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Fターム[5D112AA03]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の構造、形状、物性 (7,034) | 磁気記録媒体の層 (3,714) | 基体と記録層間の層(アンダコート) (388)

Fターム[5D112AA03]に分類される特許

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【課題】 Ni系合金とその上層のRu層との格子整合を向上させた磁気記録媒体のシード層用合金およびそれを使用したスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Ni系合金であって、Sn,In,Ga,Ge,Siの1種又は2種以上をat.%で0.5〜20%含有し、残部がNiからなる垂直磁気記録媒体におけることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。上記のNi系合金にW,Ta,Mo,Cr,Nb,Vの1種又は2種以上を0.5〜20%含有させたことを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。 (もっと読む)


【課題】 基板ホルダー周りに被エッチング膜の付着することによるエッチングレートの低下を防止する。
【解決手段】 基板ホルダーに搭載された基板に対し各処理を行って磁気記録媒体を製造する装置において、基板を搭載しない状態の前記基板ホルダーに第1の膜を成膜するホルダー成膜室と、前記第1の膜が成膜された前記基板ホルダーに基板を搭載する基板搭載室と、磁性膜層を含む多層膜上に所定パターンのレジスト層が形成された基板に対し、ドライエッチング処理を行い、前記磁性膜層を前記所定パターンに基づく形状に加工する加工室と、を有し、前記第1の膜は、前記ドライエッチング処理により除去される前記多層膜中の膜よりもエッチングされにくい膜であり、前記加工室、ホルダー成膜室及び基板搭載室は、大気より減圧条件下で基板ホルダーを搬送可能に接続されている。 (もっと読む)


【課題】DCスパッタ法を用いて、MgO膜を有する磁気記録媒体を高い生産性で製造することができ、同時にMgO膜の酸素欠損を抑制して高い結晶性を有するMgO下地層を与える方法の提供。
【解決手段】酸素含有ガス中でMgおよびMgOを含むターゲットを用いる反応性DCスパッタ法によって、非磁性基体にMgOからなる中間層を形成する工程と、中間層の上に、L10系規則合金を含む磁気記録層を形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】多数のステーションを有する磁気ディスク等の基板を処理するフートプリントの小さいシステムを提供する。
【解決手段】それぞれの上部に処理チャンバが積層され、さまざまなサイズのディスクを取るように調節可能なディスクキャリア上でディスクがシステムを通じて移動するところのディスク処理及び製造装置が記述されている。ディスクはロードゾーンを通じてシステムに進入し、その後ディスクキャリア内に装着される。ディスクはキャリア内にあって、ひとつのレベルで、処理チャンバを通じて連続的に移動し、その後、リフトまたはエレベータにより他のレベルへ移動する。他のレベルにおいて、再びディスクはシステムを通じて連続的に移動し、その後アンロードゾーンで出力される。 (もっと読む)


【課題】凹凸形状が形成された基板を作製する。
【解決手段】高周波電源21から、基板16及び基板ホルダ12の少なくとも一方に対して高周波電圧を印加する。供給材料膜15から基板16へ供給材料を供給し、基板表面の下地材料上に供給材料による凸部を形成する。供給材料膜15は、基板16の表面へ供給材料を直接入射させることができない位置に配置されている。基板16の表面の下地材料の常温における表面エネルギーγsubと、供給材料の融点における表面エネルギーγspとは、γsub−γsp>0の関係にある。 (もっと読む)


【課題】多孔質基材の質感を生かしつつ、磁気記録媒体層の磁気特性を良好に保つことが可能な磁気カードを提供すること。
【解決手段】カード基材に磁気記録媒体層を配置した磁気カードであって、 カード基材は、磁気記録媒体層配置面の磁気記録媒体層配置領域以外の少なくとも一部の領域において凹凸面が露出した多孔質基材が用いられており、磁気記録媒体層と多孔質基材との間に、少なくとも多孔質基材表面の磁気記録媒体層配置領域を覆い、該多孔質基材に一部が含浸した平坦化層が積層されていることを特徴とする磁気カードとする。 (もっと読む)


