【課題】簡易な手法によって、保磁力ＨｃとＯＷ特性が所望の範囲内となるように調整することが可能な垂直磁気記録媒体の製造管理方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体１００の製造管理方法の代表的な構成は、グラニュラ磁性層１６０または補助記録層１８０の膜厚を変化させることにより、これらの膜厚に対する保磁力Ｈｃとオーバーライト特性の関係を求める工程と、分断層１７０の膜厚を変化させることにより、この分断層１７０の膜厚の増加に対して保磁力Ｈｃとオーバーライト特性がいずれも低下する特定の範囲を求める工程と、当該垂直磁気記録媒体が保磁力Ｈｃとオーバーライト特性について所望の範囲内となるように、分断層１７０の膜厚を特定の範囲内で決定し、かつグラニュラ磁性層１６０または補助記録層１８０の膜厚を決定する工程と、決定されたそれぞれの膜厚でこれらの成膜を行う工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】従来の連続膜媒体の作製プロセスに近い簡便な方法を用い、磁気記録層において配向分散を抑制しつつ磁気クラスターサイズを減少させることができる下地層の分離構造を形成し、かつ下地層の薄膜化による記録性能の高性能化が可能な垂直媒体の提供。
【解決手段】非磁性基体上に少なくとも下地層および磁気記録層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であって、前記下地層は結晶粒子と非晶質結晶粒界とからなり、該結晶粒子が、（成長初期の底面積）＞（上部の面積）である形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、および保護層を順に成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法である。前記下地層は複数層からなり、このうちの少なくとも１層は酸素を１０００〜１００００ｗｔｐｐｍ含有する。そして、前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも１回加熱処理を施す。この加熱処理は、基板表面温度で８０〜２３０℃の範囲で行う。 （もっと読む）

【課題】トラック間の磁気的な相互干渉を低減し、かつ記録密度を向上させるために、複合磁気記録層に設けた凹凸形状における凸部を、連続膜で設計した垂直磁気記録層と同等の膜厚で同等の垂直磁気記録特性を示すように高品質に形成されるディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基体１上に少なくとも磁気記録層５と犠牲層とカーボン保護層６とをこの順に積層する第１工程と、記録トラックとなる凸部を形成するように同心円状に形成したレジスト膜パターンをマスクとして開口部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層６を除去して凹部を形成する第２工程と、該凹部に露出する前記犠牲層と磁気記録層５とを非磁性化する第３工程と、前記凹部に挟まれる前記凸部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層６と前記犠牲層を除去する第４工程と、前記凹部と前記凸部の上にカーボン保護層６と潤滑層７をこの順に被着する第５工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高密度記録領域における電磁変換特性が良好で、且つ生産性の高い磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体２の上に着色材料と放射線硬化性樹脂とを含む平滑化層２０を形成する工程と、平滑化層２０の上に磁性層を形成する工程とを含み、平滑化層２０を形成する工程において、支持体２と平滑化層２０とからなる磁気記録媒体前駆体５ｂの光透過率を測定することにより、平滑化層２０の厚さを制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダへの電圧印加効率の向上を図り、長期に渡って安定的に使用できる電圧印加装置を提供する。
【解決手段】電圧印加装置は、真空処理チャンバーと、真空処理チャンバ内に設けられた基板ホルダー２０と基板ホルダに電圧を印加するための給電部材１３と、給電部材の先端部に設けられた、ダイヤフラム式給電部２２と、真空処理チャンバーの外部に設けられ、かつ給電部材を可動して、ダイヤフラム式給電部を基板ホルダに接触又は非接触させる可動機構１８と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた電磁変換特性と摩擦特性とを兼ね備えた磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性支持体上に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と強磁性粉末および結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体。前記磁性層は、下記式（１）：
ＣＶ（％）＝σ／φ×１００ …（１）
[σ：粒径の標準偏差、φ：平均粒径（μｍ）]
で表される粒度分布の変動係数ＣＶが２０％未満である非磁性粉末を含み、前記磁性層の厚さｔ（μｍ）は、０．１μｍ以下であり、かつ１．１≦φ／ｔ≦８．０の範囲にある。強磁性粉末、結合剤および上記式（１）で表される粒度分布の変動係数ＣＶが２０％未満である非磁性粉末を含む磁性層形成用塗布液を用いて磁性層を形成する、前記磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 強磁性層における磁性結晶粒子を適切に微細化する。
【解決手段】 垂直磁気記録に用いる磁気ディスク１０であって、基体１２と、下地層１８と、グラニュラー構造の微細化促進層２０（非磁性グラニュラー層）と、グラニュラー構造の強磁性層３２を有する磁気記録層２２とを備え、微細化促進層２０は、無機酸化物のマトリックスと、非磁性の金属結晶粒子とを有し、強磁性層３２は、無機酸化物のマトリックスと、金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子とを有する。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブ磁気媒体用の部分酸化キャップ層を提供する。
【解決手段】部分酸化キャップ層を有する垂直磁気記録媒体は、第２酸化物層を第１キャップ層と結合して単一の部分酸化キャップを形成する。部分酸化層の酸化部分および非酸化部分は、同じターゲットからスパッタリングされ、金属元素の組成が同じである。酸化部分のＭｓは非酸化部分の約２倍である。酸化部分は、厚さが約５〜２５Åの範囲である。層組成はＣｏＰｔＣｒＢＴａを含むことができ、Ｃｒのａｔ％は約１８〜２４％、Ｐｔは約１３〜２０％、Ｂは約４〜１０％、Ｔａが約０〜２％である。 （もっと読む）

