含むように構成する。 （もっと読む）

【課題】高度に清浄化されたハードディスク用基板の製造を可能とする製造方法を提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有するハードディスク用基板の製造方法であって、Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有する基板を第１液中に浸漬させる工程Ｉと、中性またはアルカリ性の洗浄剤で前記基板を洗浄する工程IIIと、前記工程Ｉの後、前記
工程IIIの前に、第２液に前記基板の全表面が接するように、前記基板を前記第２液中に浸漬させる工程IIを含み、前記基板が浸漬されている時の前記第１液が酸性であり、前記基板が浸漬されている時の前記第２液のｐＨが１〜４である。 （もっと読む）

【課題】高記録密度特性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】非磁性支持体の一方の面に非磁性粉末を含有する非磁性塗料を用いて形成された非磁性層と、この非磁性層上に磁性粉末を含む磁性層とを有する磁気記録媒体の製造方法において、前記非磁性塗料が予めメディア型分散機で分散処理されるメディア分散工程を経た後に、衝突型分散機にて分散処理される衝突分散工程を経て製造されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層の磁性結晶粒子を適切に微細化する。
【解決手段】垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体１００の製造方法であって、上層の結晶方位を制御する下地層１１８を成膜する下地層成膜工程と、下地層１１８の結晶方位に応じた方向に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子３０６が非磁性物質３０８のマトリックス中に分散するグラニュラ構造の磁気記録層である主記録層１２０を成膜する磁気記録層成膜工程とを備え、下地層成膜工程は、希ガスと多原子分子ガスとの混合ガスをスパッタリングガスとして用いるスパッタリング法により、下地層１１８の少なくとも最上層部を成膜する。 （もっと読む）

【課題】基板の配向性に関わらず、磁性層の（００１）面方位への配向性を強くした磁気デバイスの製造方法を提供することにある。
【解決手段】第１ターゲットＴ１をスパッタする前に、Ａｒを用いたプラズマを基板Ｓの表面に照射し、基板Ｓの表面を洗浄した。そして、基板Ｓと第１ターゲットＴ１との間の距離が第１ターゲットＴ１から放出されるスパッタ粒子の平均自由工程よりも短くなるように成膜圧力を設定して、室温に保持される基板Ｓに、膜厚が５ｎｍ〜２０ｎｍのＭｇＯ層を形成した。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラック型の磁気記録媒体の製造において、磁性層を分離する溝内において非磁性層の隙間や膜抜けといった層の不良発生を低減する。
【解決手段】基板上に磁性層と非磁性層を互いに分離してなる磁気記録層を成膜してなる磁気記録媒体の製造方法であり、基板上に非磁性層を成膜する第１の工程と、第１の工程で成膜した非磁性層に溝を形成する第２の工程と、第２の工程で非磁性層に形成した溝内に磁性層を埋め込む第３の工程とを備える。基板上で磁気記録層を構成する磁性層は、非磁性層によって互いに分離されたパターンによって形成される。
本発明は、磁性層を非磁性層によって分離する構成の磁気記録媒体において、前工程で基板上に非磁性層を成膜し、この非磁性層に溝を形成し、後工程において、形成した溝内に磁性層を埋め込むという順序とすることによって、非磁性層の隙間や膜抜けといった不良層の発生を低減する。 （もっと読む）