【課題】1平方センチあたり1テラビット以上の面記録密度を実現するのに十分な垂直磁気異方性エネルギーと結晶粒径を有し、量産性に優れた垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上に基板温度制御層2、下地層3、磁気記録層4を順次形成する。磁気記録層は、基板を加熱チャンバで加熱する第1工程と、C,Si酸化物からなる群から選ばれた少なくとも一種の非磁性材料を添加したFePtを主とする合金からなる磁気記録層を製膜チャンバで製膜する第2工程とからなる磁性層積層工程をN回(N≧2)繰り返して形成する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、スパッタリングにより薄膜を形成するために用いられる化合物の生成を抑制したCrTi系合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 Tiを35〜65原子%含み、残部Crおよび不可避的不純物かなるCrTi系合金において、Cr(110)のX線回折強度[I(Cr)]とCr2 Ti(311)のX線回折強度[I(Cr2 Ti)]の強度比が[I(Cr2 Ti)/I(Cr)]が0.50以下であるCrTi系合金およびCrTi系スパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】電磁変換特性に優れると共に耐久性にも優れる磁気テープを提供する。
【解決手段】非磁性支持体と、前記非磁性支持体の一方の面上の磁性層とを少なくとも有する磁気テープであって、
前記磁性層は、強磁性粉末、及び結合剤を少なくとも含み、
前記磁性層表面には、磁気テープの長手方向に略平行に伸びた複数の凹状溝が形成され、前記凹状溝の深さは1nm以上10nm以下である磁気テープ。互いに隣り合う前記凹状溝同士の間隔は、100nm以上1000nm以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】DTメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にDTメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 (もっと読む)


【課題】優れた記録再生特性と長期保存特性とを有し、高記録密度の磁気記録テープを提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録テープは、非磁性基板と、前記非磁性基板の上に形成された非磁性下地層と、前記非磁性下地層の上に形成された多層構造軟磁性層と、前記多層構造軟磁性層の上に形成された非磁性中間層と、前記非磁性中間層の上に形成されたグラニュラ磁性層と、前記グラニュラ磁性層の上に形成された保護層とを含み、前記非磁性下地層、前記多層構造軟磁性層、前記非磁性中間層、前記グラニュラ磁性層及び前記保護層は、対向ターゲット式スパッタリング法によって形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電気磁気変換特性を向上させ、よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記下地層は、スパッタリング成膜により形成され、成膜時のガス圧が低ガス圧にて成膜される低ガス圧成膜層と、成膜時のガス圧が高ガス圧にて成膜される高ガス圧成膜層からなる。そして、前記高ガス圧成膜層は、成膜レートを段階的に低下させた多層成膜により形成する。 (もっと読む)


【課題】結晶配向性の向上と結晶粒径の微細化とを両立でき、高記録密度化及び高SN比を達成できる垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の垂直磁気記録媒体100は、基板100と、基板100上に設けられた第一下地層150aと、第一下地層150a上に設けられた第二下地層150bと、第二下地層150b上に設けられ、グラニュラー構造を有する磁性材料を含有する主記録層160とを含む積層膜を有する垂直磁気記録媒体100であって、主記録層160を構成する磁性材料がCoCrPt合金を含有し、第二下地層150bを構成する材料がRu−Co酸化物合金を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 スパッタリング時にパーティクル発生を抑制可能なCr−Ti合金ターゲット材を提供することである。
【解決手段】 Tiを40〜60原子%含有し、残部Crおよび不可避的不純物からなるCr−Ti合金ターゲット材であって、スパッタ面のX線回折におけるCr相の(110)面の回折ピーク強度をA、TiCl化合物相の(311)面の回折ピーク強度をBとするとき、相対強度比B/Aが10%以下であるCr−Ti合金ターゲット材である。 (もっと読む)


【課題】高いSNRを確保しつつ信頼性を向上することが可能な垂直磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスクの製造方法の構成は、基板上に、第1の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第1下地層を成膜する第1下地層成膜工程と、第1の圧力より高い第2の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第2下地層を成膜する第2下地層成膜工程と、第1の圧力より高く且つ第2の圧力よりも低い第3の圧力の雰囲気ガス下で、RuまたはRu合金を主成分とし酸化物を副成分とする第3下地層を成膜する第3下地層成膜工程と、第3下地層より上層に、柱状に成長したCoCrPt合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】支持体の巻き状態の積層変形に応じた塗布厚分布を適用して積層変形が抑制された塗布済み原反を得ることによって表面平坦性に優れる磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】背面を支持しない状態で走行させている非磁性支持体100に対して押し出し型の塗布ヘッド11を相対的に押しつけ、非磁性支持体100に対して塗布ヘッド11のスリット11aから塗料200を押し出して塗布する塗布工程を有し、塗布工程において、塗布ヘッド11の上流側で非磁性支持体100の幅方向の張力を調整しつつ塗料200を塗布する。 (もっと読む)


