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Fターム[5D112AA24]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の構造、形状、物性 (7,034) | 磁気記録媒体及び支持体の形状 (2,070) | ディスク(ハード、フレキシブル) (1,860)

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【課題】垂直磁気記録媒体を用いた磁気ディスク装置のデータ読み出し時間(データ転送時間)を短縮し、I/O性能を高める。
【解決手段】磁気ディスクの全面に対して垂直方向の磁界をかけて、磁気ディスクを回転させて磁気ヘッドを磁気ディスクにロードし、磁気ディスクから信号を再生し、再生された信号を波形解析器によって処理し、平均出力の1/2の閾値でサーボビット長の0.9倍以上のパルス波形をカウントして、磁気ディスク装置のI/O性能に影響を与える磁気ディスク上の欠損密度を測定し、所定の研磨条件に基づいて、磁気ディスク上における所定の欠損密度以下に抑える。 (もっと読む)


【課題】高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体の製造方法、およびその磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも裏打ち層と下地膜と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記垂直磁気記録膜を少なくともCoとPtと酸化物を含むグラニュラー構造からなる膜で形成し、該垂直磁気記録膜を基板温度100℃以上170℃以下の所定の温度範囲に設定した条件でスパッタリング法を用いて形成する。 (もっと読む)


【課題】打抜き後の過程で基板外縁部から脱落するバリ屑等の製品への影響を排除した各円形基板,その加工方法及び加工装置を提供すること。
【解決手段】 円形基板は、打抜かれた基板であって、外縁部のバリが当該基板上より除去されていることを特徴とする。加工方法は、打抜かれた基板の外縁部にバリ取り加工を施す工程と、当該バリ取り加工により発生したバリ屑を当該基板上より除去する工程とを含む。加工装置は、打抜き後の基板の外縁部が転接されるガイド部材を備えたバリ取り手段と、前記基板上に付着したバリ屑を除去するバリ屑除去手段とを設け、前記ガイド部材の基板外縁部との転接部長さは当該基板が一回以上な移転するのに十分長さであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 二次元的に広がった均質なナノ構造を有するナノ構造体および安価で簡便なプロセスによって行うことができるナノ構造体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 親水性セグメントおよび疎水性セグメントを有する両親媒性ブロックコポリマーと、前記疎水性セグメントと相溶性を有する低分子化合物とを含有する混合溶液を水面に展開して単分子膜を得る。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式において、トラック密度を増加させた場合に記録トラック部とガードバンド部の幅が小さくなっても、ガードバンド部の加工が容易で、高記録密度記録を実現できる垂直磁気記録媒体及び、磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも軟磁性裏打ち層および磁気記録層とを有する垂直磁気記録媒体において、前記磁気記録層は少なくともCoとPtと酸化物を含むグラニュラー構造からなり、かつ同心円状の記録トラック部と、互いに隣接する前記トラック部間の非磁性材料からなるガードバンド部からなり、磁気記録層の厚さ(t)が6nm以上18nm以下で、トラックピッチが130nm以下、記録トラック部の幅(D)が50nm以上、ガードバンド部の幅(d)と磁気記録層の厚さ(t)の比d/tが5/2以上である垂直磁気記録媒体とする。 (もっと読む)


【課題】 媒体S/Nが高く、かつ耐食性に優れた媒体を実現する。
【解決手段】 基板11上に少なくとも軟磁性層13、シード層14、中間層15、磁気記録層16、保護層17が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体において、磁気記録層をCoCrPt合金からなる多数の柱状粒子と酸化物を含む粒界層によって構成されたグラニュラ構造とし、シード層をTaNi合金又はTaTi合金で構成し、中間層をRuあるいはRuを80at.%以上含有したRu合金によって構成する。 (もっと読む)


【課題】 転写用原盤基板の型の製造方法において、転写用原盤基板の型からの剥離性と、転写用原盤の被転写体への転写精度の両立を図ると共に、平坦基板のエッチング工程におけるエッチング精度/エッチング効率/形成されるパターンの精細化のバランスを図る。
【解決手段】 平坦基板20へのレジスト31の塗布、露光及び現像を実施して、レジストパターンRを形成する工程(A)と、レジストパターンRをマスクとして平坦基板20をエッチングし、エッチング部分を凹部21とする、転写する信号パターンに応じた表面凹凸パターンP1と補完的な反転パターンP2を形成する工程(B)とを順次実施し、かつ、工程(B)を、凹部21の壁角度αを60〜90°とし、平坦基板20のエッチング深さE1とレジストパターンRのエッチング深さE2の比を0.5以上として、実施する。 (もっと読む)