【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Ａｌ_２Ｏ_３基板２０上に非晶質炭素材料のＤＬＣから成る被エッチング層２１を形成する第１の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層２１上に薄膜パターン２２を形成する第２の工程と、薄膜パターン２２をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層２１をエッチングし、複数のナノ凸パターン２００が形成された成型転写面を形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体における磁気記録面の摩擦係数の上昇を抑制する。
【解決手段】長尺状の非磁性支持体１の一主面上に、ウェット・オン・ドライ方式またはウェット・オン・ウェット方式により非磁性層２と磁性層３とが形成される。磁気記録媒体をウェット・オン・ドライ方式により作製した場合には、磁性層３に含まれる導電性粒子の直径を磁性層３の平均厚みの３倍以上５倍以下とする。磁気記録媒体をウェット・オン・ウェット方式により作製した場合には、磁性層３に含まれる導電性粒子の直径を磁性層３の平均厚みの１．３倍以上３倍以下とする。 （もっと読む）

【課題】キャリアとベアリングとの耐摩耗性を向上させることによって、生産性の更なる向上を可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア４に保持された基板Ｗを複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置であって、キャリア４を非接触状態で駆動する駆動機構２０と、駆動機構２０により駆動されるキャリア４をガイドするガイド機構２１とを備え、ガイド機構２１は、キャリア４に設けられたガイドレール２９に係合された状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を鉛直方向にガイドする主ベアリング２８と、キャリア４を挟み込んだ状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を水平方向にガイドする副ベアリング３０とを有して、これらベアリング２８，３０とキャリア４との何れかの接触面に、コルモノイ系合金による耐摩耗処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢを利用し、しかも内周から外周にわたり均一でしかも効率よく配列することが可能なＡＮＨを用いた磁気記録媒体の作製方法を提供する。
【解決手段】円板状の非磁性体基板上に少なくとも中間層を形成し、中間層の上にアルミニウム層を形成する工程と、収束イオンビームを照射してアルミニウム層表面に同心円状の複数の微小溝を設ける工程と、前記アルミニウム層を陽極酸化することによりアルミニウム層をアルミナ層に変換させると同時にアルミナ層に複数のナノホールを形成し、中間層を露出させる工程と、ナノホール内の露出した中間層の上に磁性体金属を選択的に堆積し、複数の磁性体記録要素を有する磁気記録層を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電磁変換特性が高く、かつ、耐腐食性が高い磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】非磁性基板１の一面１ａ上に、軟磁性下地層２と、直上の層の配向性を制御する配向制御層３と、非磁性下地層８と、一面１ａに対して主に垂直に配向された磁化容易軸を有する垂直磁性層４と、保護層５とがこの順序で積層された磁気記録媒体であって、垂直磁性層４は２層以上の磁性層４５、４６を備えており、磁性層４５、４６のうち最も保護層５の磁性層４６に非磁性材料が分散された分散領域４８が設けられており、前記非磁性材料の濃度が保護層５側から非磁性基板１側に向けて少なくされている磁気記録媒体５０を用いることにより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録特性と耐食性に優れたディスクリートトラック媒体およびパターンド媒体を実現する。
【解決手段】基板上の凹凸パターンの凸部に形成された磁性体領域と、前記凹凸パターンの凹部に埋め込まれた充填体領域とを有する磁気記録層を備え、前記磁性体領域と前記充填体領域との間に、コバルトまたはコバルト合金に対して腐食抑制作用を示す有機物で構成される層が存在している。 （もっと読む）