【課題】長期にわたり優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性支持体上に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と強磁性粉末および結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体。前記磁性層の結合剤は、塩化ビニル系共重合体、ポリウレタン樹脂およびポリイソシアネートの混合物であり、該ポリウレタン樹脂は、ガラス転移温度が90〜130℃の範囲であり80℃における貯蔵弾性率が2.5〜5.0GPaの範囲であり、前記非磁性層は、非磁性粉末および結合剤成分を含む放射線硬化性組成物を放射線硬化することによって得られた放射線硬化層であって、該結合剤成分は放射線硬化性塩化ビニル系共重合体および放射線硬化性ポリウレタン樹脂を含み、かつ前記放射線硬化性塩化ビニル系共重合体および放射線硬化性ポリウレタン樹脂は、いずれもガラス転移温度が30〜100℃の範囲である。 (もっと読む)


【課題】縦じわ状の発生および磁性層の凹みの発生を抑制して原反の品質の安定化を実現すると共に原反の長尺巻取りによる生産効率の向上を実現する。
【解決手段】下層非磁性層形成工程と、上層磁性層形成工程と、バックコート層形成工程と、各層が形成された原反を巻き取る第1巻き取り工程と、原反に熱硬化処理を行う熱硬化工程と、原反に対してカレンダー加工を行うカレンダー工程と、カレンダー加工後の原反を巻き取る第2巻き取り工程とを含み、第1巻き取り工程において巻き取った原反の中央部の厚みが端部の厚みよりも10000ターン当たり0.25mm以上0.35mm以下の範囲内で厚くなるように(原反累積形状値がこの範囲内となるように)各層を形成し、第2巻き取り工程において巻き取った原反の中央部の厚みが端部の厚みよりも10000ターン当たり0.2mm以上0.3mm以下の範囲内で厚くなるようにカレンダー処理を実行する。 (もっと読む)


【課題】表面平滑性に非常に優れる磁性層を有し、電磁変換特性およびサーボ特性に優れる磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】非磁性支持体の一方の面上に、非磁性層用塗料を塗布して乾燥した後に、硬化させて下層非磁性層を形成する工程と、下層非磁性層上に、磁性層用塗料を塗布した後に乾燥して、上層磁性層を形成する工程と、非磁性支持体の他方の面上に、バックコート層用塗料を塗布した後に乾燥して、バックコート層を形成する工程とを含み、バックコート層を形成する工程において、バックコート層用塗料を非磁性支持体の他方の面上に過剰供給した後に、外周面に規則的な突起が形成されてtv値が乾燥後のバックコート層の厚みの0倍を超え37倍以下の範囲内である略円柱状のバーを非磁性支持体に押し付けて、バックコート層用塗料を計量することによって塗布し、その後に乾燥して、バックコート層を形成する。 (もっと読む)


【課題】表面平滑性に非常に優れる磁性層を有し、電磁変換特性に優れる磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】非磁性支持体の一方の面上に、非磁性層用塗布液を塗布して乾燥し、放射線の照射により硬化させて、カレンダー処理が未実施の状態の下層非磁性層を形成する工程と、カレンダー処理が未実施の状態の下層非磁性層上に、磁性層用塗布液を塗布して乾燥し、硬化処理およびカレンダー処理が未実施の状態の上層磁性層を形成する工程と、非磁性支持体の他方の面上に、バックコート層用塗布液を塗布して乾燥し、硬化処理およびカレンダー処理が未実施の状態のバックコート層を形成する工程と、各工程を実行して下層非磁性層、上層磁性層およびバックコート層を形成した後に、各層に対して熱硬化処理を実行する工程と、熱硬化処理の実行後にカレンダー処理を実行する工程とを含んでいる。 (もっと読む)


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