第1下地結晶層(33)は相互に隣接する結晶粒で構成される。第2下地結晶層(34)は、第1下地結晶層(33)よりも大きな膜厚で第1下地結晶層(33)の表面に広がる。第2下地結晶層(34)は、第1下地結晶層(33)の個々の結晶粒から成長する結晶粒で構成される。第1および第2下地結晶層(33、35)では微細で均一な結晶粒が確立される。しかも、第1および第2下地結晶層(33、35)には十分な膜厚が確保されることができる。同様に、第1および第2磁性結晶層(35、36)では微細で均一な結晶粒が確立される。しかも、第1および第2磁性結晶層(35、36)には十分な膜厚が確保されることができる。
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【課題】工作物を3次元空間で自由に移送できる工作物真空処理用の移送装置及び処理方法を提供する。
【解決手段】ディスク状の工作物を、その製造の間に一次的に真空雰囲気内で移送するためのチャンバ1は、工作物22と、軸を中心に回転可能な多数の工作物収容部20とを通過させる少なくとも2つの開口部4、6を備える。チャンバ1内には、開口部4に整合され、回転可能な工作物収容部20から独立して軸承される移送機構30bが配置される。移送機構30bは、径方向に制御されて引出し又は引き戻し可能であり、開口部領域において工作物に作用する。チャンバ2は、少なくとも1つの工作物収容部52を備える。工作物収容部52は、移送機構46に配置される。移送機構46は全体として軸A44を中心に回転駆動され、かつ直線状に引出し又は引き戻される。 (もっと読む)


【課題】化学量論的に良好なカーバイド又は炭素含有のマスター合金スパッタターゲット材料を提供すること。
【解決手段】スパッタターゲット材料は、Cr-C、Cr-M-C又はCr-M1-M2-Cからなる合金系を含有してなり、Cは、0.5〜20at%を含み、Mは、0.5〜20at%を含み、かつTi、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及びWの群から選ばれた元素とし、またM1は、0.5〜20at%を含み、かつTi、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及びWの群から選ばれた元素とし、更にM2は、0.5〜10at%を含み、Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y及びTeの群から選択した元素とする。他方、基板及び上記のスパッタターゲット材料からなる少なくとも1つの下層を含む磁気記録媒体とすることができる。スパッタターゲット材料を製造する方法は、クロム合金やカーバイド又は炭素含有のマスター合金を含む元素の組み合わせからなる粉体材料を用いる。 (もっと読む)


中心に軸孔が形成された円板状の記録媒体1をチャンバー10内に挿入して、この記録媒体1を磁場中で熱処理を行うための磁場中熱処理装置であって、チャンバー内に磁場を形成するための磁気回路が設けられ、この磁気回路は、軸孔の軸方向に沿って距離をおいて配置され、磁場の向きが対向する一対の磁石4,5と、この一対の磁石4,5の間に配置される第1強磁性体6とを備え、一対の磁石4,5が向かい合う中間位置に、軸孔に第1強磁性体6が挿通された状態で処理対象である記録媒体1が配置されるように構成した。好ましくは、記録媒体1の周囲にリング状の第2強磁性体7を配置する。
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【課題】高トラック密度でありながら記録トラック間のクロストラックイレージャを低減させることにより、高面記録密度の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】表面が平坦な非磁性基板上に高保磁力の記録層を形成した磁気記録媒体において、スピンドル上で媒体を一定速度で回転させ、スポットサイズ500nm以下のレーザーを前記磁気記録媒体の表面に照射し、局所的にアニールする。レーザーの照射停止後、アニールした領域の膜が構造変化し、保磁力が低下する。このようにレーザー照射により形成したデータトラックを同心円状に多数形成する。1つのデータトラックの幅はレーザー照射領域内の高温部の幅にまで狭めることができるほか、データトラックと隣接するデータトラックを磁気的に分離し、ディスクリートトラックを形成することができるため、記録時のクロストラックイレージャの低減を図ることができる。 (もっと読む)


複合材(39)は非磁性の基体(41)を備える。基体(41)の表面には微小ホール(42)が穿たれる。微小ホール(42)内には磁性の微小粒子(43)が配置される。こうした複合材(39)では、微小粒子(43)は微小ホール(42)内に確実に配置されることができる。しかも、微小ホール(42)の位置は規則的に制御されることができる。こうした微小ホール(42)に基づき微小粒子(43)は規則的に配置されることができる。
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【課題】研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、且つ高密度化において重要となるナノスクラッチを顕著に低減することができる研磨液組成物を経済的に製造できる方法を提供すること。
【解決手段】以下の精製工程を有する研磨液組成物の製造方法であって、工程1におけるフィルター入口圧力の変動幅が50kPa以下である研磨液組成物の製造方法:(工程1)精製前研磨液組成物をデプス型フィルターで濾過し中間濾過物を得る工程、及び(工程2)中間濾過物をプリーツ型フィルターで濾過し研磨液組成物を得る工程。 (もっと読む)