【課題】キャリアを高速で搬送することができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜処理を行う複数のチャンバ２と、複数のチャンバ２内で成膜対象となる基板を保持するキャリア４と、キャリア４を複数のチャンバ２の間で順次搬送させる搬送機構５とを備え、搬送機構５は、キャリア４の下部側に並んで配置された複数の永久磁石２２と、複数の永久磁石２２に対向してキャリア４の搬送方向に並んで配置された複数の電磁石２３とを有して、電磁石２３に電力を供給することによって、この電磁石２３と永久磁石２２とを磁気的に結合させながら、キャリア４を非接触状態で駆動する駆動機構２０を備える。 （もっと読む）

【課題】よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に少なくとも軟磁性層と中間層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、中間層を連続するＮ層（但しＮは少なくとも３以上の整数）で構成し、まずＲｕを主成分とする１層目の成膜を行い、次いで、成膜時のガス圧を１層目より高く又は同一に設定して、Ｒｕもしくは酸素又は酸化物を含有させたＲｕを主成分とする２層目の成膜を行い、２層目以降は上層へいくほど酸素含有量が同一又は増加するように調整する。 （もっと読む）

【課題】インライン方式の成膜装置において、各層を成膜する間の時間に、チャンバー内で各層の表面が劣化（酸化）する。各層にダメージを与えることなく生じた劣化を解消し、効果的に性質を向上させることが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供。
【解決手段】基板上に複数の層を積層してなる磁気記録媒体の製造方法において、成膜装置を用いて、基板上に複数の層のいずれかを成膜し、成膜を行わずに基板にバイアスを印加し、基板上に次の層を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 非磁性層と軟磁性層の境界面の粗さを低減することで結晶配向性を向上し、かつ非磁性層と下地層の原子間隔のマッチングを向上させることにより、ＳＮＲを向上し、ひいては更なる高記録密度化の達成が可能な垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体の構成は、基体上に、磁気記録層と、磁気記録層より下に設けられＲｕまたはＲｕ化合物からなる下地層と、下地層の下に設けられ非磁性材料からなり下地層の結晶配向性を制御するための非磁性層と、軟磁性層とを備える垂直磁気記録媒体において、非磁性層は、軟磁性層の上に設けられる第１非磁性層１１６ａと、第１非磁性層の上に設けられる第２非磁性層１１６ｂとから構成され、第１非磁性層は非晶質のＮｉ化合物からなり、第２非磁性層は結晶質のＮｉまたはＮｉ化合物からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板１の上に、軟磁性下地層２と、直上の層の配向性を制御する配向制御層３と、磁化容易軸が前記非磁性基板１に対して主に垂直に配向した垂直磁性層４とを積層してなる磁気記録媒体の製造方法であって、垂直磁性層４を２層以上の磁性層４ａ，４ｂ，４ｃから構成し、各磁性層４ａ，４ｂ，４ｃを構成する結晶粒子が配向制御層３を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を形成するように各層を結晶成長させる際に、配向制御層３をスパッタリング法で形成し、スパッタリングガスとしてＫｒ又はＸｅを用い、このスパッタリングガスの圧力を５Ｐａ以下とする。 （もっと読む）