【課題】 磁気ヘッドが同一トラックを繰り返し走行しても優れた耐久性を発現するフレキシブル磁気ディスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】 (1)非磁性支持体の少なくとも一方の面に、真空成膜法により磁性層および保護層を形成する工程と、(2)前記(1)工程により得られた原反の表面をラッピングテープ処理する工程と、(3)前記(2)工程後、前記原反を所定のディスクサイズに打ち抜く工程とを有することを特徴とするフレキシブル磁気ディスクの製造方法。 (もっと読む)


磁気記録媒体は、基板と、基板上に形成された下部電極層と、下部電極層上に形成された陽極酸化アルミナ膜(13)と、陽極酸化アルミナ膜(13)の上部表面及び細孔(14)の内壁に形成された炭素層(15)と、細孔(14)の炭素層(15)を介して内部に形成された磁性粒子(16)と、炭素層(15)及び磁性粒子(16)の表面に形成された潤滑層などから構成される。炭素層(15)により陽極酸化アルミナ膜(13)の表面及び細孔(14)の内壁を覆うことにより、陽極酸化アルミナ膜(13)を保護して、耐蝕性及び耐久性に優れた磁気記録媒体を実現する。
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【課題】 基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にするこ
とによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】 情報記録媒体用基板は、微小うねりの周期が2μm〜4mmであって、この微小うねりの最大高さをwa(95%PV値)とし、原子間力顕微鏡によって測定した最大高さをRmaxとしたとき、該基板主表面のwaが5nm以下、Rmaxが12nm以下であることを特徴とする。但し、waは、測定エリアにおいて全測定ポイントにおける測定曲線の最高点と最低点の高さの差の値とする。 (もっと読む)


【課題】 転写用原盤基板の型の製造方法において、転写用原盤と被転写体との密着性を高めることを可能とする。
【解決手段】 被転写体の表面に所定の信号パターンを磁気転写するために使用され、転写用原盤基板の上に少なくとも磁性層が積層された構造を有し、信号パターンに応じた表面凹凸パターンを有する複数の信号転写領域と、隣接する該信号転写領域の間に位置し、表面凹凸パターンを有しない非信号転写領域とを有する転写用原盤の転写用原盤基板を成形する型の製造方法において、信号転写領域に対応する領域21に、信号パターンに応じた表面凹凸パターンと補完的な反転パターンP3を有する表面凹凸基板50を調製する工程(A)と、表面凹凸基板50の非信号転写領域に対応する領域31に、信号パターンに応じた表面凹凸パターンの凸部の高さより大きい厚さの金属マスク52を密着固定する工程(B)とを順次実施する。 (もっと読む)


【課題】 任意角度をもった所定の細線パターンについて、そのパターン領域内を高精細に露光することのできる可変矩形型電子ビーム露光装置を得る。
【解決手段】 複数の矩形アパーチャ(11、12)をそれぞれ異なる角度で配置した第1スリット部材(10)と、第1スリット部材の各矩形アパーチャとそれぞれ対応する平行な位置関係の複数の矩形アパーチャ(21、22)を配置したで第2スリット部材(20)と、第1スリット部材の一方のアパーチャを透過した電子ビームが第2スリット部材の対応するアパーチャを透過する際は、他のアパーチャを透過した電子ビームが遮断されるように、第1スリット部材の複数のアパーチャを透過した電子ビームを偏向させる偏向部材(40)と、を具備し、角度の異なる矩形ビーム(31、32)を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】マスターディスクより塵埃や繊維くず等の異物を容易に除去でき、マスターディスクの寿命を飛躍的に向上させることができ、密着転写作業の生産性を向上させることができる磁気転写方法、装置及びマスターディスクのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】一対のホルダ部22によって保持された一対のマスターディスクの間に被転写用の磁気ディスク46を供給し、被転写用の磁気ディスクの両面にマスターディスクをそれぞれ圧接させ、圧接された被転写用の磁気ディスクとマスターディスクとに磁界を加えて一対のマスターディスク上の磁気パターンをそれぞれ被転写用の磁気ディスクの両面に転写させる磁気転写に使用されるマスターディスクのクリーニング方法。マスターディスク表面の汚染状態を検査する検査工程と、検査工程において検出されたマスターディスク表面の汚染箇所を選択的にクリーニングするクリーニング工程とを具備する。 (もっと読む)


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